JP6140493B2 - 光学デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、光学機器に用いられる光学デバイスの製造方法に関する。
従来より、光通信、測定機器、半導体レーザなどの光学機器にはエタロンや１／２波長板や１／４波長板などの光学デバイスが用いられている。
これら光学デバイスは、複数枚の透明部材を張り合わせて構成されたものがある。
例えば、光学デバイスをエタロンとして説明すると、２つ透明部材を接合して構成されるエアギャップ型が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
このような光学デバイスは、透明部材の表面に接合のための金属膜を設けており、金属膜同士を重ね合わせた状態で接合して光学デバイスとしている。
また、光学デバイスは、例えば、光が透過する経路部分に内部空間をあけて複数の透明部材を接合した状態のものも提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、複数の透明部材を接合して構成される光学デバイスを製造する場合、例えば、枠部と内部空間の形状となるパターン部とこのパターン部と枠部とをつなぐ腕部とからなるマスクが用いられ、このマスクを透明部材に重ね合わせた状態でマスクの隙間に金属膜を形成させる。
この場合、腕部部分には金属膜が設けられないため、例えば、特許文献２で開示されているような外部と連通する凹部が形成される。
これら光学デバイスは、複数枚の透明部材を張り合わせて構成されたものがある。
例えば、光学デバイスをエタロンとして説明すると、２つ透明部材を接合して構成されるエアギャップ型が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
このような光学デバイスは、透明部材の表面に接合のための金属膜を設けており、金属膜同士を重ね合わせた状態で接合して光学デバイスとしている。
また、光学デバイスは、例えば、光が透過する経路部分に内部空間をあけて複数の透明部材を接合した状態のものも提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、複数の透明部材を接合して構成される光学デバイスを製造する場合、例えば、枠部と内部空間の形状となるパターン部とこのパターン部と枠部とをつなぐ腕部とからなるマスクが用いられ、このマスクを透明部材に重ね合わせた状態でマスクの隙間に金属膜を形成させる。
この場合、腕部部分には金属膜が設けられないため、例えば、特許文献２で開示されているような外部と連通する凹部が形成される。
このような、従来の光学デバイスでは、内部空間と光デバイスの外部空間とが連通する凹部が形成されることにより、透明部材に金属膜が設けられていない部分が存在することとなり、長期に使用する場合に金属膜が剥離する危険性があった。
また、接合する透明部材に用いられるマスクは同一形状のパターンであったために、透明部材に金属膜が設けられていない部分が重なって外部空間と内部空間とがつながる経路が形成されるため、高温高湿の使用環境において、透明部材にシミが発生することがあった。
また、接合する透明部材に用いられるマスクは同一形状のパターンであったために、透明部材に金属膜が設けられていない部分が重なって外部空間と内部空間とがつながる経路が形成されるため、高温高湿の使用環境において、透明部材にシミが発生することがあった。
そこで、本発明では、前記した問題を解決し、剥離の危険性を軽減しシミの発生を軽減する光学デバイスを提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、本発明は、二つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、枠部、前記枠部内に設けられた円形又は多角形のパターン部、及び、前記枠部と前記パターン部とを繋ぐ腕部を有し、前記枠部と前記腕部の形状が異なる二つのマスクを用意するマスク用意工程と、一方の主面に反射防止膜が設けられ他方の主面に反射膜が設けられた二つの透明部材ウエハのうち一方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、一方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウエハ金属膜形成工程と、前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記一方のマスクにより設けられた金属膜上に、他方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、一方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第三透明部材ウエハ金属膜形成工程と、他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記一方のマスクにより設けられた金属膜上に、他方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第四透明部材ウエハ金属膜形成工程と、前記一方の透明部材ウエハの一方の主面と前記他方の透明部材ウエハの一方の主面とを対向させた状態で、前記一方の透明部材ウエハと前記他方の透明部材ウエハとを重ねて所定の温度と所定の圧力で接合する接合工程と、接合された前記２つの透明部材ウエハを切断して個々の光学デバイスとする個片化工程と、
を含み、前記第二透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記一方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成されており、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の縁部から延びるように上下方向の厚みが積層されている部分よりも薄い部分が設けられており、前記第四透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記他方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成されており、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の縁部から延びるように前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が設けられており、
前記接合工程において、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分が対向しつつ、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と前記積層されている部分とが対向した状態となっていることを特徴とする。
他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、一方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第三透明部材ウエハ金属膜形成工程と、他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記一方のマスクにより設けられた金属膜上に、他方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第四透明部材ウエハ金属膜形成工程と、前記一方の透明部材ウエハの一方の主面と前記他方の透明部材ウエハの一方の主面とを対向させた状態で、前記一方の透明部材ウエハと前記他方の透明部材ウエハとを重ねて所定の温度と所定の圧力で接合する接合工程と、接合された前記２つの透明部材ウエハを切断して個々の光学デバイスとする個片化工程と、
