JP6123200B2 - 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 - Google Patents

光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 Download PDF

Info

Publication number
JP6123200B2
JP6123200B2 JP2012206162A JP2012206162A JP6123200B2 JP 6123200 B2 JP6123200 B2 JP 6123200B2 JP 2012206162 A JP2012206162 A JP 2012206162A JP 2012206162 A JP2012206162 A JP 2012206162A JP 6123200 B2 JP6123200 B2 JP 6123200B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
optical semiconductor
semiconductor device
terminal portion
recess
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012206162A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014060369A (ja
Inventor
和範 小田
小田  和範
恵 大石
恵 大石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2012206162A priority Critical patent/JP6123200B2/ja
Publication of JP2014060369A publication Critical patent/JP2014060369A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6123200B2 publication Critical patent/JP6123200B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)

Description

本発明は、光半導体素子を実装する光半導体装置の光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体に関するものである。
従来、LED素子等の光半導体素子は、電気的に絶縁され樹脂層で覆われた2つの端子部を有するリードフレームに固定され、その周囲を透明樹脂層によって覆い、光半導体装置として照明装置等の基板に実装されていた(例えば、特許文献1)。
しかし、このような光半導体装置は、LED素子の発光や、実装した基板の熱によって、樹脂層及びリードフレームがそれぞれ伸びてしまう場合があった。ここで、リードフレームの端子部は、銅等の導電材料から形成され、樹脂層は、熱可塑性樹脂等から形成されているので、両者の線膨張係数の差によって、樹脂層がリードフレームの端子部から剥離してしまう場合があった。
また、特許文献1に記載の光半導体装置と相違して、リードフレームを覆う樹脂層が、リードフレームの厚みとほぼ一致するように形成され、その樹脂層が形成されたリードフレーム上に透明樹脂層が形成される、いわゆるフラットタイプの光半導体素子装置も存在するが、このような装置においては、樹脂層とリードフレームの端子部との接触面積がさらに狭くなるため、上記剥離の発生が顕著になる場合があった。
特開2011−151069号公報
本発明の課題は、樹脂層と端子部との剥離を抑制することができる光半導体素子用リードフレーム、樹脂付き光半導体素子用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体を提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。また、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
第1の発明は、複数の端子部(11、12)を有し、前記端子部のうち少なくとも一つが光半導体素子(2)と接続される光半導体装置(1)に用いられる光半導体用リードフレーム(10)において、前記端子部は、その周縁部に、表面から窪んだ第1凹部(M1)と、裏面から窪んだ第2凹部(M2)とが複数形成され、前記第1凹部及び前記第2凹部は、それぞれの底面(m1、m2)が前記端子部の外周につながっていること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第2の発明は、第1の発明の光半導体装置用リードフレーム(10)において、前記端子部(11、12)は、前記第1凹部(M1)と前記第2凹部(M2)との間の少なくとも1つに、前記端子部の表面と前記第1凹部の底面(m1)とをつなぐ第1傾斜面(n1)と、前記端子部の裏面と前記第2凹部の底面(m2)とをつなぐ第2傾斜面(n2)とを備える傾斜部(N)を有すること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第3の発明は、第2の発明の光半導体装置用リードフレーム(10)において、前記傾斜部(N)は、前記第1傾斜面(n1)と前記端子部(11、12)の表面との境界(L1)が、前記端子部の厚み方向(Z)において、前記第2傾斜面(n2)と前記端子部の裏面との境界(L2)と対向する位置に形成されること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第4の発明は、第2の発明の光半導体装置用リードフレーム(210)において、前記傾斜部(N)は、前記第1傾斜面(n1)と前記第1凹部(M1)の底面(m1)との境界(L3)が、前記端子部(211、212)の厚み方向(Z)において、前記第2傾斜面(n2)と前記端子部の裏面との境界(L4)と対向する位置に形成され、前記第1傾斜面と前記端子部の表面との境界(L5)は、前記端子部の厚み方向において、前記第2傾斜面と前記第2凹部の底面との境界(L6)と対向する位置に形成されること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第5の発明は、第1の発明の光半導体装置用リードフレーム(310)において、前記端子部(311、312)は、前記第1凹部(M1)と前記第2凹部(M2)との間の少なくとも1つに、切り欠き部(P)を有すること、を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
