JP6121708B2 - 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 272
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 123
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 17
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 17
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 11
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14209—Structure of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/1609—Production of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14491—Electrical connection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/10—Finger type piezoelectric elements
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
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Description
したがって、一般に、液体噴射ヘッドの駆動電極の形成範囲は、壁部におけるノズル孔に対応する位置よりも長手方向の一方側の部分と、ノズル孔に対応する位置よりも長手方向の他方側の部分とでそれぞれ異なっている。
図1は、実施形態に係る液体噴射ヘッド1の分解斜視図である。
図2は、実施形態に係る液体噴射ヘッド1の説明図であり、図2(a)は、吐出溝6aの長手方向に沿った側面断面図であり、図2(b)は、非吐出溝6bの長手方向に沿った側面断面図である。なお、図1および図2では、分かりやすくするために、駆動電極12にクロスハッチングを施し、絶縁膜20にドットハッチングを施して図示している。
アクチュエータ基板2は、圧電体により形成される壁部5により仕切られ、第一主面S1と第二主面S2とを貫通し、吐出溝6aおよび非吐出溝6bを含む溝6が複数配列する。カバープレート3は、溝6の第二主面S2側の第二開口7を覆うようにアクチュエータ基板2に設置され、溝6の長手方向の一方側に吐出溝6aに液体を供給する液体供給室9を有し、溝6の長手方向の他方側に吐出溝6aから液体を排出する液体排出室10を有する。ノズルプレート4は、吐出溝6aに連通するノズル孔11を備え、溝6の第一主面S1側の第一開口8を覆うようにアクチュエータ基板2に設置される。
なお、以下の説明では、溝6が延在する長手方向をX方向とし、液体供給室9が配置される一方側を−X側とし、液体排出室10が配置される他方側を+X側とする。また、長手方向と直交する溝6の幅方向をY方向とし、図1における紙面左側を−Y側とし、図1における紙面右側を+Y側とする。また、X方向およびY方向に直交する方向をZ方向とし、第一主面S1側を−Z側とし、第二主面S2側を+Z側とする。以下では、必要に応じてXYZの直交座標系を用いて説明する。
以下に、液体噴射ヘッド1の各構成部品について、詳細に説明する。
アクチュエータ基板2は、Z方向に分極処理が施された圧電体材料、例えばPZTセラミックス等により、略矩形板状に形成されている。
アクチュエータ基板2の溝6は、吐出溝6aと非吐出溝6bとが、Y方向に交互に並列に配列することにより形成されている。
図2(a)に示すように、吐出溝6aは、−X側および+X側の端部がそれぞれアクチュエータ基板2の−Z側(第一主面S1側)から+Z側(第二主面S2側)に向かって切り上がるように傾斜し、アクチュエータ基板2の−X側端部2aおよびカバープレート3の−X側端部3aよりも+X側の位置から、アクチュエータ基板2の+X側端部2bよりも−X側の位置に亘って形成される。
図1に示すように、各壁部5の側面には、X方向に沿って駆動電極12が延在している。駆動電極12の詳細については後述する。
カバープレート3は、例えばアクチュエータ基板2と同じ材料であるPZTセラミックス等により、略矩形板状に形成されている。なお、カバープレート3を形成する材料は、PZTセラミックスに限定されることはなく、例えば、マシナブルセラミックスや他のセラミックス、ガラス等の低誘電体材料を用いてもよい。ただし、カバープレート3とアクチュエータ基板2とを同じ材料により形成することにより、熱膨張を等しくすることができるので、温度変化に対する液体噴射ヘッド1の反りや変形を抑制することができる。
図2(a)および(b)に示すように、カバープレート3のX方向の長さは、アクチュエータ基板2のX方向の長さよりも短くなるように形成されている。カバープレート3は、+X側端部3bがアクチュエータ基板2の+X側端部2bと略面一となるように、かつ−X側端部3aがアクチュエータ基板2の−X側端部2aよりも+X側に位置するように配置されている。これにより、アクチュエータ基板2の第二主面S2のうち、カバープレート3の−X側端部3aよりも−X側の領域は、外側に露出している。
また、図1に示すように、液体排出室10には、その底部に複数の第二スリット14bが形成されている。第二スリット14bは、吐出溝6aに対応した位置において、液体排出室10の底部がZ方向に貫通して形成されており、X方向に沿って延在するとともに、Y方向に並んで設けられている。図2(a)に示すように、液体排出室10は、第二スリット14bを介して、吐出溝6aの+X側の端部と連通している。なお、液体排出室10は、非吐出溝6bとは連通していない(図2(b)参照)。
液体供給室9に供給される液体は、第一スリット14aを介して吐出溝6aに流入し、第二スリット14bを介して吐出溝6aから液体排出室10に排出される。すなわち、本実施形態の液体噴射ヘッド1は、いわゆるスルーフロータイプの液体噴射ヘッド1となっている。なお、図2(b)に示すように、非吐出溝6bは液体供給室9および液体排出室10とは連通していないため、非吐出溝6bに液体が流入することはない。