を含み、前記第二透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記一方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成されており、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の縁部から延びるように上下方向の厚みが積層されている部分よりも薄い部分が設けられており、前記第四透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記他方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成されており、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の縁部から延びるように前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が設けられており、
前記接合工程において、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分が対向しつつ、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と前記積層されている部分とが対向した状態となっていることを特徴とする。
また、前記課題を解決するため、本発明は、２つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、Ｘ字状の腕部、当該Ｘ字状の腕部のＸ字の交差部分に多角形又は円形で形成されているパターン部、及び、前記腕部に接続されている枠部を有している第一マスクと、十字状の腕部、当該十字状の腕部の交差部分に多角形又は円形で形成されているパターン部、及び、前記腕部に接続されている枠部を有している第二マスクと、を用意するマスク用意工程と、一方の主面に反射防止膜が設けられ他方の主面に反射膜が設けられた二つの透明部材ウエハのうち一方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウエハ金属膜形成工程と、前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、
前記第一透明部材ウエハ金属膜形成工程により形成された金属膜上に、前記第一透明部材ウエハ金属膜形成工程において用いていない前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウエハ金属膜形成工程と、他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第三透明部材ウエハ金属膜形成工程と、他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記第三透明部材ウエハ金属膜形成工程により設けられた金属膜上に、前記第三透明部材ウエハ金属膜形成工程において用いていない前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第四透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
前記一方の透明部材ウエハの一方の主面と前記他方の透明部材ウエハの一方の主面とを対向させた状態で、前記一方の透明部材ウエハと前記他方の透明部材ウエハとを重ねて所定の温度と所定の圧力で接合する接合工程と、接合された前記２つの透明部材ウエハを切断して個々の光学デバイスとする個片化工程と、を含み、前記第二透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記一方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成され、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の中心を通過する異なる４本の直線状となっており、
前記第四透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記他方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成され、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が、
前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の中心を通過する異なる４本の直線状となっており、前記接合工程において、前記パターン部によって金属膜が設けられていない部分が対向しつつ、前記積層されている部分より上下方向の厚みが薄くなっている部分が対向した状態となっていることを特徴とする。
前記第一透明部材ウエハ金属膜形成工程により形成された金属膜上に、前記第一透明部材ウエハ金属膜形成工程において用いていない前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウエハ金属膜形成工程と、他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第三透明部材ウエハ金属膜形成工程と、他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記第三透明部材ウエハ金属膜形成工程により設けられた金属膜上に、前記第三透明部材ウエハ金属膜形成工程において用いていない前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第四透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
前記一方の透明部材ウエハの一方の主面と前記他方の透明部材ウエハの一方の主面とを対向させた状態で、前記一方の透明部材ウエハと前記他方の透明部材ウエハとを重ねて所定の温度と所定の圧力で接合する接合工程と、接合された前記２つの透明部材ウエハを切断して個々の光学デバイスとする個片化工程と、を含み、前記第二透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記一方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成され、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の中心を通過する異なる４本の直線状となっており、
前記第四透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記他方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成され、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が、
前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の中心を通過する異なる４本の直線状となっており、前記接合工程において、前記パターン部によって金属膜が設けられていない部分が対向しつつ、前記積層されている部分より上下方向の厚みが薄くなっている部分が対向した状態となっていることを特徴とする。
また、本発明は、前記金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いて行われてもよい。