である。
第6の発明は、第1の発明の光半導体装置用リードフレーム(410)において、前記端子部(411、412)は、前記第1凹部(M1)が、前記第2凹部(M2)に対して所定の間隔(Q)を設けて形成されること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第7の発明は、第1の発明の光半導体装置用リードフレーム(510)において、前記端子部(511、512)の表面と前記第1凹部(M1)の底面(m1)との境界(L7)は、前記端子部の厚み方向(Z)において、前記端子部の裏面と前記第2凹部(M2)の低面(m2)との境界(L8)と対向する位置に形成されること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第8の発明は、第1の発明から第7の発明までのいずれかの光半導体装置用リードフレーム(10)において、前記端子部(11、12)は、互いに電気的に独立して配置される一対の端子部から構成されること、を特徴とする光半導体装置用リードフレームである。
第9の発明は、第1の発明から第8の発明までのいずれかの光半導体装置用リードフレーム(10)と、前記光半導体装置用リードフレームと同等の厚みを有し、前記端子部(11、12)の外周、前記第1凹部(M1)、及び、前記第2凹部(M2)に形成される樹脂層(20)とを備えること、を特徴とする樹脂付き光半導体装置用リードフレームである。
第10の発明は、第1の発明から第8の発明までのいずれかの光半導体装置用リードフレーム(10)が枠体に多面付けされていること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第11の発明は、第9の発明の樹脂付き光半導体装置用リードフレームが多面付けされていること、を特徴とする樹脂付きリードフレームの多面付け体である。
第12の発明は、第9の発明の樹脂付き光半導体装置用リードフレームと、前記樹脂付き光半導体装置用リードフレームの前記端子部(11、12)のうち少なくとも一つに接続される光半導体素子(2)と、前記樹脂付き光半導体装置用リードフレームの前記光半導体素子が接続される側の面に形成され、前記光半導体素子を覆う透明樹脂層(30)とを備えること、を特徴とする光半導体装置である。
第13の発明は、第12の発明の光半導体装置(1)が多面付けされていること、
を特徴とする光半導体装置の多面付け体である。
本発明によれば、光半導体素子用リードフレーム、樹脂付き光半導体素子用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体は、樹脂層と端子部との剥離を抑制することができる。
第1実施形態の光半導体装置1の全体構成を示す図である。 第1実施形態のリードフレーム10の詳細を説明する図である。 第1実施形態の光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の詳細を説明する図である。 第1実施形態のリードフレーム10の製造過程を説明する図である。 第1実施形態の多面付けされたリードフレーム、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置1を示す図である。 第1実施形態の光半導体装置1の製造過程を説明する図である。 第2実施形態のリードフレーム210及び光反射樹脂層220が形成されたリードフレーム210を説明する図である。 第3実施形態のリードフレーム310及び光反射樹脂層320が形成されたリードフレーム310を説明する図である。 第4実施形態のリードフレーム410及び光反射樹脂層420が形成されたリードフレーム410を説明する図である。 第5実施形態のリードフレーム510及び光反射樹脂層520が形成されたリードフレーム510を説明する図である。 変形形態の光半導体装置601の全体構成を示す図である。
(第1実施形態)
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
図1は、第1実施形態の光半導体装置1の全体構成を示す図である。
図1(a)、図1(b)は、それぞれ、光半導体装置1の平面図、下面図を示し、図1(c)、図1(d)は、それぞれ、図1(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
図2は、第1実施形態のリードフレーム10の詳細を説明する図である。
図2(a)、図2(b)は、それぞれ、リードフレーム10の平面図、下面図を示し、図2(c)、図2(d)は、それぞれ、図2(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
図3は、第1実施形態の光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の詳細を説明する図である。
図3(a)、図3(b)は、それぞれ、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の平面図、下面図を示し、図3(c)、図3(d)は、それぞれ、図3(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
各図において、光半導体装置1の平面図における長手方向を左右方向X、短手方向を上下方向Y、表面及び裏面の方向を厚み方向Zとする。
光半導体装置1は、外部機器等の基板に取り付けられることによって、実装したLED素子2が発光する照明装置である。光半導体装置1は、図1に示すように、LED素子2(光半導体素子)、リードフレーム10、光反射樹脂層20(樹脂層)、透明樹脂層30を備える。
