JP6172573B2 - はんだ接合材料とその製造方法、及びはんだ接合用部材、並びに太陽電池モジュール - Google Patents
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Description
[2]前記はんだ接合材料は板状であり、前記銅系金属材の片面若しくは両面に、前記表面処理層及び前記Sn系はんだめっき層が設けられている前記[1]に記載のはんだ接合材料。
[3]前記はんだ接合材料は線状であり、前記銅系金属材の外周に前記表面処理層が被覆され、前記表面処理層の外周に前記Sn系はんだめっき層が被覆されている前記[1]に記載のはんだ接合材料。
[4]前記アモルファス層は、前記銅系金属材から拡散した銅をさらに含有する前記[1]〜[3]の何れか1つに記載のはんだ接合材料。
[5]前記表面処理層は、前記アモルファス層の下に、さらに、銅及び銅よりも酸素との親和性が高い金属、又は、銅、銅よりも酸素との親和性が高い金属及び酸素を含有する拡散層を有する前記[1]〜[4]の何れか1つに記載のはんだ接合材料。
[6]前記銅よりも酸素との親和性が高い金属は、亜鉛である前記[1]〜[5]の何れか1つに記載のはんだ接合材料。
[7]前記表面処理層の厚さは、8nm以上300nm以下である前記[1]〜[6]の何れか1つに記載のはんだ接合材料。
[8]銅を主成分として含有する銅系金属材と、前記銅系金属材上に設けられた、銅よりも酸素との親和性が高い金属及び酸素を含有するアモルファス層を有する表面処理層とを備え、前記表面処理層の厚さが8nm以上300nm以下であるはんだ接合用部材。
[9]前記銅よりも酸素との親和性が高い金属は、亜鉛である前記[8]に記載のはんだ接合用部材。
[10]前記[1]〜[7]の何れか1つに記載のはんだ接合材料と、前記はんだ接合材料がはんだ接合された太陽電池セルとを備えた太陽電池モジュール。
[11]前記[8]又は前記[9]に記載のはんだ接合用部材と、前記はんだ接合用部材がはんだ接合された太陽電池セルとを備えた太陽電池モジュール。
[12]銅を主成分として含有する銅系金属材の表面に、銅よりも酸素との親和性が高い金属からなる層を形成し、形成された当該層を、30℃以上300℃以下の温度で、5秒以上60分以下の時間で加熱処理することによって、表面処理層を形成する工程と、前記表面処理層上にSn系はんだめっき層を形成する工程とを含むはんだ接合材料の製造方法。
[13]前記銅よりも酸素との親和性が高い金属は、亜鉛である前記[12]に記載のはんだ接合材料の製造方法。
[14]前記表面処理層の厚さは、8nm以上300nm以下である前記[12]又は前記[13]に記載のはんだ接合材料の製造方法。
本発明の実施の形態に係るはんだ接合材料は、銅を主成分として含有する銅系金属材と、前記銅系金属材上に設けられた、銅よりも酸素との親和性が高い金属及び酸素を含有するアモルファス層を有する表面処理層と、前記表面処理層上に設けられたSn系はんだめっき層とを備える。実施形態としては、主に板状のものと線状のものがあり、以下に板状はんだ接合材料(第1の実施形態)及び線状はんだ接合材料(第2の実施形態)についてそれぞれ説明する。
本発明の第1の実施形態に係るはんだ接合材料は板状であり、平角状の断面を有するCu系金属板の向かい合う一対の両面に、表面処理層及びSn系はんだめっき層が順に設けられている。Cu系金属板の両面に設ける場合に限られず、Cu系金属板の片面にのみ、表面処理層及びSn系はんだめっき層を順に設ける構成であってもよい。
次に、本実施の形態に係るはんだ接合材料の製造方法について説明する。
Cu板1の表面に、銅よりも酸素との親和性が高い金属、例えば、亜鉛である場合には、最終製品のサイズ及び形状にて、電解めっきでZn層を形成する。その後、そのまま30℃以上300℃以下の温度で5秒以上60分以下の時間の条件で大気中にて加熱することで表面処理層2(アモルファス層)が形成される。Zn層の厚さは、8nm以上0.3μm以下が好ましく、10nm以上0.25μm以下がより好ましく、12nm以上0.2μm以下がさらに好ましい。これにより、少なくとも亜鉛及び酸素を含有するアモルファス層を有する表面処理層2を備えたはんだ接合用板材が得られる。つまり、Cu板1の表面に、亜鉛を被覆して所定の加熱処理を施すだけの簡易な手法により表面処理層2(アモルファス層)を形成することができる。
本発明の第2の実施形態に係るはんだ接合材料は線状であり、円形状の断面を有するCu系金属材の外周に表面処理層が被覆され、表面処理層の外周にSn系はんだめっき層が被覆されている。
