JP6178298B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
まず、図1、図2及び図3を参照して、本実施形態に係る基板処理システム1の概要を説明する。図1に示されるように、基板処理システム1は、塗布・現像装置2と露光装置3とを備える。露光装置3は、レジスト膜(感光性被膜)の露光処理を行う。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分にエネルギー線を照射する。
(全体構成)
続いて、液処理装置の一例として、塗布ユニットU1の構成について詳細に説明する。図4に示されるように、塗布ユニットU1は、回転保持部20と、カップ25と、供給部30と、制御部100とを備える。
図5に示されるように、供給管50は、内管52と、外管54と、封止部56とを有している。内管52は、供給管50の内周面50aをなす。外管54は、供給管50の外周面50bをなし、空隙58をもって内管52を包囲している。外管54と内管52とは互いに同軸となるように設けられている。このように、供給管50は二重管構造となっている。封止部56は、内管52の先端部と外管54の先端部との間を全周に亘って封止している。これにより、空隙58が処理液Rから隔離される。供給管50のうち、少なくとも内管52と外管54は、容器40に比べ光信号の透過性が高い材料により構成されていてもよい。
図4に戻り、制御部100について説明する。制御部100は、本体部100Aと、表示部100Bとを有する。本体部100Aは、塗布ユニットU1を用いた処理を実行するための構成要素として、搬送制御部110と、塗布制御部120と、第一検出部130と、第二検出部140と、表示制御部150とを有する。
次に、液処理方法の一例として、塗布ユニットU1による処理液Rの塗布手順につて説明する。
Claims (9)
- 基板処理用の処理液を収容するための容器に挿入され、前記処理液の供給用の管路をなす供給管と、
前記供給管の外周面と内周面との間に設けられ、前記容器内における前記処理液の液面の高さに関する情報を検出する第一センサと、
前記外周面と前記内周面との間に設けられ、前記内周面の内側における前記処理液の有無を検出する第二センサと、を備える液処理装置。 - 基板処理用の処理液を収容するための容器に挿入され、前記処理液の供給用の管路をなす供給管と、
前記供給管の外周面と内周面との間に設けられ、前記容器内における前記処理液の液面の高さに関する情報を検出する第一センサと、を備え、
前記供給管は、前記内周面をなす内管と、空隙をもって前記内管を包囲し、前記外周面をなす外管と、を有し、
前記第一センサは、前記外管と前記内管との間に設けられる、液処理装置。 - 前記第一センサは、前記外周面の外側における前記処理液の液面の高さに関する情報を検出する、請求項1又は2に記載の液処理装置。
- 前記第一センサは、前記処理液の液面の高さに関する情報として前記処理液の有無を検出する、請求項1〜3の何れか一項に記載の液処理装置。
- 前記供給管の長手方向に沿って配置された複数の前記第一センサを備える、請求項1〜4の何れか一項に記載の液処理装置。
- 前記第一センサは光信号を用いる光学式センサであり、
前記供給管は、前記容器に比べ、前記光信号の透過性が高い、請求項1〜5の何れか一項に記載の液処理装置。 - 前記容器に対する前記供給管の挿入長を調節可能な調節機構を更に備え、
前記第一センサは、前記供給管において前記挿入長の調節に伴って移動する部分に設けられている、
請求項1〜6の何れか一項に記載の液処理装置。 - 基板処理用の処理液を収容するための容器に挿入され、前記処理液の供給用の管路をなす供給管を用いて前記処理液を供給すること、
前記供給管の外周面と内周面との間に設けられた第一センサを用いて前記処理液の液面の高さに関する情報を検出すること、
前記外周面と前記内周面との間に設けられた第二センサを用いて前記内周面の内側における前記処理液の有無を検出すること、
前記処理液の液面の高さに関する情報に基づいて前記処理液の残状態を報知すること、を含む液処理方法。 - 前記処理液の液面の高さに関する情報に基づいて、前記処理液の残期間に関する情報を算出し、前記残状態として前記処理液の残期間に関する情報を報知する、請求項8に記載の液処理方法。
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