光半導体装置1は、リードフレーム10に光反射樹脂層20を形成し、LED素子2を電気的に接続し、透明樹脂層30を形成することによって製造される(詳細は後述する)。
LED素子2は、発光層として一般に用いられるLED(発光ダイオード)の素子であり、例えば、GaP、GaAs、GaAlAs、GaAsP、AlInGaP等の化合物半導体単結晶、又は、InGaN等の各種GaN系化合物半導体単結晶からなる材料を適宜選ぶことにより、紫外光から赤外光に渡る発光波長を選択することができる。
リードフレーム10は、一対の端子部、すなわち、LED素子2が載置、接続される端子部11と、ボンディングワイヤ2aを介してLED素子2に接続される端子部12とから構成される。
端子部11、12は、それぞれ導電性のある材料、例えば、銅、銅合金、42合金(Ni40.5%〜43%のFe合金)等により形成されており、本実施形態では、熱伝導及び強度の観点から、銅合金から形成されている。
端子部11、12は、それぞれ離れて配置されており、互いに電気的に独立している。端子部11、12は、1枚の金属基板(銅版)をプレス又はエッチング加工することにより形成されるため、両者の厚みは同等である。
端子部11は、図1に示すように、その表面にLED素子2が載置、接続されるLED端子面11aが形成され、また、その裏面に外部機器に実装される外部端子面11bが形成される、いわゆるダイパッドを構成する。端子部11は、LED素子2が載置されるため、端子部12に比べ、その外形が大きく形成されている。
端子部12は、その表面にLED素子2のボンディングワイヤ2aが接続されるLED端子面12aが形成され、また、その裏面に外部機器に実装される外部端子面12bが形成される、いわゆるリード側端子部を構成する。
端子部11、12は、その表面及び裏面にめっき層Sが形成されており(図4(e)参照)、表面側のめっき層Sは、LED素子2の発する光を反射する反射層としての機能を有し、裏面側のめっき層Sは、外部機器に実装されるときの半田の溶着性を高める機能を有する。
端子部11、12は、図2に示すように、それぞれの周縁部に、表面(LED端子面11a、12a)から窪んだ凹部M1(第1凹部)と、裏面(外部端子面11b、12b)から窪んだ凹部M2(第2凹部)とが複数形成されている。
また、端子部11、12には、図2(d)に示すように、それぞれの周縁部において、凹部M1及び凹部M2間に傾斜部Nが形成されている。この傾斜部Nは、表面と、凹部M1の底面m1とをつなぐ傾斜面n1(第1傾斜面)と、裏面と、凹部M2の底面m2とをつなぐ傾斜面n2(第2傾斜面)とから構成されている。
さらに、端子部11、12は、LED端子面11a、12aを囲むようにして、凹部M1、M2の底面m1、m2とLED端子面11a、12aとをつなぐ傾斜面n3が形成されている。
凹部M1は、リードフレーム10の表面側から見て、矩形状に形成された窪みであり、その底面の厚みは、端子部11、12の厚みのほぼ半分よりも若干薄く形成されている。
凹部M2は、リードフレーム10の裏面側から見て、矩形状に形成された窪みであり、その底面の厚みは、端子部11、12の厚みの1/3〜2/3程度に形成されている。
また、凹部M1、M2の底面m1、m2は、各端子部11、12の外周につながっている。
傾斜部Nは、図2(d)に示すように、傾斜面n1と、各端子部11、12の表面との境界L1が、端子部の厚み方向Zにおいて、傾斜面n2と、各端子部11、12の裏面との境界L2と対向する位置に形成される。これにより、各端子部11、12は、傾斜部Nの厚みが、凹部M1、凹部M2が形成される部分の厚みよりも厚くなるため、リードフレーム10の強度を向上させることができる。
また、傾斜部Nは、傾斜面n1、n2が各端子部11、12の外周につながっている。
リードフレーム10は、端子部11、12の周囲や、端子部11、12間に、光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填される場合に、図3に示すように、凹部M1、M2、傾斜部N上にも樹脂が充填され、表面及び裏面から光反射樹脂層20によって挟み込まれる形態を取る。これにより、光反射樹脂層20が、厚み方向(Z方向)だけでなく、平面方向(XY方向)においても、リードフレーム10から剥離してしまうのを抑制することができる。
また、各端子部11、12は、凹部M1、M2間に傾斜部Nを備え、LED端子面11a、12aと、凹部M1、M2の底面m1、m2との間に傾斜面n3を備えているので、リードフレーム10を平坦な金型で表裏から抑える又は表裏にテープを貼付け、側面から樹脂を注入する方法により、光反射性樹脂を充填する場合、樹脂の流動を妨げることなく、各凹部M1、M2内に樹脂を容易に充填することができる。
さらに、LED素子を基板、特にリジッド基板に半田を用いて接合する工程の冷却の過程において、端子部の大きさが同じでなかったり、端子部に搭載されている素子への熱伝達により、各端子部の実質的な熱容量が異なっていたりする場合に、半田が冷え固まるのに端子部間で時間差が発生する場合がある。この場合、冷え固まった一方の半田側の端子部は固定され、もう一方の冷え固まっていない半田側は、半田の表面張力により引っ張りの力が働くため、LED素子がX方向に引き離される強い応力がかかり、端子部間に間隙が発生しやすくなる問題があるが、本実施形態のリードフレーム710は、これを抑制することができる。
光反射樹脂層20は、図3に示すように、各端子部11、12の外周(リードフレーム10の外周及び各端子部11、12間の隙間)と、各端子部11、12に設けられた凹部M1、M2、傾斜部N上とに充填された樹脂の層である。光反射樹脂層20は、リードフレーム10の厚みとほぼ同一の厚みに形成されている。
光反射樹脂層20は、リードフレーム10に載置されるLED素子2の発する光を反射させるために、光反射特性を有する熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂が用いられる。
光反射樹脂層20を形成する樹脂は、凹み部分への樹脂充填に関しては、樹脂形成時には流動性が高いことが、凹み部分での接着性に関しては、分子内に反応基を導入しやすいためにフレームとの化学接着性を得られることが必要なため、熱硬化性樹脂が望ましい。
