JP2015225654A - タッチセンサ - Google Patents

タッチセンサ Download PDF

Info

Publication number
JP2015225654A
JP2015225654A JP2014187624A JP2014187624A JP2015225654A JP 2015225654 A JP2015225654 A JP 2015225654A JP 2014187624 A JP2014187624 A JP 2014187624A JP 2014187624 A JP2014187624 A JP 2014187624A JP 2015225654 A JP2015225654 A JP 2015225654A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pattern
pattern
touch sensor
electrode
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014187624A
Other languages
English (en)
Inventor
ホ パク,ジャン
Jang-Ho Park
ホ パク,ジャン
シック キム,ヨン
Yong Suk Kim
シック キム,ヨン
リョル イム,ジョン
Jung Ryoul Yim
リョル イム,ジョン
ヒュン ジャン,イン
In Hyun Jang
ヒュン ジャン,イン
ホ パク,ド
Doo Ho Park
ホ パク,ド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electro Mechanics Co Ltd filed Critical Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Publication of JP2015225654A publication Critical patent/JP2015225654A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412Digitisers structurally integrated in a display

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

【課題】金属で電極パターンを形成する場合、外部からの光の流入による反射により電極パターンが視認されることを防止することで、電極パターンの視認を低減するとともに、タッチセンサの感度を向上させることができるタッチセンサを提供する。【解決手段】本発明のタッチセンサは、ウィンドウ基板10と、ウィンドウ基板10上に形成された低反射層30と、低反射層30上に形成された第1電極パターン21と、第1電極パターン21上に形成された絶縁層40と、絶縁層40上に形成され、且つ第1電極パターン21と交差するように形成された第2電極パターン22と、を含み、低反射層30は、第1電極パターン21と第2電極パターン22とが重なったパターンに対応するように形成されるものである。【選択図】図1