このような光学デバイスの製造方法によれば、パターンが異なる二つのマスクを用いて、透明部材ウエハの一方の主面上にパターンの異なる金属層を形成し積層させて金属膜を設けており、第一マスク及び第二マスクの湯で部の跡が重ならないため透明部材へのシミの発生を軽減することができる。また、第一マスク及び第二マスクの腕部と対向する透明部材の面には金属膜が設けられているため、剥離を生じにくくさせることができる。
次に、本発明を実施するための最良の形態（以下、「実施形態」という。）について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。各構成要素について、状態をわかりやすくするために、誇張して図示している。
なお、光が入射及び出射する面を主面とし、この主面を囲む面を側面とする。
なお、光が入射及び出射する面を主面とし、この主面を囲む面を側面とする。
（第一の実施形態）
（光学デバイス）
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１１は、例えば、２つの透明部材２０，２０を接合して構成されている。
（光学デバイス）
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１１は、例えば、２つの透明部材２０，２０を接合して構成されている。
透明部材２０は、例えば、厚みが均一に形成された四角形状の平板状の透明材質の部材が用いられ、例えば、ガラスや水晶などが用いられる。なお、この透明部材２０は、側面側から見たときに台形形状となっていても良い。
この透明部材２０は、一方の主面に反射膜２１が設けられ、他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
この透明部材２０の反射防止膜２２上に主面の中央部分とその中央部分から外側に伸びる少なくとも４つの直線を除いて金属膜２３が設けられている。
この透明部材２０の反射防止膜２２上に主面の中央部分とその中央部分から外側に伸びる少なくとも４つの直線を除いて金属膜２３が設けられている。
金属膜２３は、室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなり、薄膜状に形成されている。この金属膜２３は、例えば、下地金属としてＴａ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉなどが用いられ、この下地金属の上にＡｕ，Ｐｔ，金合金などの室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなる。また、金属膜２３の厚みは、０．２ｎｍ以上で設けられる。
このような本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法について説明する。
この本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、図２〜図７に示すように、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程、接合工程、個片工程、を含んで構成されている。
この本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、図２〜図７に示すように、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程、接合工程、個片工程、を含んで構成されている。
まず、パターンの異なる２つのマスクを用意する。
図２（ａ）に示すように、第一マスク３１は、少なくとも１つの第一腕部３２とこの第一腕部３２と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部３３とこのパターン部３３に接続する枠部３４から構成されている。
図２（ａ）に示すように、第一マスク３１は、少なくとも１つの第一腕部３２とこの第一腕部３２と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部３３とこのパターン部３３に接続する枠部３４から構成されている。
ここでは、第一マスク３１は第一腕部３２が１つの腕部分を有する構成とする。また、第一マスク３１は、枠部３４の中央に円形のパターン部３３が設けられているとし、このパターン部３３と枠部３４とを第一腕部３２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられて構成されている。
なお、このような第一マスク３１は、第一腕部３２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
なお、このような第一マスク３１は、第一腕部３２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
図４に示すように、第二マスク４１は、第一マスク３１の第一腕部３２とは異なる方向に設けられる少なくとも１つの第二腕部４２とこの第二腕部４２と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部４３とこのパターン部４３に接続する枠部４４から構成されている。
ここでは、第二マスク４１の第二腕部４２は１つの腕部分を有する構成とする。また、第二マスク４１は、枠部４４の中央に円形のパターン部４３が設けられているとし、このパターン部４３と枠部４４とを第二腕部４２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられている。
なお、このような第二マスク４１は、第一腕部３２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
なお、このような第二マスク４１は、第一腕部３２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
次に、図２（ａ）に示すように、透明部材２０となる透明部材ウェハを用意する。この透明部材ウェハは、一方の主面に反射膜２１が設けられ他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
（第一透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第一透明部材ウェハ金属膜形成工程は、まず、一方の主面に反射防止膜２２が設けられ他方の主面に反射膜２１が設けられた２つの透明部材ウェハのうち、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに第一マスク３１又は第二マスク４１を重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、本実施形態では第一マスク３１を用いた場合について説明する（例えば、図２（ｂ）参照）。
第一透明部材ウェハ金属膜形成工程は、まず、一方の主面に反射防止膜２２が設けられ他方の主面に反射膜２１が設けられた２つの透明部材ウェハのうち、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに第一マスク３１又は第二マスク４１を重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、本実施形態では第一マスク３１を用いた場合について説明する（例えば、図２（ｂ）参照）。