例えば、熱可塑性樹脂としては、ポリアミド、ポリフタルアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルサルホン、ポリブチレンテレフタレート等を用いることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、シリコーン、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリウレタン及びポリブチレンアクリレート等を用いることができる。
さらに、これらの樹脂中に光反射材として、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素のうちいずれかを添加することによって、光の反射率を増大させることができる。
透明樹脂層30は、図1に示すように、リードフレーム10上に接続されたLED素子2を保護するとともに、発光したLED素子2の光を外部に透過させるために設けられた透明又は略透明に形成された樹脂層である。
透明樹脂層30は、光の取り出し効率を向上させるために、LED素子2の発光波長において光透過率が高く、また、屈折率が高い材料を選択するのが望ましい。例えば、耐熱性、耐光性、及び機械的強度が高いという特性を満たす樹脂として、エポキシ樹脂や、シリコーン樹脂を選択することができる。特に、LED素子2に高輝度LED素子を用いる場合、透明樹脂層30は、強い光にさらされるため、高い耐光性を有するシリコーン樹脂からなることが好ましい。また、波長変換用の蛍光体を使用してもよい。
次に、リードフレーム10の製造方法について説明する。
銅板の加工は、プレス加工でも良いが、薄肉部を形成しやすいエッチング処理が望ましい。
図4は、第1実施形態のリードフレーム10の製造過程を説明する図である。
図5は、多面付けされたリードフレーム、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置1を示す図である。
図4(a)は、レジストパターンを形成した金属基板100を示す平面図と、a−a断面図とを示す。図4(b)は、エッチング加工されている金属基板100を示す図である。図4(c)は、エッチング加工後の金属基板100を示す図である。図4(d)は、レジストパターンが除去された金属基板100を示す図である。図4(e)は、めっき処理が施された金属基板100を示す図である。
なお、図4においては、1枚のリードフレーム10の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100から複数のリードフレーム10が製造されるものとする。
金属基板100をエッチング加工することによって、多面付けされたリードフレーム10が、複数形成される。
まず、平板状の金属基板100を用意し、図4(a)に示すように、その表面及び裏面のエッチング加工を施さない部分にレジストパターン40a、40bを形成する。なお、レジストパターン40a、40bの材料及び形成方法は、エッチング用レジストとして従来公知の技術を用いる。
次に、図4(b)に示すように、レジストパターン40a、40bを耐エッチング膜として、金属基板100に腐食液でエッチング処理を施す。腐食液は、使用する金属基板100の材質に応じて適宜選択することができる。本実施形態では、金属基板100として銅板を使用しているため、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板100の両面からスプレーエッチングすることができる。
ここで、リードフレーム10には、端子部11、12の外周部や、各端子部11、12間のように貫通した空間と、凹部M1、M2や、傾斜部Nのように、貫通せずに厚みが薄くなった窪んだ空間とが存在する(図2参照)。本実施形態では、金属基板100の板厚の半分程度までをエッチング加工する、いわゆるハーフエッチング処理を行い、貫通した空間に対しては、金属基板100の両面にレジストパターンを形成しないようにし、金属基板100の両面からエッチング加工して、貫通した空間を形成する。また、窪んだ空間に対しては、厚みが薄くなる側とは反対側の面にのみレジストパターンを形成して、レジストパターンがない面のみをエッチング加工して、窪んだ空間を形成する。
エッチング処理により金属基板100には、図4(c)に示すように、凹部M1、M2や、傾斜部Nが形成された端子部11、12が形成され、金属基板100上にリードフレーム10が形成される。
次に、図4(d)に示すように、金属基板100(リードフレーム10)からレジストパターン40を除去する。
そして、図4(e)に示すように、リードフレーム10が形成された金属基板100にめっき処理を行い、端子部11、12にめっき層Sを形成する。めっき処理は、例えば、シアン化銀を主成分とした銀めっき液を用いた電界めっきを施すことにより行われる。
なお、めっき層Sを形成する前に、例えば、電解脱脂工程、酸洗工程、銅ストライク工程を適宜選択し、その後、電解めっき工程を経てめっき層Sを形成してもよい。
以上により、リードフレーム10は、図5(a)に示すように、枠体Fに多面付けされた状態で製造される。
次に、光半導体装置1の製造方法について説明する。
図6は、第1実施形態の光半導体装置1の製造過程を説明する図である。
図6(a)は、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の平面図であり、図6(b)、図6(c)は、図6(a)のb−b断面図、c−c断面図である。
図6(d)は、LED素子2が電気的に接続されたリードフレーム10の断面図を示す。図6(e)は、透明樹脂層30が形成されたリードフレーム10の断面図を示す。図6(f)は、ダイシングにより小片化され、光半導体装置1を形成したリードフレーム10の断面図を示す。
なお、図6においては、1台の光半導体装置1の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100から複数の光半導体装置1が製造されるものとする。また、図6(d)〜(f)は、それぞれ図6(c)の断面図に基づくものである。
