JP6138059B2 - タッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、静電容量式の透明なタッチパネルに関する。

近年、コンピューターや電子機器において、押しボタンを用いずにディスプレイの表示を利用した操作の開発が盛んであり、その操作のために、ディスプレイの前面に透明のタッチパネルを配置して、タッチ位置を検出している。タッチパネルの種類としては、抵抗膜式、表面弾性波式、赤外線方式などがあり、指のタッチや近接による静電容量の変化で位置を検出する静電容量式もある。例えば、特許文献１には、マトリクス状の電極（Ｘ方向、Ｙ方向の２層構造）の静電容量式タッチスイッチが記載されている。

従来の静電容量式タッチパネルは、基材の一方面に帯状にパターニングされたインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などからなる透明の第１電極が形成された第１導電性基材と、基材の一方面に帯状にパターニングされたＩＴＯなどからなる透明の第２電極が形成された第２導電性基材とを備えており、第１電極及び第２電極が互いに対向するようにして、両導電性基材が粘着層を介して貼着される。しかしながら、ＩＴＯは抵抗率が高く、２００Ω/□〜１０００Ω/□が一般的である。特に大型のタッチパネルでは、電極の端子間の抵抗値が増加し、これに伴い静電容量検出の感度が低下するため、タッチパネルとして動作させることが困難になる場合がある。

そこで、ＩＴＯを使用しない静電容量式のタッチパネルが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。特許文献２のタッチパネルでは、銅又は銅合金からなる金属線を網目状に形成して電極を形成することで、電極の透過率を７０％以上にしており、視認性を維持したまま低抵抗の電極を形成している。

特表２００６−５１１８７９号公報 特開２０１３−０６９２５７号公報

しかしながら、特許文献２のタッチパネルでは、基材の一方面に網目状の第１電極が形成された第１導電性基材と、基材の一方面に網目状の第２電極が形成された第２導電性基材とを重ね合わせた構造であるため、タッチパネル全体の厚みが厚くなる。近年、タッチパネルは、薄型・軽量化が求められているところ、特許文献２のタッチパネルでは軽薄の要求に不利であるという問題がある。また、２枚の基材にそれぞれ電極や配線などを形成する必要があるため、タッチパネル製造のための工程が多くなり、タッチパネルを効率よく製造することが困難であるという問題がある。

本発明は、上記問題に着目してなされたもので、低抵抗な電極を備えるとともに、薄型化・軽量化を実現できるタッチパネルを提供することを目的とする。

本発明の上記目的は、基材と、前記基材の一方面側の第１方向に間隔をあけて配置される複数列の第１電極と、前記基材の一方面側の前記第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置される複数列の第２電極と、を備え、表示装置の前面に取り付けられるタッチパネルであって、前記基材は、前記第１電極及び前記第２電極が配置されるセンサ領域と、前記センサ領域の周囲に設けられる周縁領域と、を有し、前記第１電極は、複数の導体線を交差させることで形成されかつ前記第２方向に間隔をあけて配置された複数の第１電極セルを有し、前記第２電極は、複数の導体線を交差させることで形成されかつ前記第１方向に間隔をあけて配置された複数の第２電極セルを有し、前記第１電極セル及び前記第２電極セルには、配線が接続され、前記配線は、互いに交差することなく前記周縁領域に向けて引き出され、同列の前記第１電極セルから引き出される配線同士及び同列の前記第２電極セルから引き出される配線同士が電気的に結合されているタッチパネルによって達成される。