Description

本発明は、タッチセンサに関する。
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、携帯用送信装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置(Input Device)を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。
入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置として、タッチパネル(touch Panel)が開発された。
また、タッチセンサの種類は、抵抗膜方式(Resistive Type)、静電容量方式(Capacitive Type)、電磁方式(Electro−Magnetic Type)、表面弾性波方式(SAW Type;Surface Acoustic Wave Type)及び赤外線方式(Infrared Type)に区分される。
このような多様な方式のタッチセンサは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在、もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチセンサ及び静電容量方式タッチセンサである。
一方、特許文献1のように、金属を用いてタッチパネルの電極パターンを形成しようとする研究が活発に行われている。このように金属で電極パターンを形成する場合、優れた電気伝導度を有し、需給が円滑であるという利点がある。
特開2011−175967号公報
本発明は、上述の従来技術の問題点を解決するためのものであって、金属で電極パターンを形成する場合、外部からの光の流入による反射により電極パターンが視認されることを防止することで、電極パターンの視認を低減するとともに、タッチセンサの感度を向上させることができるタッチセンサを提供することをその目的とする。
本発明の一実施例によるタッチセンサは、ウィンドウ基板と、前記ウィンドウ基板上に形成された低反射層と、前記低反射層上に形成された第1電極パターンと、前記第1電極パターン上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、且つ前記第1電極パターンと交差するように形成された第2電極パターンと、を含み、前記低反射層は、前記第1電極パターンと前記第2電極パターンとが重なったパターンに対応するように形成されるものである。
本発明の一実施例によれば、低反射層によりタッチセンサの電極パターンの視認を低減させることで、タッチセンサの視認性を向上させることができる。
また、第1電極パターンの感知電極のピッチ及び第2電極パターンの駆動電極のピッチが均一な幅を有するように形成することで、タッチセンサの作動性能を効果的に発揮することができるだけでなく、感知電極及び駆動電極の各パターンを全て含むパターンに低反射層を形成することで、ユーザによる視認を低減させることができる。
また、タッチセンサの最外側のウィンドウ基板上に低反射層を形成することができる。
また、タッチセンサの電極パターンをメッシュパターンに形成することで、タッチセンサの感度を向上させるとともに、電極パターンの視認性をより効果的に確保することができる。
本発明の一実施例によるタッチセンサの断面図である。 本発明の一実施例によるタッチセンサの第1電極パターンの平面図である。 本発明の一実施例によるタッチセンサの第2電極パターンの平面図である。 本発明の一実施例による重なった電極パターンを示した平面図である。 本発明の一実施例によるタッチセンサの低反射層のパターンを示した平面図である。
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第1」、「第2」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施例によるタッチセンサの断面図であり、図2は、本発明の一実施例によるタッチセンサの第1電極パターン21の平面図であり、図3は、本発明の一実施例によるタッチセンサの第2電極パターン22の平面図であり、図4は、本発明の一実施例による重なった電極パターン20の平面図であり、図5は、本発明の一実施例によるタッチセンサの低反射層30のパターンを示した平面図である。
本発明の一実施例によるタッチセンサは、ウィンドウ基板10と、前記ウィンドウ基板10上に形成された低反射層30と、前記低反射層30上に形成された第1電極パターン21と、前記第1電極パターン21上に形成された絶縁層40と、前記絶縁層40上に形成され、且つ前記第1電極パターン21と交差するように形成された第2電極パターン22と、を含み、前記低反射層30は、前記第1電極パターン21と前記第2電極パターン22とが重なったパターンに対応するように形成されるものである。
ウィンドウ基板10は、図1に図示されたように、タッチセンサの最外層に形成され、ユーザによりタッチされる領域を含む。ウィンドウ基板10は、通常、タッチセンサの内部の電極を保護するために、強化ガラスなどで形成することができ、通常の基板に加えて、ハードコーティングやその他の絶縁コーティングにより形成することができる。特に、本発明の一実施例として、ウィンドウ基板10がタッチセンサの最外側に配置され、タッチされる活性領域とともにベゼル層11を有する非活性領域を含む場合を説明するが、ウィンドウ基板10に結合される別の透明なベース基板として説明され得ることは、当業者により容易に理解することができる。