この第一透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、図３に示すように、透明部材ウェハ２０Ｗは、第一マスク３１の第一腕部３２とパターン部３３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部３４とパターン部３３と第一腕部３２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
（第二透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第二透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを一方の透明部材ウェハ２０Ｗに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第二マスク４１として説明する（図４参照）。
第二透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを一方の透明部材ウェハ２０Ｗに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第二マスク４１として説明する（図４参照）。
この第二透明部材ウェハ金属膜形成工程により、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で設けた金属膜２３の上にさらに金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、図５に示すように、透明部材ウェハ２０Ｗは、第二マスク４１の第二腕部４２とパターン部４３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部４４とパターン部４３と第一腕部４２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。また、第一腕部３２と第二腕部４２とは、それぞれの枠部３４，４４の中央から伸びる方向が異なっているため、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程では、第二腕部４２と重なっていた部分は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程での第一腕部３２と重なっていた部分と重ならないようになっている。つまり、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一腕部３２が重なっていた部分は、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程により金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
（第三透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第三透明部材ウェハ金属膜形成工程は、他方の透明部材ウェハに第二マスク４１を重ねてパターン部４３と枠部４４との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、本実施形態では第二マスク４１を用いた場合について説明する（図示せず）。
第三透明部材ウェハ金属膜形成工程は、他方の透明部材ウェハに第二マスク４１を重ねてパターン部４３と枠部４４との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、本実施形態では第二マスク４１を用いた場合について説明する（図示せず）。
この第三透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材２０は、第二マスク４１の第二腕部４２とパターン部４３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部４４とパターン部４３と第一腕部４２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハに重ねるマスクは、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いたマスクとは異なるマスクを用いるのが望ましい。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
なお、この第三透明部材ウェハ金属膜形成工程は、透明部材ウェハにマスクを重ねる順番が第二透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いるマスクと同一であり、透明部材ウェハに設けられる金属膜が当該マスクのパターンが反映されることとなる。
（第四透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第四透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを他方の透明部材ウェハ２０Ｗに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第一マスク３１として説明する（図示せず）。
第四透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを他方の透明部材ウェハ２０Ｗに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第一マスク３１として説明する（図示せず）。
この第四透明部材ウェハ金属膜形成工程により、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で設けた金属膜２３の上にさらに金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、図６に示すように、透明部材ウェハ２０Ｗは、第一マスク３１の第一腕部３２とパターン部３３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部３４とパターン部３３と第一腕部３２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。つまり、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二腕部４２が重なっていた部分は、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程により金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材ウェハ２０Ｗの反射防止膜２２上に設けることができる。
また、第一腕部３２と第二腕部４２とは、それぞれの枠部３４，４４の中央から伸びる方向が異なっているため、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程では、第二腕部４２と重なっていた部分は、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程での第一腕部３２と重なっていた部分と重ならないようになっている。
（接合工程）
図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、接合工程は、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する工程である。
この接合工程では、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３と他方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３とを重ね合わせた状態で、所定の圧力と所定の温度で接合する。なお、接合には、例えば、原子拡散接合を用いることができる。