上記構成のタッチパネルにおいては、前記配線は、少なくとも前記第１電極セルと前記第２電極セルとの間を延びる部分が、一部の前記導体線と平行であることが好ましい。

また、前記第１電極セルと前記第２電極セルとの間には、前記導体線及び前記配線とは接続されない補助線が複数設けられ、前記補助線は前記配線と平行であることが好ましい。

また、少なくとも一部の前記配線には、当該配線と交差し、当該配線に隣接する前記配線及び前記導体線とは接続されない第１模造線が設けられていることがより好ましい。

また、少なくとも一部の前記補助線には、当該補助線と交差し、前記配線及び前記導体線とは接続されない第２模造線が設けられていることが好ましい。

また、前記第１模造線及び前記第２模造線の少なくとも一方は、前記導体線同士のピッチと等しいピッチを有する複数の線上に位置するように配置されていることが好ましい。

また、前記導体線の方向が表示装置のブラックマトリクスに対して斜め方向であることが好ましい。

また、前記第１電極及び前記第２電極は、両端部間の導通性を阻害しない範囲で前記導体線を切断する切断部を備えることが好ましい。

また、相互容量検出型の静電容量式タッチパネルであることが好ましい。

本発明によれば、複数の導体線を交差させることで網目状の第１電極及び第２電極を形成しているので、希少金属であるインジウムの使用を避けることができ、ＩＴＯを用いるよりも基材上に形成される電極パターンの低抵抗化を図ることができ、かつ、電極パターンの視認性も向上させることができるので、静電容量式のタッチパネルとして好適に用いることができる。また、第１電極及び第２電極のいずれもが基材の一方面に形成されているので、タッチパネルの構造の簡略化と全体的な厚み・重さの軽減（薄型化・軽量化）を実現できるという優位性を有する。さらに、各電極セルに接続された各配線を、互いに交差することなく基材の周縁領域に向けて引き出し、所定の配線同士を結合しているので、基材のセンサ領域は、単純な構造を有し、単一のフォトリソグラフィ又は他の印刷方法を用いて基板上に直接形成可能である。よって、タッチパネル製造のための工程を少なくすることができ、製造プロセスが単純になるので、タッチパネルを効率よく製造することができるうえ、製造コストを低くすることができる。

本発明の一実施形態に係るタッチパネルの平面図である。 図１の概略断面図である。 図１の一部分を拡大して示す平面図である。 本発明の他の実施形態に係るタッチパネルの平面図である。 図４の一部分を拡大して示す平面図である。 本発明の他の実施形態に係るタッチパネルの一部分を拡大して示す平面図である。

以下、本発明の実態形態について添付図面を参照して説明する。尚、各図面は、構成の理解を容易にするため、実寸比ではなく部分的に拡大又は縮小されている。

図１は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルの平面図である。図２は、図１の概略断面図である。図３は、図１の一部分を拡大した平面図である。本実施形態に係るタッチパネル１は、静電容量式のタッチパネルであり、より具体的には、相互容量検出型の静電容量式のタッチパネルである。この種のタッチパネル１は、透明な基材２と、基材２の一方面Ｔ側に設けられた複数列の帯状の第１電極３及び複数列の帯状の第２電極４とを備えており、一方の第１電極３に駆動電圧を印加し、他方の第２電極４により指との間の静電容量の変化を検知して第２電極４によりＹ位置を検知し、第１電極３によりＸ位置を検知する。相互容量検出型のタッチパネルは、操作者がタッチパネルのセンサ領域Ｒ内で同時に多点のタッチ操作を行うマルチタッチを行った場合でも、各タッチ位置の検出を正確に行うことができるため、自己容量検出型のタッチパネルよりも好ましい方式である。このようなタッチパネル１は、例えば、銀行端末（キャッシュディスペンサー）、券売機、携帯電話、スマートフォン、タブレットデバイス、ノート型パソコン、ディスプレイ一体型パソコン、カーナビゲーションシステム、ゲーム機器、ＰＯＳ端末などの表示装置に取り付けられて使用される。

基材２は、誘電体基材である。基材２の材料は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンナフタレートなどの透明材料が挙げられる。基材２の厚みは１０μｍ〜２０００μｍ程度が好ましい。また、これらの材料を多層に積層してもよい。また、基材２の表面及び裏面に、表面及び裏面の保護のためのハードコート層や、反射防止層、防汚層、アンチブロッキング層、受容層などの機能層を設けたり、プラズマ処理などを施したりしてもよい。基材２は、指や導電性のペンなどでタッチされる可能性のある中央のセンサ領域Ｒと、センサ領域Ｒを取り囲む周縁領域Ｃとを有している。複数列の第１電極３及び第２電極４は、センサ領域Ｒ内に配置されている。

第１電極３は、基材２の一方面Ｔの第１方向（図示例では左右のＹ方向）に所定間隔をあけて列を成して配置されており、隣接する第１電極３間は電気的に絶縁されている。各列の第１電極３は、それぞれ複数の第１電極セル３０を備えている。一方、第２電極４は、基材２の一方面Ｔの前記第１方向（Ｙ方向）と垂直に交差する第２方向（図示例では上下のＸ方向）に所定間隔をあけて列を成して配置されており、隣接する第２電極４間が電気的に絶縁されている。各列の第２電極４は、それぞれ複数の第２電極セル４０を備えている。なお、本実施形態では、第１方向（Ｙ方向）及び第２方向（Ｘ方向）は直交しているが、直交しない角度で基材２の一方面Ｔ上に第１電極３及び第２電極４を配置することもできる。