特に、別の透明なベース基板(不図示)を用いる場合、その材質としては、所定以上の強度を有するものであれば特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルフォン(PES)、環状オレフィンコポリマー(COC)、トリアセチルセルロース(Triacetylcellulose;TAC)フィルム、ポリビニルアルコール(Polyvinyl alcohol;PVA)フィルム、ポリイミド(Polyimide;PI)フィルム、ポリスチレン(Polystyrene;PS)、二軸延伸ポリスチレン(K樹脂含有biaxially oriented PS;BOPS)、ガラスまたは強化ガラスなどを選択的に用いることができる。また、ベース基板の一面に電極パターン20を形成する場合には、ベース基板と電極パターン20との接着力を向上させるために、ベース基板の一面に高周波処理またはプライマ(primer)処理などを施して表面処理層を形成することができる。
先ず、ウィンドウ基板10の一面に低反射層30を形成することができる。低反射層30は、後述する電極パターン20が形成される場合、電極パターン20が不透明な金属電極で形成することにより、電極パターンがユーザに視認される問題点を解決するためのものである。特に、電極パターン20が金属メッシュパターンで構成される場合には、金属による光の反射作用によって電極パターン20がさらにユーザに認識されやすいという問題点があった。したがって、本発明の一実施例によれば、低反射層30を、後述する電極パターン20のパターンと同一のパターンに予め形成することで、外部からの光の流入による金属電極パターン20の反射によって金属電極パターン20がユーザに視認されることを低減させることができる。
また、低反射層30は、積層された電極パターン20間の電気的な短絡を防止するために、絶縁パターンに形成することができる。低反射層30を絶縁パターンに形成することで、タッチセンサの電極パターン20間の電気的信頼性を維持することができる。低反射層30は、絶縁パターンに形成するとともに、光による金属の反射を減少させることができる低反射特性を有する材質であれば特に制限されず、様々な種類の絶縁材料を選択的に用いることができる。
低反射層30とともに、ウィンドウ基板10の一面の縁側には、ベゼル層11を形成することができる。ベゼル層11は、電極パターン20の電気的連結のために形成される電極配線(不図示)が外部から視認されることを防止することができる。低反射層30も絶縁パターンに形成されるため、ベゼル層11の形成時に同時に形成することができる。ベゼル層11が絶縁材料で形成されることを考慮して、絶縁特性を有する材質であれば、低反射層30とベゼル層11が同一の材質で形成させることができる。これにより、ベゼル層11及び低反射層30を別に形成することによる工程の複雑化及び低反射層30の形成信頼性の低下を防止することができる。ベゼル層11が形成され、ベゼル層11上に電極配線が形成される際に、電極パターン20と電極配線との電気的連結時に発生するベゼル層11による段差を除去することで、ベゼル層11上に形成された電極配線と電極パターン20との電気的連結時における電気的信頼性を向上させることができる。
さらに、低反射層30は、非導電性の酸化物、窒化物、絶縁インク、またはその組み合わせで形成することができる。
低反射層30の真上に電極パターン20を形成することができる。ここで、電極パターン20は、入力手段のタッチによる信号を発生させ、制御部(不図示)によりタッチ座標が認識されるようにするものであって、一層(1 layer)または二層(2 layer)からなることができる。本発明の一実施例では、図1に図示されたように、二層からなる第1電極パターン21及び第2電極パターン22を含むタッチセンサを図示したが、電極パターン20の層数は特に限定されない。但し、電極パターン20の層数及び形状に応じて、同一のパターンに形成される低反射層30のパターンの形状及び配置が適切に変更され得る。
電極パターン20は、図1に図示されたように、第1電極パターン21と、前記第1電極パターン21と交差する第2電極パターン22と、の二層からなることができる。第1電極パターン21及び第2電極パターン22は、それぞれ感知電極及び駆動電極として機能することができ、少なくとも何れか一つの感知電極と、他の一つの駆動電極と、で構成することができる。但し、ここでは、説明の便宜上、第1電極パターン21を感知電極、第2電極パターン22を駆動電極として説明する。
各電極パターン20の積層時における電気的な絶縁のために、電極パターン20の間に絶縁層40を形成することができる。図1では絶縁層40を図示したが、上述の透明なベース基板として形成され得るということは明白である。電極パターン20は、金属メッシュパターンに形成することができる(図2及び図3参照)。電極パターン20が金属メッシュパターンに形成されるため、不透明な金属により電極パターン20が視認されるという問題が発生し得る。また、金属の一般的な特性に起因する反射度は、外部からの光の流入により電極パターン20がユーザに視認される問題をさらに促進する。
したがって、ユーザに視認されるウィンドウ基板10と電極パターン20との間に、上述の電極パターン20のパターンと同一のパターンに低反射層30を形成することで、電極パターン20の反射による電極パターン20の視認を低減させることができる。