これにより、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとが接合され、複数の光学デバイスを含む接合された透明部材ウェハとすることができる。
図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、接合工程は、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する工程である。
この接合工程では、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３と他方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３とを重ね合わせた状態で、所定の圧力と所定の温度で接合する。なお、接合には、例えば、原子拡散接合を用いることができる。
これにより、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとが接合され、複数の光学デバイスを含む接合された透明部材ウェハとすることができる。
（個片工程）
個片工程は、接合された２つの透明部材ウェハ２０Ｗを切断して個々の光学デバイスとする工程である。
この個片工程は、第一マスク３１と第二マスク４１の枠部と重なっていた部分であって金属膜２３が設けられていない部分を切断することによって個々の光学デバイスを得ることができる。
個片工程は、接合された２つの透明部材ウェハ２０Ｗを切断して個々の光学デバイスとする工程である。
この個片工程は、第一マスク３１と第二マスク４１の枠部と重なっていた部分であって金属膜２３が設けられていない部分を切断することによって個々の光学デバイスを得ることができる。
このように光学デバイスの製造方法を構成したので、第一マスクと第二マスクとがパターンが異なっており、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡が重ならないため透明部材へのシミの発生を軽減させることができる。また、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡となる部分と対抗する透明部材の面には金属膜が設けられているため、剥離を生じにくくさせることができる。
（第二の実施形態）
本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１２は、第一マスクの第一腕部の跡と第二マスクの第二腕部の跡とが異なる点で第一の実施形態と異なる。
本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１２は、第一マスクの第一腕部の跡と第二マスクの第二腕部の跡とが異なる点で第一の実施形態と異なる。
（光学デバイス）
図８（ａ）及び（ｂ）本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１２は、例えば、２つの透明部材２０，２０を接合して構成されている。
図８（ａ）及び（ｂ）本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１２は、例えば、２つの透明部材２０，２０を接合して構成されている。
透明部材２０は、例えば、厚みが均一に形成された四角形状の平板状の透明材質の部材が用いられ、例えば、ガラスや水晶などが用いられる。
この透明部材２０は、一方の主面に反射膜２１が設けられ、他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
この透明部材２０の反射防止膜２２上に主面の中央部分を除いて金属膜２３が設けられ、この中央部分から放射状に外側に伸びる８つの直線が形成されている。
この透明部材２０は、一方の主面に反射膜２１が設けられ、他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
この透明部材２０の反射防止膜２２上に主面の中央部分を除いて金属膜２３が設けられ、この中央部分から放射状に外側に伸びる８つの直線が形成されている。
金属膜２３は、室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなり、薄膜状に形成されている。この金属膜２３は、例えば、下地金属としてＴａ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉなどが用いられ、この下地金属の上にＡｕ，Ｐｔ，金合金などの室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなる。また、金属膜２３の厚みは、０．２ｎｍ以上で設けられる。
このような本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法について説明する。
この本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、図９〜図１５に示すように、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程、接合工程、個片工程、を含んで構成されている。
この本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、図９〜図１５に示すように、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程、接合工程、個片工程、を含んで構成されている。
まず、パターンの異なる２つのマスクを用意する。
図９（ａ）に示すように、第一マスク５１は、Ｘ字状の第一腕部５２とこのＸ字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部５３とこのパターン部５３に接続する枠部５４から構成されている。
ここでは、第一マスク５１は、枠部５４の中央に円形のパターン部５３が設けられているとし、このパターン部５３と枠部５４とを第一腕部５２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられて構成されている。
なお、このような第一マスク５１は、第一腕部５２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
図９（ａ）に示すように、第一マスク５１は、Ｘ字状の第一腕部５２とこのＸ字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部５３とこのパターン部５３に接続する枠部５４から構成されている。
ここでは、第一マスク５１は、枠部５４の中央に円形のパターン部５３が設けられているとし、このパターン部５３と枠部５４とを第一腕部５２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられて構成されている。
なお、このような第一マスク５１は、第一腕部５２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
図１１に示すように、第二マスク６１は、十字状の第二腕部６２とこの十字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部６３とこのパターン部６３に接続する枠部６４から構成されている。
ここでは、第二マスク６１は、枠部６４の中央に円形のパターン部６３が設けられているとし、このパターン部６３と枠部６４とを第二腕部６２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられている。