複数の第１電極セル３０は、基材２の一方面Ｔの第２方向（Ｘ方向）に等間隔で配置されている。第１電極セル３０は、Ｘ方向に対して斜め方向（Ｕ方向又はＶ方向）を向く２種類の導体線Ｌ１，Ｌ２（図３に示す）を複数交差させることによって網目状に形成されており、複数の格子Ｋが組み合わされた形状である。格子Ｋは、図示例では正方形状であるが、これに限られるものではなく菱形状など任意の形状であってもよい。導体線Ｌ１，Ｌ２の線幅は、例えば１μｍ〜３０μｍ程度であり、好ましくは１μｍ〜１５μｍ程度である。また、導体線Ｌ１，Ｌ２のピッチは、例えば５０μｍ〜５００μｍ程度である。また、導体線Ｌ１，Ｌ２の厚みは、例えば０．１μｍ〜１０μｍ程度である。このような寸法を有する第１電極セル３０は、導体線Ｌ１，Ｌ２の線幅が非常に細く、線幅に対するピッチが十分に大きいため目立ちにくい。

複数の第２電極セル４０は、基材２の一方面Ｔの第１方向（Ｙ方向）に等間隔で配置されている。第１電極セル３０及び第２電極セル４０の外形は、本実施形態では菱形状であり、第２電極セル４０は、基材２の一方面Ｔ上に設けられた第１電極セル３０と重ならないように第１電極セル３０が存在しない空いたスペースを埋めるように設けられる。これにより、基材２のセンサ領域Ｒは、複数の第１電極セル３０及び複数の第２電極セル４０が敷き詰められた状態となる。また、センサ領域Ｒには、敷き詰められた各電極セル３０，４０の間を延びる隙間Ｓ１，Ｓ２が設けられている。各隙間Ｓ１，Ｓ２は、Ｘ方向に対して斜め方向のＵ方向及びＶ方向にそれぞれ延びて周縁領域Ｃまで達している。第２電極セル４０も、第１電極セル３０と同様に、２種類の導体線Ｌ１，Ｌ２を複数交差させることによって網目状に形成されている。この第２電極セル４０の導体線Ｌ１，Ｌ２は、第１電極セル３０の導体線Ｌ１，Ｌ２と同じ線幅、ピッチ、厚みであり、第２電極セル４０は、第１電極セル３０と同形状の格子Ｋが複数組み合わされた形状である。第２電極セル４０の導体線Ｌ１，Ｌ２は、第１電極セル３０の導体線Ｌ１，Ｌ２と同じ材料で形成されている。これにより、第２電極セル４０を、第１電極セル３０と一括して基材２の一方面Ｔ上に形成できるので、効率よく形成することが可能である。

なお、第１電極セル３０及び第２電極セル４０の外形は、必ずしも菱形状である必要はなく、第１電極セル３０と第２電極セル４０との間で絶縁性が確保され、指などの接触ポイントを検出可能である限り、任意の形状とすることができる。

また、上記した説明において、網目状とは、導体線Ｌ１，Ｌ２が交点を有するように交差していることに加えて、線が交わる部分において少なくとも一方の線が断続しているために線と線とが交点を有さないが交差していること（略網目状）も含んでいる。

上記導体線Ｌ１，Ｌ２は、それぞれ表示装置（図示せず）のブラックマトリクスに対して斜め方向（Ｘ方向ないしはＹ方向に対して傾斜するＵ方向又はＶ方向）を向いていることが好ましい。導体線Ｌ１，Ｌ２がブラックマトリクスと同方向を向いていると、モアレが発生しやすいため、これにより、モアレの発生を防止している。この理由から、後述する配線５や補助線６もブラックマトリクスに対して傾斜することとなる。

上記導体線Ｌ１，Ｌ２は、例えばフォトリソグラフィを使用して基材２上に形成することができる。例えば、基材２の一方面Ｔ上に銅や銀などの金属薄膜を成膜した後、金属薄膜の表面に感光性レジストを薄く塗布し加熱する。レジストの塗布面にパターンマスクを配置し、その上から紫外線を所定時間照射して露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを作製する。そして、現像液を用いて未露光の部分のレジストを除去してレジストパターンを形成し、金属薄膜の露出部分に対してエッチングを行って基材２上から除去し、基材２上に導体線Ｌ１，Ｌ２の配線パターンを形成する。その後、金属薄膜上の余分なレジストを除去することで、導体線Ｌ１，Ｌ２が形成される。金属薄膜の成膜は、スパッタリングや真空蒸着などの成膜方法で行われる。また、エッチングは、酸や酸化剤などによる湿式エッチング、又は、レーザーアブレーションや腐食性ガスを用いた乾式エッチングで行われる。