次に、本実施の形態に係るはんだ接合用線材の製造方法について説明する。
Cu線11の外周に、電解めっきによりZn層を形成し、前述の表面処理層2(アモルファス層)の形成方法と同様の方法により加熱処理を行ない、表面処理層12(アモルファス層)を形成する。表面処理層13(拡散層14、アモルファス層15)の形成方法についても、前述の表面処理層3(拡散層4、アモルファス層5)の形成方法と同様である。これにより、はんだ接合用線材30,40を製造することができる。その後、はんだ接合用線材30,40の外周に、前述のSn系はんだめっき層101の形成方法と同様の方法によりSn系はんだめっき層201を形成する。
本発明の実施の形態に係るはんだ接合材料は、様々な構造の半導体装置のダイボンディング材料、リード材、封止用材料、絶縁基板の接合材料として使用できる。適用例としては、オルタネータ用ダイオード、IGBTモジュール、RFモジュール等のフロントエンドモジュール、自動車用パワーモジュール、LED、リチウムイオン電池の保護回路用MOSFET、DBC基板やDBA基板などのセラミック基板が挙げられる。
特に、太陽電池用セルの接合用に好適に使用することができ、本実施の形態に係るはんだ接合材料と、当該はんだ接合材料がはんだ接合された太陽電池セルとを備えた太陽電池モジュールを得ることができる。なお、本実施の形態に係るはんだ接合用部材をSn−Ag−Cu系はんだ等により太陽電池セルに接合して太陽電池モジュールを得ることもできる。これらの場合、はんだ接合材料ないしはんだ接合用部材としては平角状のものを用いることが好ましい。
本発明の実施の形態によれば、表面処理層の表面への銅の拡散、及びCu系金属材への酸素の侵入を抑制ないし低減させるバリア層として機能する表面処理層2,3或いは12,13をCu系金属材表面に形成したことにより、耐酸化性を有し、保管時にCu系金属材の表面に酸化膜が成長するのを抑制できるため、はんだ接合材料及びはんだ接合用部材のはんだ接合性を向上させることができる。
実施例1では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.008μmのZn層を形成し、その後、100℃の温度で5分間、大気中で加熱処理した試料を作製した。作製した試料に対し、表面から深さ方向のオージェ分析を行うことで、亜鉛(Zn)、酸素(O)及び銅(Cu)から構成される表面処理層が、0.01μmの厚さに形成されていることを確認した。
実施例2では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.04μmのZn層を形成し、その後、120℃の温度で10分間、大気中で加熱処理した試料を作製した。作製した試料に対し、表面から深さ方向のオージェ分析を行うことで、亜鉛(Zn)、酸素(O)及び銅(Cu)から構成される表面処理層が、0.05μmの厚さに形成されていることを確認した。
実施例3では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.08μmのZn層を形成し、その後、300℃の温度で5秒間、大気中で加熱処理した試料を作製した。作製した試料に対し、表面から深さ方向のオージェ分析を行うことで、亜鉛(Zn)、酸素(O)及び銅(Cu)から構成される表面処理層が、0.1μmの厚さに形成されていることを確認した。
実施例4では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.27μmのZn層を形成し、その後、150℃の温度で30秒間、大気中で加熱処理した試料を作製した。作製した試料に対し、表面から深さ方向のオージェ分析を行うことで、亜鉛(Zn)、酸素(O)及び銅(Cu)から構成される表面処理層が、0.3μmの厚さに形成されていることを確認した。
比較例1では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.95μmのZn層を形成し、その後、100℃の温度で5分間、大気中で加熱処理した試料を作製した。作製した試料に対し、表面から深さ方向のオージェ分析を行うことで、亜鉛(Zn)、酸素(O)から構成される表面処理層が、1μmの厚さに形成されていることを確認した。
比較例2では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.01μmのZn層を形成し、その後、400℃の温度で30秒間、大気中で加熱処理した試料を作製した。作製した試料に対し、表面から深さ方向のオージェ分析を行うことで、亜鉛(Zn)、酸素(O)及び銅(Cu)から構成される表面処理層が、0.02μmの厚さに形成されていることを確認した。