なお、このような第二マスク６１は、第一腕部６２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
ここでは、第二マスク６１は、枠部６４の中央に円形のパターン部６３が設けられているとし、このパターン部６３と枠部６４とを第二腕部６２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられている。
なお、このような第二マスク６１は、第一腕部６２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
次に、透明部材２０となる透明部材ウェハを用意する。この透明部材ウェハは、一方の主面に反射防止膜が設けられ他方の主面に反射膜が設けられている。
（第一透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第一透明部材ウェハ金属膜形成工程は、まず、一方の主面に反射防止膜２２が設けられ他方の主面に反射膜２１が設けられた２つの透明部材ウェハ２０Ｗのうち、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに第一マスク５１又は第二マスク６１を重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、本実施形態では第一マスク５１を用いた場合について説明する（図９（ａ）及び（ｂ）参照）。
第一透明部材ウェハ金属膜形成工程は、まず、一方の主面に反射防止膜２２が設けられ他方の主面に反射膜２１が設けられた２つの透明部材ウェハ２０Ｗのうち、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに第一マスク５１又は第二マスク６１を重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、本実施形態では第一マスク５１を用いた場合について説明する（図９（ａ）及び（ｂ）参照）。
図１０に示すように、この第一透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第一マスク５１の第一腕部５２とパターン部５３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部５４とパターン部５３と第一腕部５２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。つまり、透明部材２０の平行する辺の中心を結ぶような放射状に４本の直線が伸びるパターンと円形とを残して金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材ウェハ２０Ｗの反射防止膜２２上に設けることができる。
（第二透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第二透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを一方の透明部材ウェハに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第二マスク６１として説明する（図１１参照）。
第二透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを一方の透明部材ウェハに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第二マスク６１として説明する（図１１参照）。
この第二透明部材ウェハ金属膜形成工程により、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で設けた金属膜２３の上にさらに金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第二マスク６１の第二腕部６２とパターン部６３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部６４とパターン部６３と第一腕部６２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。また、第一腕部５２と第二腕部６２とは、それぞれの枠部５４，５４の中央から伸びる方向が異なっているため、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程では、第二腕部６２と重なっていた部分は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程での第一腕部５２と重なっていた部分と重ならないようになっている。つまり、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一腕部５２が重なっていた部分は、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程により金属膜２３が設けられた状態となる。また、円形と透明部材２０の対角を結ぶような放射状に４本の直線が伸びるパターンを残して金属膜２３が設けられた状態となる（図１２参照）。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
（第三透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第三透明部材ウェハ金属膜形成工程は、他方の透明部材ウェハに第一マスク又は第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける工程である。なお、本実施形態では第二マスク６１を用いた場合について説明する（図示せず）。
第三透明部材ウェハ金属膜形成工程は、他方の透明部材ウェハに第一マスク又は第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける工程である。なお、本実施形態では第二マスク６１を用いた場合について説明する（図示せず）。
この第三透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材２０は、第二マスク６１の第二腕部６２とパターン部６３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部６４とパターン部６３と第二腕部６２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗに重ねるマスクは、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いたマスクとは異なるマスクを用いるのが望ましい。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
なお、この第三透明部材ウェハ金属膜形成工程は、透明部材ウェハにマスクを重ねる順番が第二透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いるマスクと同一であり、透明部材ウェハに設けられる金属膜が当該マスクのパターンが反映されることとなる。
（第四透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第四透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを他方の透明部材ウェハ２０Ｗに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第一マスク５１として説明する（図１３参照）。