なお、導体線Ｌ１，Ｌ２の形成時には、導体線Ｌ１，Ｌ２の経年劣化を防止するために防錆層を表面に設けることが好ましい。防錆層は、例えば、基材２の一方面Ｔ上に金属薄膜を形成する際に、金属薄膜の表面にニッケル銅（ＮｉＣｕ）などの防錆作用を有する金属を薄膜として堆積させることで、形成することができる。

また、導体線Ｌ１，Ｌ２の形成時には、メッシュ状にパターニングされる第１及び第２電極セル３０，４０のインビジブル性（電極有／無の差異が見えにくい）を悪化させる金属光沢を抑えるために黒化処理を行うことが好ましい。この黒化処理は、例えば、基材２の一方面Ｔ上に金属薄膜を形成する際に、基材２の一方面Ｔ又は基財２の一方面Ｔに成膜された金属薄膜の表面を、黒色などの光の反射を抑制可能な低反射色に変色させることで行うことができる。基材２の一方面Ｔや金属薄膜の表面は、例えば金属薄膜をスパッタリングや真空蒸着などで基材２の一方面Ｔに成膜する時に、酸素や窒素などのガスをチャンバー内に流し、金属の酸化や窒化により生成される生成物質を薄膜として、金属薄膜の最下層又は最表層に堆積させることで、黒色などの低反射色に変色させることができる。これにより、エッチング及びレジスト除去後の導体線Ｌ１，Ｌ２は、黒化処理により形成された黒化層を、その表面又は裏面（基材２との境界面）に有する。その結果、導体線Ｌ１，Ｌ２の金属光沢を抑えることができるので、第１及び第２電極セル３０，４０のインビジブル性を良好とすることができる。なお、金属薄膜を基材２の一方面Ｔに成膜する時に、光反射率の低い金属を金属薄膜の表面又は裏面（基材２との境界面）に堆積することで、基材２の一方面Ｔや金属薄膜の表面を黒色などの低反射色に変色させてもよい。

また、導体線Ｌ１，Ｌ２の形成後、硫酸や水酸化ナトリウム水溶液などの薬液に導体線Ｌ１，Ｌ２の表面を浸漬させて、黒色などの低反射色に変色させることでも、黒化処理を行うことができる。その他、めっきなどにより、導体線Ｌ１，Ｌ２上に、酸化銅などの光反射率が低い酸化物などを堆積させることでも、黒化処理を行うことができる。

なお、導体線Ｌ１，Ｌ２の形成方法としては、上記以外のフォトリソグラフィを使用してもよい。例えば、銀インクのような感光性を有する導電性インクを用いたフォトリソグラフィによっても、導体線Ｌ１，Ｌ２を形成することができる。また、フォトリソグラフィによる方法に限定されず、銀、金、白金、パラジウム、銅、カーボンなどの極微細な導電性粒子を含む導電性インクや、ＰＥＤＯＴ・ＰＳＳのような透明導電性樹脂を基材２上にスクリーン印刷やグラビア印刷、インクジェット印刷などの公知の印刷方法を用いて細線パターン状に印刷することでも、導体線Ｌ１，Ｌ２を形成することもできる。

各第１電極セル３０及び各第２電極セル４０には、線状の配線５が接続されている。各配線５は、各第１電極セル３０又は各第２電極セル４０から基材２の周縁領域Ｃまで互いに交差することなく延びるように引き出されている。本実施形態では、周縁領域Ｃに隣接する各第１電極セル３０及び各第２電極セル４０（すなわち、帯状の各第１電極３及び各第２電極４の両端に配置された各第１電極セル３０及び各第２電極セル４０）に接続された配線５は、センサ領域Ｒの外側に配置されてそのまま周縁領域Ｃを延びている。一方、その他の各第１電極セル３０及び各第２電極セル４０に接続された配線５は、第１電極セル３０と第２電極セル４０との間の隙間Ｓ１，Ｓ２を延びて周縁領域Ｃまで引き出されている。例えば、図１及び図３では、各配線５は、各電極セル３０，４０の上側の端部から、各電極セル３０，４０の上方において隣接する隙間Ｓ１，Ｓ２のうち、Ｕ方向に延びる隙間Ｓ１に引き出され、この隙間Ｓ１を周縁領域Ｃまで直線状に延びている。また、各配線５は、この隙間Ｓ１を直線状に延びる際、各電極セル３０，４０と接触することがないように、第１電極セル３０及び第２電極セル４０の導体線Ｌ１，Ｌ２のうち、Ｕ方向に延びる導体線Ｌ１と平行に延びており、かつ、他の電極セル３０，４０から引き出された配線５と交差することがないように、互いに間隔をあけて平行に延びている。なお、平行とは、完全な平行に加え、平行から僅かに傾いた状態も含んでいる。配線５の線幅は、例えば１μｍ〜３０μｍ程度であり、好ましくは１μｍ〜１５μｍ程度である。また、配線５のピッチは、例えば５０μｍ〜５００＊＊μｍ程度である。また、配線５の厚みは、例えば０．１μｍ〜１０μｍ程度である。