図6(a)〜図6(c)に示すように、金属基板100上にエッチング加工により形成されたリードフレーム10の外周等に上述の光反射特性を有する樹脂を充填し、光反射樹脂層20を形成する。光反射樹脂層20は、例えば、射出成形やトランスファ成形のように、樹脂成形金型にリードフレーム10(金属基板100)をインサートし、樹脂を注入する方法や、リードフレーム10上に樹脂をスクリーン印刷する方法等によって形成される。このとき、凹部M1、M2は底面m1、m2が、傾斜部Nは傾斜面n1、n2が、それぞれ端子部11、12の外周につながっているので、樹脂は、各端子部11、12の外周側から凹部M1、M2、傾斜部Nへと流れ込み、リードフレーム10と光反射樹脂層20とを接合している。
また、光反射樹脂層20は、端子部11、12とほぼ同等の厚みに形成され、光反射樹脂層20の表面及び裏面には、各端子部11、12のLED端子面11a、12aと、外部端子面11b、12bとが表出する(図3(a)、図3(b)参照)。以上により、図6(b)に示すように、樹脂付きのリードフレーム10が多面付けで形成される。
次に、図6(d)に示すように、端子部11のLED端子面11aに、ダイアタッチペーストや半田等の放熱性接着剤を介してLED素子2を載置し、また、端子部12のLED端子面12aに、ボンディングワイヤ2aを介してLED素子2を電気的に接続する。LED素子とボンディングワイヤは複数あってもよく、一つのLED素子に複数のボンディングワイヤが接続されてもよく、ボンディングワイヤをダイパッドに接続させてもよい。LED素子を載置面で電気的に接続してもよい。ここで、ボンディングワイヤ2aは、例えば、金(Au)、銅(Cu)、銀(Ag)等の導電性の良い材料からなる。
そして、図6(e)に示すように、リードフレーム10と、それに接合した光反射樹脂層20の表面に、LED素子2を覆うようにして透明樹脂層30を形成する。
透明樹脂層は平坦な形状のほかレンズ形状、屈折率勾配等、光学的な機能を持たせてもよい。以上により、図6(c)に示すように、多面付けされた光半導体装置1が形成される。
最後に、図6(f)に示すように、光半導体装置1の外形に合わせて、光反射樹脂層20及び透明樹脂層30とともに、リードフレーム10の不図示の連結部を切断(ダイシング)して、1パッケージに分離(小片化)された光半導体装置1を得る。
本実施形態の発明には、以下のような効果がある。
(1)リードフレーム10は、各端子部11、12の周縁部に凹部M1、M2が複数形成され、凹部M1、M2の各底面m1、m2が端子部11、12の外周につながっている。これにより、各端子部11、12の外周(リードフレーム10の外周及び端子部間)に樹脂を流し込んで光反射樹脂層20を形成する場合に、樹脂が凹部M1、M2、傾斜部Nにも流れ込んで、光反射樹脂層20が、平面方向(X方向、Y方向)及び厚み方向(Z方向)において、リードフレーム10から剥離してしまうのを抑制することができる。
(2)各端子部11、12は、凹部M1及び凹部M2間に傾斜部Nを有するので、樹脂が傾斜部Nの傾斜面n1、n2を流れることによって、より容易に凹部M1、M2内へ樹脂を充填させることができる。
(3)第1傾斜面n1と各端子部11、12の表面との境界L1は、端子部の厚み方向において、第2傾斜面n2と各端子部11、12の裏面との境界L2と対向する位置に形成されるので、樹脂の充填を容易にしつつ、各端子部11、12の裏面の外部端子面11b、12bの表出面積を広くすることができる。
また、各端子部11、12の傾斜部Nにおける厚みを、凹部M1、M2における厚みよりも厚くすることができるので、リードフレーム10の強度を向上させることができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図7は、第2実施形態のリードフレーム210及び光反射樹脂層220が形成されたリードフレーム210の詳細を説明する図である。
図7(a)は、リードフレーム210の断面図(図2(d)に相当)であり、図7(b)は、図7(a)のリードフレーム210に光反射樹脂層が形成された断面図(図3(d)に相当)である。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
第2実施形態のリードフレーム210は、傾斜部Nの形状が第1実施形態のリードフレーム10と相違する。
傾斜部Nは、図7に示すように、傾斜面n1と凹部M1の底面m1との境界L3が、端子部の厚み方向Zにおいて、傾斜面n2と端子部の裏面との境界L4と対向する位置に形成される。また、傾斜面n1と端子部の表面との境界L5は、端子部の厚み方向Zにおいて、傾斜面n2と凹部M2の底面m2との境界L6と対向する位置に形成される。
以上より、本実施形態の発明は、第1実施形態の発明と同様、光反射樹脂層220を形成する樹脂が凹部M1、M2、傾斜部Nにも充填されるので、光反射樹脂層220がリードフレーム210から剥離してしまうのを抑制することができる。
また、各端子部11、12は、凹部M1及び凹部M2間に傾斜部Nを有するので、リードフレーム10の凹部M1、M2への樹脂の充填をより容易にすることができる。
さらに、傾斜面n1と凹部M1の底面m1との境界L3が、端子部の厚み方向Zにおいて、傾斜面n2と端子部の裏面との境界L4に対向する位置に形成され、傾斜面n1と端子部の表面との境界L5が、端子部の厚み方向Zにおいて、傾斜面n2と凹部M2の底面m2との境界L6に対向する位置に形成されるので、各端子部11、12の凹部M1、M2における厚みを、傾斜部Nの厚みから薄くすることができる。
また、本実施形態では、傾斜部Nがあるために樹脂の充填が容易であることに加え、金属に比べ比重の低い樹脂の充填量を増加させることができるため軽量化が可能である。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。
図8は、第3実施形態のリードフレーム310の詳細を説明する図である。
図8(a)は、リードフレーム310の平面図を示し、図8(b)は、図8(a)のb−b断面図を示し、図8(c)は、図8(a)のc−c断面図を示し、図8(d)は、図8(a)のリードフレーム310に光反射樹脂層320が形成された断面図(図8(c)に相当)である。