第四透明部材ウェハ金属膜形成工程は、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程の後に、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを他方の透明部材ウェハ２０Ｗに重ねてパターン部と枠部との間に金属膜２３を設ける工程である。なお、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で用いなかったマスクを第一マスク５１として説明する（図１３参照）。
この第四透明部材ウェハ金属膜形成工程により、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で設けた金属膜２３の上にさらに金属膜２３が設けられた状態となる（図１４参照）。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第一マスク５１の第一腕部５２とパターン部５３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部５４とパターン部５３と第一腕部５２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。つまり、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二腕部６２が重なっていた部分は、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程により金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
また、第一腕部５２と第二腕部６２とは、それぞれの枠部５４，６４の中央から伸びる方向が異なっているため、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程では、第二腕部６２と重なっていた部分は、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程での第一腕部５２と重なっていた部分と重ならないようになっている。
（接合工程）
図１５（ａ）及び（ｂ）に示すように、接合工程は、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する工程である。
この接合工程では、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３と他方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３とを重ね合わせた状態で、所定の圧力と所定の温度で接合する。なお、接合には、例えば、原子拡散接合を用いることができる。
これにより、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとが接合され、複数の光学デバイスを含む接合された透明部材ウェハとすることができる。
図１５（ａ）及び（ｂ）に示すように、接合工程は、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する工程である。
この接合工程では、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３と他方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３とを重ね合わせた状態で、所定の圧力と所定の温度で接合する。なお、接合には、例えば、原子拡散接合を用いることができる。
これにより、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとが接合され、複数の光学デバイスを含む接合された透明部材ウェハとすることができる。
（個片工程）
個片工程は、接合された２つの透明部材ウェハ２０Ｗを切断して個々の光学デバイスとする工程である。
この個片工程は、第一マスク５１と第二マスク６１の枠部と重なっていた部分であって金属膜２３が設けられていない部分を切断することによって個々の光学デバイスを得ることができる。切断には、回転ブレードなどを用いることができる。
個片工程は、接合された２つの透明部材ウェハ２０Ｗを切断して個々の光学デバイスとする工程である。
この個片工程は、第一マスク５１と第二マスク６１の枠部と重なっていた部分であって金属膜２３が設けられていない部分を切断することによって個々の光学デバイスを得ることができる。切断には、回転ブレードなどを用いることができる。
このように光学デバイスの製造方法を構成したので、第一マスクと第二マスクとがパターンが異なっており、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡が重ならないため透明部材へのシミの発生を軽減させることができる。異物が混入しにくくすることができる。また、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡となる部分と対抗する透明部材の面には金属膜が設けられているため、剥離を生じにくくさせることができる。
なお、本発明はこれら実施形態に限定されず適宜変更して用いることができる。
例えば、透明部材ウェハに重ねるマスクは、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一マスク、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二マスクを用い、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一マスク、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二マスクを用いても良い。
例えば、透明部材ウェハに重ねるマスクは、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一マスク、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二マスクを用い、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一マスク、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二マスクを用いても良い。
また例えば、透明部材ウェハに重ねるマスクは、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二マスク、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一マスクを用い、第三透明部材ウェハ金属膜形成工程で第二マスク、第四透明部材ウェハ金属膜形成工程で第一マスクを用いても良い。
また、このような本発明の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、例えば、エタロン、１／２波長板、１／４波長板などの透明部材を貼りあわせて構成される光学デバイスに適用可能である。
例えば、一方の主面に反射膜が設けられ他方の主面に反射防止膜が設けられた２つの透明部材において、反射防止膜上に金属膜を設けて、金属膜同士を接合することで光学デバイスであるエタロンが構成される。
また例えば、反射膜を設けずに２つの透明部材に金属膜を設けて、互いの金属膜を接合することで光学デバイスである１／２波長板、１／４波長板が構成される。