なお、図１及び図３では、各配線５は、各電極セル３０，４０から隙間Ｓ１を左斜め上方に向かって延びて周縁領域Ｃまで引き出されているが、隙間Ｓ１を右斜め下方に向かってＵ方向に延びる導体線Ｌ１と平行に延びて周縁領域Ｃまで交差することなく引き出されていてもよく、また、Ｖ方向に延びる隙間Ｓ２を左斜め下方又は右斜め上方に向けて、Ｖ方向に延びる導体線Ｌ２と平行に延びて周縁領域Ｃまで交差することなく引き出されていてもよい。また、各配線５は一方向に延びる直線状である必要はなく、互いに交差することがないうえ各電極セル３０，４０と接触することがなければ、隙間Ｓ１，Ｓ２をジグザグ状に延びて周縁領域Ｃまで引き出されていてもよい。つまり、各配線５同士が互いに交差することなく、かつ、各電極セル３０，４０と接触することがなければ、各配線５を周縁領域Ｃまで引き出す方法は特に限定されるものではなく、種々の方法を採用することができる。

周縁領域Ｃまで引き出された各配線５は、例えばフレキシブルプリント基板などのコネクタ７により他の所定の配線５と電気的に結合されている。具体的には、複数列の第１電極３について、それぞれの列毎に第１電極３を構成する複数の第１電極セル３０が同電位を有するように、また、複数列の第２電極４について、それぞれの列毎に第２電極４を構成する複数の第２電極セル４０が同電位を有するように、同じ列をなす全ての第１電極セル３０から引き出される配線５同士及び同じ列をなす全ての第２電極セル３０から引き出される配線５同士が、周縁領域Ｃにおいてコネクタ７により電気的に結合されている。例えば、図１及び図３に示すように、Ｙ方向に列を成して配置される第１電極３について、左側から順にα列、β列、γ列、δ列とし、Ｘ方向に列を成して配置される第２電極４について、上側から順にａ列、ｂ列、ｃ列、ｄ列、ｅ列とする。この場合に、基材２の周縁領域Ｃに引き出される各配線５のうち、α列の第１電極３を構成する第１電極セル３０からの配線５（先端にαと記載）同士、β列の第１電極３を構成する第１電極セル３０からの配線５（先端にβと記載）同士、γ列の第１電極３を構成する第１電極セル３０からの配線５（先端にγと記載）同士、δ列の第１電極３を構成する第１電極セル３０からの配線５（先端にδと記載）同士、をそれぞれコネクタ７により結合する。また、ａ列の第２電極４を構成する第２電極セル４０からの配線５（先端にａと記載）同士、ｂ列の第２電極４を構成する第２電極セル４０からの配線５（先端にｂと記載）同士、ｃ列の第２電極４を構成する第２電極セル４０からの配線５（先端にｃと記載）同士、ｄ列の第２電極４を構成する第２電極セル４０からの配線５（先端にｄと記載）同士、ｅ列の第２電極４を構成する第２電極セル４０からの配線５（先端にｅと記載）同士、をそれぞれコネクタ７により結合する。そして、コネクタ７により電気結合された結合配線が、静電容量検出回路（図示省略）に接続されることで、各列の第１電極３及び各列の第２電極４と静電容量検出回路（図示省略）とが電気的に接続される。なお、図示例では、第１電極３が４列、第２電極４が５列であるが、各電極３，４ともにこれよりも多くても少なくともいいのは言うまでもない。

各配線５は、導体線Ｌ１，Ｌ２と一緒に上記方法で基材２の一方面Ｔ上に形成してもよいし、導体線Ｌ１，Ｌ２を形成した後、導電インクを例えばスクリーン印刷などの公知の印刷方法を用いて基材２の一方面Ｔ上に細線状に印刷することで形成してもよい。ただし、各配線５を、導体線Ｌ１，Ｌ２と同じ材料で一括して基材２の一方面Ｔ上に形成すれば、効率よく形成することが可能である。