電極パターン20は、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)、またはこれらの組み合わせを用いて、メッシュパターン(Mesh Pattern)に形成することができる。ここで、メッシュパターンは、選択的に、四角形、三角形、ダイヤモンド形、及びその他の様々な形状であることができる。
一方、電極パターン20は、上述の金属の他にも、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀、ITO(Indiumm Thin Oxide)などの金属酸化物や、柔軟性に優れ、コーティング工程が単純なPEDOT/PSSなどの導電性高分子を用いて形成してもよい。
電極パターン20は、乾式工程、湿式工程、またはダイレクト(direct)パターニング工程で形成することができる。ここで、乾式工程は、スパッタリング(Sputtering)、蒸着(Evaporation)などを含み、湿式工程は、ディップコーティング(Dip coating)、スピンコーティング(Spin coating)、ロールコーティング(Roll coating)、スプレーコーティング(Spray coating)などを含み、ダイレクトパターニング工程は、スクリーン印刷法(Screen Printing)、グラビア印刷法(Gravure Printing)、インクジェット印刷法(Inkjet Printing)などを含む。
また、フォトリソグラフィを利用して、基板上の絶縁パターンや電極パターン20上に感光性物質を塗布し、所望のパターンに形成されたマスクを用いて光を照射する。この際、光を受けた感光性物質部分を現像液で除去するか、または光を受けていない部分を現像液で除去するなど、所望のパターンを形成するための現像工程を行う。その後、感光性物質が特定パターンに形成されると、感光性物質をレジストとして残りの部分をエッチング液で除去する。次いで、感光性物質を除去することにより、所望のパターンの絶縁パターンまたは電極パターン20を製作することができる。
本発明の一実施例によるタッチセンサは、電極パターン20の視認を低減させるために、第1電極パターン21及び第2電極パターン22と同一の形状のメッシュパターンに低反射層30を形成することができる(図4及び図5参照)。特に、メッシュ形状の電極パターン20を金属で形成させることを考慮すると、電極パターン20と同一のパターンに低反射層30を形成することで、外部からの光の流入による反射を防止し、電極パターン20の全体的な視認を低減させることができる。ここで、電極パターン20と同一のパターンとは、第1電極パターン21及び第2電極パターン22を形成する際に、第1電極パターン21と第2電極パターン22とが重なる平面上でのパターン(図4参照)と同一のパターン(図5参照)を意味する。
図2に図示されたように、第1電極パターン21のピッチがP1であるメッシュパターンと、図3に図示されたように、第2電極パターン22のピッチがP2であるメッシュパターンとが重なると、図4のように重なったメッシュパターンが形成される。この際、低反射層30は、図5に図示されたように、第1電極パターン21及び第2電極パターン22の両方を含むパターン形状に形成させることができる。図示していないが、メッシュパターンに形成された第1電極パターン21または第2電極パターン22は、複数個の電極パターン20がそれぞれ平行に形成される際に、各電極パターン20間の絶縁のための電気的な短絡部を備えることができる。電気的な短絡部は、電極パターン20の視認性を考慮して、メッシュパターンをなす金属細線を断線させることで形成させることができる。この場合、この断線部が全体的な電極パターン20から目立つことになる問題が発生し得る。しかし、本発明の一実施例では、この断線部なしに連続的に形成された絶縁パターンに低反射層30が形成されることで、ユーザがタッチセンサを視認する視認方向では連続的なパターンとして視認されるため、ユーザに電極パターン20が視認されることを低減させることができる。
本発明の一実施例によれば、第1電極パターン21のピッチP1は、第2電極パターン22のピッチP2より大きく形成することができ、特に、整数倍となるように形成することができる。より好ましくは、第2電極パターン22のピッチP2は、第1電極パターン21のピッチP1の2倍未満となるように形成することができる。第1電極パターン21と第2電極パターン22のピッチ幅の相互関係は、重なった第1電極パターン21及び第2電極パターン22の視認をより低減させるためのものである。さらに、本発明の一実施例によれば、重なった電極パターン20を含む全体的な電極パターン20のメッシュパターンと同一のパターンに低反射層30を形成することで、電極パターン20の視認を低減させることができる。
低反射層30の開口率は、第1電極パターン21及び第2電極パターン22の開口率より小さくなるように形成することができる。具体的に、低反射層30の開口率は、第2電極パターン22の開口率以下であり、第2電極パターン22の開口率は、第1電極パターン21の開口率未満であるように形成することができる。この低反射層30、第1電極パターン21及び第2電極パターン22の開口率の関係により、より好適に電極パターン20の視認を低減させることができる。
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
本発明は、タッチセンサに適用可能である。
10 ウィンドウ基板
11 ベゼル層
20 電極パターン
21 第1電極パターン(電極パターン)
22 第2電極パターン(電極パターン)
30 低反射層
40 絶縁層
P1、P2 ピッチ