第3実施形態のリードフレーム310は、傾斜部Nを備えていない点で第1実施形態のリードフレーム10と相違する。
端子部311、312は、図8に示すように、凹部M1及び凹部M2間に切り欠き部Pが設けられている。
光反射樹脂層320は、図8(d)に示すように、リードフレーム310の外周と、各端子部11、12間の隙間と、各端子部11、12に設けられた凹部M1、M2上と、切り欠き部Pとに充填された樹脂の層である。光反射樹脂層320は、リードフレーム310の厚みとほぼ同一の厚みに形成されている。
以上より、本実施形態の発明は、第1実施形態の発明と同様、光反射樹脂層320を形成する樹脂が凹部M1、M2、切り欠き部Pにも充填されるので、光反射樹脂層320がリードフレーム310から剥離してしまうのを抑制することができる。
また、各端子部11、12は、凹部M1及び凹部M2間に切り欠き部Pを有するので、リードフレーム310と光反射樹脂層320とをより強固に接合することができる。特に、切り欠き部Pに樹脂が充填されることによって、リードフレーム310のXY平面方向への剥離抑制効果を向上させることができる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について説明する。
図9は、第4実施形態のリードフレーム410及び光反射樹脂層420が形成されたリードフレーム410の詳細を説明する図である。
図9(a)は、リードフレーム410の断面図(図2(d)に相当)であり、図9(b)は、図9(a)のリードフレーム410に光反射樹脂層420が形成された断面図(図3(d)に相当)である。
第4実施形態のリードフレーム410は、傾斜部Nを備えていない点で第1実施形態のリードフレーム10と相違する。
端子部411、412は、図9(a)に示すように、凹部M1及び凹部M2間に所定の間隔Qが設けられている。この間隔Qは、凹部M1、M2等の窪んだ空間が形成されていない部分であり、その厚みは、端子部411、412の厚みと同等である。
光反射樹脂層420は、図9(b)に示すように、リードフレーム410の外周と、各端子部11、12間の隙間と、各端子部11、12に設けられた凹部M1、M2とに充填された樹脂の層である。光反射樹脂層420は、リードフレーム410の厚みとほぼ同一の厚みに形成されている。
以上より、本実施形態の発明は、第1実施形態の発明と同様、光反射樹脂層420を形成する樹脂が凹部M1、M2にも充填されるので、光反射樹脂層420がリードフレーム410から剥離してしまうのを抑制することができる。
また、各端子部11、12は、凹部M1及び凹部M2間に所定の間隔Qを設けることによって、リードフレーム410の強度を向上させることができる。
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態について説明する。
図10は、第5実施形態のリードフレーム510及び光反射樹脂層520が形成されたリードフレーム510の詳細を説明する図である。
図10(a)は、リードフレーム510の断面図(図2(d)に相当)であり、図10(b)は、図10(a)のリードフレーム510に光反射樹脂層520が形成された断面図(図3(d)に相当)である。
第5実施形態のリードフレーム510は、傾斜部Nを備えていない点で第1実施形態のリードフレーム10と相違する。
端子部511、512は、図10(a)に示すように、その表面及び裏面の外周縁に凹部M1及び凹部M2が、交互に形成されている。
凹部M1、M2は、凹部M1の底面m1と、各端子部11、12の表面との境界L7が、端子部の厚み方向Zにおいて、凹部M2の底面m2と、各端子部11、12の裏面との境界L8と対向するように形成される。凹部M1、M2は、その内周側面と、隣り合う凹部M2、M1の内周側面とつなぐ貫通部Rが形成されている。
光反射樹脂層520は、図10(b)に示すように、リードフレーム510の外周と、各端子部11、12間の隙間と、各端子部11、12に設けられた凹部M1、M2と、貫通部Rとに充填された樹脂の層である。光反射樹脂層520は、リードフレーム510の厚みとほぼ同一の厚みに形成されている。
以上より、本実施形態の発明は、第1実施形態の発明と同様、光反射樹脂層520を形成する樹脂が凹部M1、M2にも充填されるので、光反射樹脂層520がリードフレーム510から剥離してしまうのを抑制することができる。
また、各端子部11、12は、その裏面の外周縁に、凹部M1、M2の底面m1、m2を広く取ることができるので、リードフレーム510と光反射樹脂層520との接合面積を広くすることができ、剥離抑制効果を向上させることができる。
さらに、凹部M1、M2に充填された樹脂が貫通部Rでつながるため、光反射樹脂層520とリードフレーム510との剥離防止効果を向上させることができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、後述する変形形態のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
図11は、本発明の変形形態を示す図である。
(変形形態)
(1)各実施形態において、リードフレーム10は、LED素子2を載置、接続するダイパッドとなる端子部11と、LED素子2とボンディングワイヤ2aを介して接続されるリード側端子部となる端子部12とから構成する例を説明したが、これに限定されない。例えば、図11に示すように、LED素子2が2つの端子部611、612を跨ぐようにして載置、接続されるようにしてもよい。なお、この場合、端子部611、612は、それぞれ同等の外形としてもよい。
(2)各実施形態においては、リードフレーム10は、LED素子2等の光半導体素子を接続する光半導体装置1に使用する例を示したが、光半導体素子以外の半導体素子を用いた半導体装置にも使用することができる。
1、201、301、401、501 光半導体装置
2 LED素子
10、210、310、410、510 リードフレーム
11、211、311、411、511 端子部
12、212、312、412、512 端子部
20、220、320、420、520 光反射樹脂層
30、230、330、430、530 透明樹脂層
M 凹部
N 傾斜部
P 切り欠き部