比較例3では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を用意し、その表面に、電解めっきにより厚さ0.02μmのZn層を形成し、試料を作製した。
比較例4では、TPCからなる厚さ0.5mmの平板を評価試料とした。
比較例5では、Cu−30質量%Zn合金(黄銅)の厚さ0.5mmの平板を評価試料とした。
Cu板にNi/Auめっきを行ったはんだ付けの相手材に対し、幅5mm×50mm×厚さ0.2mmに加工した各試料をSn−3.5Ag−0.5Cuの組成をもつ鉛フリーはんだを用い、250℃にて接合した。はんだ接合は、試料加工直後、及び試料を大気中、100℃で100時間保持した後の2条件で実施した。
それらの接合サンプルについて、引張り試験による接合部の強度評価を行った。
Cu板にNi/Auめっきを行ったはんだ付けの相手材に対し、幅5mm×50mm×厚さ0.2mmに加工した各試料をSn−3.5Ag−0.5Cuの組成をもつ鉛フリーはんだを用い、試料加工直後に250℃にて接合した。はんだ接合した後、接合サンプルに−30℃〜+100℃で500サイクルの冷熱負荷を加え、はんだ接合部の接合信頼性を評価した。
3:表面処理層、4:拡散層、5:アモルファス層
10,20:はんだ接合用板材
101:Sn系はんだめっき層
100:板状はんだ接合材料
11:Cu層、12:表面処理層(アモルファス層)
13:表面処理層、14:拡散層、15:アモルファス層
30,40:はんだ接合用線材
201:Sn系はんだめっき層
200:線状はんだ接合材料
Claims (11)
- 銅を主成分として含有する銅系金属材と、
前記銅系金属材上に設けられた、銅よりも酸素との親和性が高い金属及び酸素を含有するアモルファス層を有する表面処理層と、
前記表面処理層上に設けられたSn系はんだめっき層とを備え、
前記銅よりも酸素との親和性が高い金属は、亜鉛であるはんだ接合材料。 - 前記はんだ接合材料は板状であり、前記銅系金属材の片面若しくは両面に、前記表面処理層及び前記Sn系はんだめっき層が設けられている請求項1に記載のはんだ接合材料。
- 前記はんだ接合材料は線状であり、前記銅系金属材の外周に前記表面処理層が被覆され、前記表面処理層の外周に前記Sn系はんだめっき層が被覆されている請求項1に記載のはんだ接合材料。
- 前記アモルファス層は、前記銅系金属材から拡散した銅をさらに含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のはんだ接合材料。
- 前記表面処理層は、前記アモルファス層の下に、さらに、銅及び銅よりも酸素との親和性が高い金属、又は、銅、銅よりも酸素との親和性が高い金属及び酸素を含有する拡散層を有する請求項1〜4のいずれか1項に記載のはんだ接合材料。
- 前記表面処理層の厚さは、8nm以上300nm以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載のはんだ接合材料。
- 銅を主成分として含有する銅系金属材と、
前記銅系金属材上に設けられた、銅よりも酸素との親和性が高い金属及び酸素を含有するアモルファス層を有する表面処理層とを備え、
前記銅よりも酸素との親和性が高い金属は、亜鉛であり、
前記表面処理層の厚さが8nm以上300nm以下であるはんだ接合用部材。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載のはんだ接合材料と、
前記はんだ接合材料がはんだ接合された太陽電池セルとを備えた太陽電池モジュール。 - 請求項8に記載のはんだ接合用部材と、
前記はんだ接合用部材がはんだ接合された太陽電池セルとを備えた太陽電池モジュール。 - 銅を主成分として含有する銅系金属材の表面に、銅よりも酸素との親和性が高い金属からなる層を形成し、形成された当該層を、30℃以上300℃以下の温度で、5秒以上60分以下の時間で、大気中にて加熱処理することによって、表面処理層を形成する工程と、
前記表面処理層上にSn系はんだめっき層を形成する工程とを含み、
前記銅よりも酸素との親和性が高い金属は、亜鉛であるはんだ接合材料の製造方法。 - 前記表面処理層の厚さは、8nm以上300nm以下である請求項10に記載のはんだ接合材料の製造方法。
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