Claims (11)

  1. ウィンドウ基板と、
    前記ウィンドウ基板上に形成された低反射層と、
    前記低反射層上に形成された第1電極パターンと、
    前記第1電極パターン上に形成された絶縁層と、
    前記絶縁層上に形成され、且つ前記第1電極パターンと交差するように形成された第2電極パターンと、を含み、
    前記低反射層は、前記第1電極パターンと前記第2電極パターンとが重なったパターンに対応するように形成される、タッチセンサ。
  2. 前記低反射層、前記第1電極パターン、及び前記第2電極パターンは、メッシュパターンに形成される、請求項1に記載のタッチセンサ。
  3. 前記第1電極パターンのピッチが、前記第2電極パターンのピッチより大きいように形成される、請求項2に記載のタッチセンサ。
  4. 前記第1電極パターンのピッチが、前記第2電極パターンのピッチの整数倍となるように形成される、請求項3に記載のタッチセンサ。
  5. 前記低反射層は絶縁パターンに形成されており、
    前記絶縁パターンの外側に、前記ウィンドウ基板の縁に沿って形成されたベゼル層をさらに含む、請求項1に記載のタッチセンサ。
  6. 前記第1電極パターンは感知電極であり、前記第2電極パターンは駆動電極である、請求項2に記載のタッチセンサ。
  7. 前記低反射層は、非導電性の酸化物、窒化物、絶縁インク、またはその組み合わせで形成される、請求項6に記載のタッチセンサ。
  8. 前記低反射層の開口率が、前記第1電極パターン及び前記第2電極パターンの開口率より小さいように形成される、請求項6に記載のタッチセンサ。
  9. 前記低反射層の開口率は、前記第2電極パターンの開口率以下であり、前記第2電極パターンの開口率は、前記第1電極パターンの開口率より小さいように形成される、請求項6に記載のタッチセンサ。
  10. 前記第2電極パターンの開口率が、前記第1電極パターンの開口率の1.05倍より小さいように形成される、請求項8に記載のタッチセンサ。
  11. 前記第2電極パターンのピッチが、前記第1電極パターンのピッチの2倍より小さいように形成される、請求項6に記載のタッチセンサ。
JP2014187624A 2014-05-29 2014-09-16 タッチセンサ Pending JP2015225654A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140065320A KR20150137443A (ko) 2014-05-29 2014-05-29 터치센서
KR10-2014-0065320 2014-05-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015225654A true JP2015225654A (ja) 2015-12-14

Family

ID=54701703

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014187624A Pending JP2015225654A (ja) 2014-05-29 2014-09-16 タッチセンサ

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20150346874A1 (ja)
JP (1) JP2015225654A (ja)
KR (1) KR20150137443A (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105677126B (zh) * 2016-02-04 2020-03-27 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置
KR102338612B1 (ko) 2017-03-06 2021-12-13 후지필름 가부시키가이샤 도전성 부재 및 터치 패널
US10402026B2 (en) * 2017-08-18 2019-09-03 Int Tech Co., Ltd. Conductive mesh and touch sensor
CN111522468B (zh) * 2020-04-28 2021-11-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控显示装置
CN114510167B (zh) * 2020-11-17 2024-04-12 瀚宇彩晶股份有限公司 触控感测面板
TWI831409B (zh) * 2022-10-11 2024-02-01 仁寶電腦工業股份有限公司 觸控面板及其製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8593413B2 (en) * 2010-03-01 2013-11-26 Cando Corporation Sensory structure of capacitive touch panel and capacitive touch panel having the same
JP2012138036A (ja) * 2010-12-28 2012-07-19 Panasonic Corp タッチパネル装置およびこれを備えたプラズマディスプレイ装置
KR101363151B1 (ko) * 2011-09-06 2014-02-14 삼성전자주식회사 터치스크린용 투명 회로 기판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 터치스크린
US9229553B2 (en) * 2012-11-30 2016-01-05 3M Innovative Properties Company Mesh patterns for touch sensor electrodes

Also Published As

Publication number Publication date
US20150346874A1 (en) 2015-12-03
KR20150137443A (ko) 2015-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20140333555A1 (en) Touch sensor and electronic device having the same
JP6013397B2 (ja) タッチセンサ
US9081427B2 (en) Position-sensing panel and method
US20140055380A1 (en) Touch panel
US20130162547A1 (en) Touch screen
JP2015225654A (ja) タッチセンサ
JP2014038580A (ja) タッチパネル
JP2013228986A (ja) タッチパネル
JP2013105488A (ja) タッチパネル
JP2015130145A (ja) タッチセンサ
JP2013025783A (ja) タッチパネル
US20140060901A1 (en) Touch panel
JP5852977B2 (ja) タッチセンサ
KR20130002122A (ko) 터치패널
JP2015153422A (ja) タッチセンサおよびその製造方法
JP2013228985A (ja) タッチパネル
JP2014063467A (ja) タッチパネル製造用素板ガラス及びそれを用いたタッチパネルの製造方法
JP2014063460A (ja) タッチパネル
US20140078111A1 (en) Touch panel
JP2014146308A (ja) タッチパネル
JP2014123371A (ja) タッチパネル及びその製造方法
JP2015018532A (ja) タッチセンサ
JP2014038589A (ja) タッチパネル
JP2013084239A (ja) タッチパネル及びその製造方法
JP2014049111A (ja) タッチパネル