Claims (13)

  1. 複数の端子部を有し、前記端子部のうち少なくとも一つが光半導体素子と接続される光半導体装置に用いられる光半導体用リードフレームにおいて、
    記端子部は、厚み方向から見た形状が矩形状に形成されており、その周縁部の各辺に、表面から窪んだ第1凹部と、裏面から窪んだ第2凹部とが形成され、
    前記第1凹部及び前記第2凹部は、それぞれの底面が前記端子部の外周につながっていること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  2. 請求項1に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記端子部は、前記第1凹部と前記第2凹部との間の少なくとも1つに、前記端子部の表面と前記第1凹部の底面とをつなぐ第1傾斜面と、前記端子部の裏面と前記第2凹部の底面とをつなぐ第2傾斜面とを備える傾斜部を有すること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  3. 請求項2に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記傾斜部は、前記第1傾斜面と前記端子部の表面との境界が、前記端子部の厚み方向において、前記第2傾斜面と前記端子部の裏面との境界と対向する位置に形成されること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  4. 請求項2に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記傾斜部は、前記第1傾斜面と前記第1凹部の底面との境界が、前記端子部の厚み方向において、前記第2傾斜面と前記端子部の裏面との境界と対向する位置に形成され、
    前記第1傾斜面と前記端子部の表面との境界は、前記端子部の厚み方向において、前記第2傾斜面と前記第2凹部の底面との境界と対向する位置に形成されること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  5. 請求項1に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記端子部は、前記第1凹部と前記第2凹部との間の少なくとも1つに、切り欠き部を有すること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  6. 請求項1に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記端子部は、前記第1凹部が、前記第2凹部に対して所定の間隔を設けて形成されること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  7. 請求項1に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記端子部の表面と前記第1凹部の底面との境界は、前記端子部の厚み方向において、前記端子部の裏面と前記第2凹部の低面との境界と対向する位置に形成されること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  8. 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載の光半導体装置用リードフレームにおいて、
    前記端子部は、
    互いに電気的に独立して配置される一対の端子部から構成されること、
    を特徴とする光半導体装置用リードフレーム。
  9. 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の光半導体装置用リードフレームと、
    前記光半導体装置用リードフレームと同等の厚みを有し、前記端子部の外周、前記第1凹部、及び、前記第2凹部に形成される樹脂層とを備えること、
    を特徴とする樹脂付き光半導体装置用リードフレーム。
  10. 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の光半導体装置用リードフレームが枠体に多面付けされていること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  11. 請求項9に記載の樹脂付き光半導体装置用リードフレームが多面付けされていること、
    を特徴とする樹脂付きリードフレームの多面付け体。
  12. 請求項9に記載の樹脂付き光半導体装置用リードフレームと、
    前記樹脂付き光半導体装置用リードフレームの前記端子部のうち少なくとも一つに接続される光半導体素子と、
    前記樹脂付き光半導体装置用リードフレームの前記光半導体素子が接続される側の面に形成され、前記光半導体素子を覆う透明樹脂層とを備えること、
    を特徴とする光半導体装置。
  13. 請求項12に記載の光半導体装置が多面付けされていること、
    を特徴とする光半導体装置の多面付け体。
JP2012206162A 2012-09-19 2012-09-19 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 Active JP6123200B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012206162A JP6123200B2 (ja) 2012-09-19 2012-09-19 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012206162A JP6123200B2 (ja) 2012-09-19 2012-09-19 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014060369A JP2014060369A (ja) 2014-04-03
JP6123200B2 true JP6123200B2 (ja) 2017-05-10