上記構成のタッチパネル１において、タッチ位置の検出方法は、従来の静電容量式のタッチパネルと同様であり、第１電極セル３０及び第２電極セル４０の接触位置において人体の静電容量に基づく電圧等の変化を検出することによって、接触位置の座標が演算される。

本実施形態に係るタッチパネル１においては、複数の導体線Ｌ１，Ｌ２を交差させることで網目状の電極３，４を形成しているので、希少金属であるインジウムの使用を避けることができ、ＩＴＯを用いるよりも基材２上に形成される電極パターンの低抵抗化を図ることができ、かつ、電極パターンの視認性も向上させることができるので、静電容量式のタッチパネルとして好適に用いることができる。また、第１電極３及び第２電極４のいずれもが基材２の一方面Ｔに形成されているので、タッチパネル１の構造の簡略化と全体的な厚み・重さの軽減（薄型化・軽量化）を実現できるという優位性を有する。

また、各電極セル３０，４０に接続された各配線５を、互いに交差することなく基材２の周縁領域Ｃに向けて引き出し、所定の配線５同士を結合して静電容量検出回路（図示省略）と電気接続しているので、基材２のセンサ領域Ｒは、単純な構造を有し、単一のフォトリソグラフィ又は他の印刷方法を用いて基板２上に直接形成可能である。よって、タッチパネル製造のための工程を少なくすることができ、製造プロセスが単純になるので、タッチパネル１を効率よく製造することができるうえ、製造コストを低くすることができる。

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の具体的な態様は上記実施形態に限定されない。例えば、図４及び図５に示すように、基材２の一方面Ｔのセンサ領域Ｒにおいて、隣接する第１電極セル３０と第２電極セル４０との間のうち、配線５が設けられていない領域（本実施形態では隙間Ｓ２）に、各電極セル３０，４０とは電気的に独立した補助線６が複数本設けてもよい。複数の補助線６は、導体線Ｌ１，Ｌ２及び配線５とは接続されないように、配線５（及び導体線Ｌ１）と同方向（Ｕ方向）を向くように延びており、互いに間隔をあけて平行に設けられている。補助線６同士のピッチは、配線５同士のピッチと等しいことが好ましい。これにより、第１電極セル３０と第２電極セル４０との隙間が補助線６で補完され、配線５を目立ちにくくすることができるので、タッチパネル１の視認性を向上させることができる。補助線６の線幅は、配線５と同じであることが好ましいが、異なっていてもよく、例えば１μｍ〜３０μｍ程度であり、好ましくは１μｍ〜１５μｍ程度である。また、補助線６の厚みは、例えば０．１μｍ〜１０μｍ程度である。なお、隣接する第１電極セル３０と第２電極セル４０との隙間のうち、配線５が設けられている領域（本実施形態では隙間Ｓ１）についても、配線５及び導体線Ｌ１，Ｌ２（各電極セル３０，４０）と接続しないように、配線５と平行に１又は複数の補助線６を設けてもよい（図３についても同様）。これにより、基材２の一方面Ｔのセンサ領域Ｒにおいて、配線５の密度が低い箇所について補助線６で補完することで、配線５によるパターンを一様にできるので、タッチパネル１の視認性をさらに向上させることができる。また、補助線６を配線５とともに設けることで、配線５及び補助線６により平行に並べられる線同士のピッチを、導体線Ｌ１（Ｌ２）のピッチと同じとすることができる。これにより、タッチパネル１の視認性をさらに向上させることができる。なお、図３及び図５においては、補助線６を配線５よりも太く図示しているが、これは、補助線６を容易に判別できるようにしているためであり、配線５及び補助線６の線幅は同じであることが好ましい。