例えば、一方の主面に反射膜が設けられ他方の主面に反射防止膜が設けられた２つの透明部材において、反射防止膜上に金属膜を設けて、金属膜同士を接合することで光学デバイスであるエタロンが構成される。
また例えば、反射膜を設けずに２つの透明部材に金属膜を設けて、互いの金属膜を接合することで光学デバイスである１／２波長板、１／４波長板が構成される。
１１、１２ 光学デバイス
２０ 透明部材
２３ 金属膜
３１，５１ 第一マスク
３２、５２ 第一腕部
３３，５３ パターン部
３４，５４ 枠部
４１，６１ 第二マスク
４２、６２ 第二腕部
４３，６３ パターン部
４４，６４ 枠部
２０ 透明部材
２３ 金属膜
３１，５１ 第一マスク
３２、５２ 第一腕部
３３，５３ パターン部
３４，５４ 枠部
４１，６１ 第二マスク
４２、６２ 第二腕部
４３，６３ パターン部
４４，６４ 枠部
Claims (3)
- 二つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、
枠部、前記枠部内に設けられた円形又は多角形のパターン部、及び、前記枠部と前記パターン部とを繋ぐ腕部を有し、前記枠部と前記腕部の形状が異なる二つのマスクを用意するマスク用意工程と、
一方の主面に反射防止膜が設けられ他方の主面に反射膜が設けられた二つの透明部材ウエハのうち一方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、一方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記一方のマスクにより設けられた金属膜上に、他方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、一方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第三透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記一方のマスクにより設けられた金属膜上に、他方の前記マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第四透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
前記一方の透明部材ウエハの一方の主面と前記他方の透明部材ウエハの一方の主面とを対向させた状態で、前記一方の透明部材ウエハと前記他方の透明部材ウエハとを重ねて所定の温度と所定の圧力で接合する接合工程と、
接合された前記２つの透明部材ウエハを切断して個々の光学デバイスとする個片化工程と、
を含み、
前記第二透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記一方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成されており、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の縁部から延びるように上下方向の厚みが積層されている部分よりも薄い部分が設けられており、
前記第四透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記他方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成されており、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の縁部から延びるように前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が設けられており、
前記接合工程において、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分が対向しつつ、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と前記積層されている部分とが対向した状態となっている
ことを特徴とする光学デバイスの製造方法。 - ２つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、
Ｘ字状の腕部、当該Ｘ字状の腕部のＸ字の交差部分に多角形又は円形で形成されているパターン部、及び、前記腕部に接続されている枠部を有している第一マスクと、十字状の腕部、当該十字状の腕部の交差部分に多角形又は円形で形成されているパターン部、及び、前記腕部に接続されている枠部を有している第二マスクと、を用意するマスク用意工程と、
一方の主面に反射防止膜が設けられ他方の主面に反射膜が設けられた二つの透明部材ウエハのうち一方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記第一透明部材ウエハ金属膜形成工程により形成された金属膜上に、前記第一透明部材ウエハ金属膜形成工程において用いていない前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上に、前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第三透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
他方の前記透明部材ウエハの一方の主面上であって、前記第三透明部材ウエハ金属膜形成工程により設けられた金属膜上に、前記第三透明部材ウエハ金属膜形成工程において用いていない前記第一マスク又は前記第二マスクを重ね、前記枠部と前記パターン部と前記腕部との間に金属膜を設ける第四透明部材ウエハ金属膜形成工程と、
前記一方の透明部材ウエハの一方の主面と前記他方の透明部材ウエハの一方の主面とを対向させた状態で、前記一方の透明部材ウエハと前記他方の透明部材ウエハとを重ねて所定の温度と所定の圧力で接合する接合工程と、
接合された前記２つの透明部材ウエハを切断して個々の光学デバイスとする個片化工程と、
を含み、
前記第二透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記一方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成され、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の中心を通過する異なる４本の直線状となっており、
前記第四透明部材ウエハ金属膜形成工程後の前記他方の透明部材ウエハの一方の主面を平面視したとき、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分と、２層に積層されている部分と、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分と、から構成され、前記積層されている部分よりも上下方向の厚みが薄い部分が、前記パターン部により金属膜が設けられていない部分の中心を通過する異なる４本の直線状となっており、
前記接合工程において、前記パターン部によって金属膜が設けられていない部分が対向しつつ、前記積層されている部分より上下方向の厚みが薄くなっている部分が対向した状態となっている
ことを特徴とする光学デバイスの製造方法。 - 前記金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いて行われる
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学デバイスの製造方法。
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