Family

ID=50616553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012206162A Active JP6123200B2 (ja) 2012-09-19 2012-09-19 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6123200B2 (ja)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5122172B2 (ja) * 2007-03-30 2013-01-16 ローム株式会社 半導体発光装置
JP5544583B2 (ja) * 2009-10-16 2014-07-09 アピックヤマダ株式会社 リードフレーム、電子部品用基板及び電子部品
JP2011119557A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Sony Corp 発光装置及びその製造方法
KR101890084B1 (ko) * 2010-11-02 2018-08-20 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 리드 프레임 및 반도체 장치
JP2012114286A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Toshiba Corp Ledパッケージ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014060369A (ja) 2014-04-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6187549B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、光半導体装置、および、光半導体装置用リードフレームの製造方法
JP5573176B2 (ja) リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法
JP6103409B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、および光半導体装置
JP6209826B2 (ja) リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6349648B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6103410B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、および光半導体装置
JP6019988B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP5590105B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP5884789B2 (ja) リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6268793B2 (ja) リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体、リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置
JP5854086B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6111627B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6171360B2 (ja) 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置
JP5939474B2 (ja) リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法
JP6123200B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6115058B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6155584B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6111628B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6172253B2 (ja) リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置
JP2015038917A (ja) リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP2014138088A (ja) 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体
JP6015842B2 (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP2016225655A (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6111683B2 (ja) 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体
JP6414405B2 (ja) リードフレーム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150727

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160311

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160329

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160516

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160928

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161025

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161121

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170307

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170320

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6123200

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150