また、図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、少なくとも一部の配線５に、当該配線５と交差する方向（Ｖ方向）に延びる第１模造線８を複数設けてもよい。なお、図６（ｂ）及び図６（ｃ）は、図６（ａ）の領域Ａを抜き出して拡大した図である。第１模造線８と、この第１模造線８を挟む２つの配線５（第１模造線８が設けられる配線５に隣接する２つの配線５）との間には、両者が電気接続しないように隙間が形成される。図６（ｂ）及び図６（ｃ）では、説明のため隙間を大きめに描写しているが、隙間を小さくする方が視認性の観点からは好ましい。各第１模造線８は、同じ線（仮想線Ｉ）上に他の第１模造線８が位置するように配置されているとともに、この線（仮想線Ｉ）が導体線Ｌ２（又はＬ１）同士のピッチと等しいピッチをあけて平行に複数設けられるように配置されているのが好ましい。例えば、図６（ｂ）では、間隔をあけてＶ方向に複数並べられた配線５のうち一つ置きの配線５に対して、各配線５の長さ方向（Ｕ方向）に導体線Ｌ２（又はＬ１）同士のピッチと等しいピッチをあけて第１模造線８を複数設けるようにする。なお、図６（ｂ）においては、配線５を補完するために設けられた配線５と平行に延びる補助線６に対しても第１模造線８を複数設けている。また、図６（ｃ）では、間隔をあけてＶ方向に複数並べられた配線５の全てに対して、各配線５の長さ方向（Ｕ方向）に導体線Ｌ２（又はＬ１）同士のピッチの２倍のピッチをあけて第１模造線８を複数設けるとともに、隣接する配線５の間においては、第１模造線８が互い違いに配置されるように設ける。これにより、複数の第１模造線８が、導体線Ｌ２（又はＬ１）同士のピッチと等しいピッチを有する複数の仮想線Ｉ上に設けられる。なお、図６（ｃ）においても、配線５を補完するために設けられた配線５と平行に延びる補助線６に対しても第１模造線８を複数設けている。

このように、第１模造線８を所定の配線５（及び補助線６）と交差するように配置することで、各配線５（及び補助線６）と各第１模造線８とによって、略網目状パターンが形成される。すなわち、第１電極セル３０と第２電極セル４０との隙間に、周りの第１電極セル３０及び第２電極セル４０の網目状パターンと近い形状の略網目状パターンが形成される。第１電極セル３０と第２電極セル４０との隙間に、略網目状パターンが形成されると、第１電極セル３０及び第２電極セル４０の網目状パターンを目立ちにくくすることができるので、タッチパネル１の視認性を向上させることができる。なお、配線５に対する第１模造線８の設け方は、図６（ｂ）や図６（ｃ）の方法に限定されるものではなく、間隔をあけて配置された各配線５を電気接続しなければ種々の方法を採用することができる。第１模造線８の線幅は、配線５や補助線６と同じであることが好ましいが、異なっていてもよく、例えば１μｍ〜３０μｍ程度であり、好ましくは１μｍ〜１５μｍ程度である。また、第１模造線８の厚みは、例えば０．１μｍ〜１０μｍ程度である。

さらに、補助線６に対しても、補助線６と交差する方向（Ｖ方向）に延びる第２模造線９を複数設けてもよい。第２模造線９は、配線５や導体線Ｌ１，Ｌ２と電気接続されなければ、その長さは限定されるものではない。例えば、第１模造線８のような所定の長さ（第２模造線９が設けられる補助線６に隣接する２つの補助線６との間に位置する程度の長さ）とし、第１模造線８を各配線５に設けるのと同様の方法（例えば図６（ｂ）や図６（ｃ））で、各補助線６に設けてもよい。つまり、複数の第２模造線９を、導体線Ｌ２（又はＬ１）同士のピッチと等しいピッチを有する複数の仮想線Ｉ上に設けられるように配置し、所定の補助線６と交差させることで、各補助線６及び各第２模造線９によって、略網目状パターンを形成する。また、第２模造線９の長さを全ての補助線６と交差する長さとし、複数の第２模造線９を各補助線６の長さ方向に導体線Ｌ２（又はＬ１）同士のピッチと等しいピッチをあけて互いに平行となるように設けるようにしてもよい。この場合には、各補助線６及び各第２模造線９によって網目状パターンが形成される。このようにして、第１電極セル３０と第２電極セル４０との隙間に、周りの第１電極セル３０及び第２電極セル４０の網目状パターンと近い形状の略網目状パターンないしは網目状パターンが形成されると、第１電極セル３０及び第２電極セル４０の網目状パターンを目立ちにくくすることができるので、タッチパネル１の視認性をさらに向上させることができる。第２模造線９の線幅は、配線５や補助線６と同じであることが好ましいが、異なっていてもよく、例えば１μｍ〜３０μｍ程度であり、好ましくは１μｍ〜１５μｍ程度である。また、第２模造線９の厚みは、例えば０．１μｍ〜１０μｍ程度である。

各補助線６、各第１模造線８及び第２模造線９は、導体線Ｌ１，Ｌ２と一緒に上記方法で基材２の一方面Ｔ上に形成してもよいし、導体線Ｌ１，Ｌ２を形成した後、導電インクを例えばスクリーン印刷などの公知の印刷方法を用いて基材２の一方面Ｔ上に細線状に印刷することで形成してもよい。ただし、各配線５を、導体線Ｌ１，Ｌ２と同じ材料で一括して基材２の一方面Ｔ上に形成すれば、効率よく形成することが可能である。

上記した各実施形態においては、導体線Ｌ１，Ｌ２や配線５、補助線６、模造線８，９は真っ直ぐな直線状であるが、波のような形の波形状や鋸の歯のような形の鋸歯状など、種々の形状とすることができる。また、上記実施形態においては、補助線６や模造線８，９を設けているが、必ずしも設ける必要はない。

また、上記実施形態において、各電極３，４の両端部間での導通性を阻害しない範囲で、各電極セル３０，４０を構成する複数の導体線Ｌ１，Ｌ２に対して、導体線Ｌ１，Ｌ２を切断する切断部を部分的に設けてもよい。導体線Ｌ１，Ｌ２と配線５との間や、導体線Ｌ１，Ｌ２と補助線６との間、その他にも配線５、補助線６と第１模造線８、第２模造線９との間には隙間が形成されているため、各電極セル３０，４０にこのような切断部を設けることにより、電極パターン全体に対して一様に線が途切れる断続部（空白部）が発生する。よって、光線透過率が向上するとともに、電極パターンの見た目をより均一にできるので、視認性をさらに向上させることができる。このような切断部は、網目状の各電極３０，４０を形成する複数の導体線Ｌ１，Ｌ２の交差部に形成されていてもよいし、交差部とは異なる場所に形成されていてもよい。

１ タッチパネル
２ 基材
３ 第１電極
４ 第２電極
５ 配線
６ 補助線
８ 第１模造線
９ 第２模造線
３０ 第１電極セル
４０ 第２電極セル
Ｒ センサ領域
Ｃ 周縁領域
Ｌ１，Ｌ２ 導体線

Claims (9)

1. 基材と、前記基材の一方面側の第１方向に間隔をあけて配置される複数列の第１電極と、前記基材の一方面側の前記第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置される複数列の第２電極と、を備え、表示装置の前面に取り付けられるタッチパネルであって、
   前記基材は、前記第１電極及び前記第２電極が配置されるセンサ領域と、前記センサ領域の周囲に設けられる周縁領域と、を有し、
   前記第１電極は、複数の導体線を交差させることで形成されかつ前記第２方向に間隔をあけて配置された複数の第１電極セルを有し、
   前記第２電極は、複数の導体線を交差させることで形成されかつ前記第１方向に間隔をあけて配置された複数の第２電極セルを有し、
   前記第１電極セル及び前記第２電極セルには、配線が接続され、
   前記配線は、互いに交差することなく前記周縁領域に向けて引き出され、同列の前記第１電極セルから引き出される配線同士及び同列の前記第２電極セルから引き出される配線同士が電気的に結合されているタッチパネル。
2. 前記配線は、少なくとも前記第１電極セルと前記第２電極セルとの間を延びる部分が、一部の前記導体線と平行である請求項１に記載のタッチパネル。
3. 前記第１電極セルと前記第２電極セルとの間には、前記導体線及び前記配線とは接続されない補助線が複数設けられ、前記補助線は前記配線と平行である請求項１又は２に記載のタッチパネル。
4. 少なくとも一部の前記配線には、当該配線と交差し、当該配線に隣接する前記配線及び前記導体線とは接続されない第１模造線が設けられている請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル。
5. 少なくとも一部の前記補助線には、当該補助線と交差し、前記配線及び前記導体線とは接続されない第２模造線が設けられている請求項３又は請求項３を引用する請求項４に記載のタッチパネル。
6. 前記第１模造線及び前記第２模造線の少なくとも一方は、前記導体線同士のピッチと等しいピッチを有する複数の線上に位置するように配置されている請求項４を引用する請求項５に記載のタッチパネル。
7. 前記導体線の方向が表示装置のブラックマトリクスに対して斜め方向である請求項１〜６のいずれかに記載のタッチパネル。
8. 前記第１電極及び前記第２電極は、両端部間の導通性を阻害しない範囲で前記導体線を切断する切断部を備える請求項１〜７のいずれかに記載のタッチパネル。
9. 相互容量検出型の静電容量式タッチパネルである請求項１〜８のいずれかに記載のタッチパネル。