図2(a)に示すように、ノズルプレート4は、例えばポリイミドやポリプロピレン等の合成樹脂材料や、金属材料等により形成された薄膜状の部材であり、Z方向から見たときに、アクチュエータ基板2の外形に対応した略矩形状に形成されている。
ノズルプレート4は、吐出溝6aおよび非吐出溝6bの第一主面S1側の第一開口8を覆うように、アクチュエータ基板2の第一主面S1に対して、例えば接着剤等により接着固定されている。また、ノズルプレート4は、吐出溝6aのX方向の中間部において、吐出溝6aと連通するノズル孔11を有している。ノズル孔11は、+Z側から−Z側に向かって直径が漸次小さくなるように形成されている。
ノズルプレート4の厚さは、例えば0.01mm〜0.1mmに設定されるのが好ましい。ノズルプレート4を0.01mmよりも薄くすると強度が低下し、0.1mmより厚くすると隣り合うノズル孔11に振動が伝わってクロストークが発生しやすくなるためである。
また、カバープレート3の材質は、ヤング率が例えば40GPaを下回らないことが好ましく、ノズルプレート4の材質は、例えばヤング率が1.5GPa〜30GPaの範囲にあることが好ましい。ノズルプレート4は、ヤング率が1.5GPaを下回ると被記録媒体に接触したときに傷がつきやすく信頼性が低下し、30GPaを超えると隣り合うノズル孔11に振動が伝わってクロストークが発生しやすくなるためである。
図1に示すように、液体噴射ヘッド1のアクチュエータ基板2の壁部5の側面には、駆動電極12が形成されている。
駆動電極12は、壁部5の側面のうち吐出溝6aに面する側面5aに設置されるコモン電極12aと、壁部5の側面のうち非吐出溝6bに面する側面5bに設置されるアクティブ電極12bとを含む。
コモン電極12aは、吐出溝6aに面する一対の壁部5,5の側面5a,5aにおける−X側の端部から、+X側の端部よりも−X側の位置に亘って、X方向に沿って延在して略帯状に設置されている。吐出溝6aの側面5a,5aに形成された一対のコモン電極12a,12aは、それぞれ互いに電気的に接続される(図1参照)。
アクティブ電極12bは、非吐出溝6bに面する一対の壁部5,5の側面5b,5bにおける−X側の端部から、+X側の端部よりも−X側の位置に亘って、X方向に沿って延在して略帯状に設置されている。非吐出溝6bの側面5b,5bに形成された一対のアクティブ電極12b,12bは、それぞれ互いに電気的に分離される(図1参照)。
図2(a)および図2(b)に示すように、コモン電極12aおよびアクティブ電極12bは、それぞれ吐出溝6aおよび非吐出溝6bの底面を構成するノズルプレート4から離間するように設置されている。本実施形態において、コモン電極12aおよびアクティブ電極12bは、それぞれ例えば上げ底部15の+Z側面15aよりも+Z側に設置されている。
コモン端子16aおよびアクティブ端子16bは、図示しないフレキシブル基板の配線電極に接続されるランドである。アクティブ端子16bは、吐出溝6aを挟む一対の壁部5,5のうち、一方(本実施形態では−Y側)の壁部5の非吐出溝6bに面する側面5bに形成されるアクティブ電極12bに電気的に接続される。アクティブ端子16bは、更に、アクチュエータ基板2の−X側端部2aの縁部に沿って形成される配線16cを介して、他方(本実施形態では+Y側)の壁部5の非吐出溝6bに面する側面5bに形成されるアクティブ電極12bに電気的に接続される。
絶縁膜20は、例えば二酸化ケイ素(SiO2)を主成分とする材料により形成された膜である。なお、絶縁膜20を形成する材料は、SiO2に限定されることはなく、アクチュエータ基板2を形成する圧電体の比誘電率よりも小さい比誘電率を有する材料であればよい。具体的に、絶縁膜20を形成する材料としては、SiO2の他に、例えばチッ化ケイ素(Si3N4)や酸化アルミニウム(Al2O3)等であってもよい。
図3に示すように、第一の絶縁膜21は、コモン電極12aと壁部5の側面5aとの間に設けられている。図2(a)に示すように、第一の絶縁膜21は、Z方向の幅がコモン電極12aのZ方向の幅と略同一か、コモン電極12aのZ方向の幅よりも若干広くなるように形成されており、X方向に沿って延在している。第一の絶縁膜21の−X側端部21aは、カバープレート3の−X側端部3aに対応した位置に配置されている。また、第一の絶縁膜21の+X側端部21bは、ポンプ領域Pと第一スリット14aに対応する非ポンプ領域との境界よりもわずかに+X側の位置であって、ポンプ領域P内に配置されている。
第二の絶縁膜22の−X側端部22aは、ポンプ領域Pと第二スリット14bに対応する非ポンプ領域との境界よりもわずかに−X側の位置であって、ポンプ領域P内に配置されている。また、第二の絶縁膜22の+X側端部22bは、吐出溝6aの+X側端部に配置されている。
絶縁膜20(21,22)および駆動電極12(12a,12b)は、例えば斜め蒸着法により成膜される。
具体的には、図4に示すように、溝6が形成された圧電体基板50に、例えばフォトリソグラフィ技術により、有効駆動電極領域E(図2参照)以外の領域に対応した部分が開口した絶縁膜用マスク51を設置する(絶縁膜用マスク設置工程)。そして、Z方向に対してY方向に所定角度+θおよび−θ傾斜する方向から、圧電体基板50の第二主面S2に向かって、蒸着法により絶縁材料55を蒸着する(絶縁材料成膜工程)。なお、このとき有効駆動電極領域E(図2参照)は、絶縁膜用マスク51により覆われているため、絶縁材料55が成膜されない。
液体供給室9に液体を供給し、液体排出室10から液体を排出して、液体を循環させる。そして、コモン端子16aとアクティブ端子16bとに駆動信号を与えることにより、吐出溝6aを構成する一対の壁部5,5をそれぞれ厚みすべり変形させる。このとき、一対の壁部5,5のうち、有効駆動電極領域Eに対応する壁部5のZ方向中間部は、例えば吐出溝6aの内側に向かって屈曲変形する。これにより、吐出溝6a内の液体に圧力波が生成されて、吐出溝6aに連通するノズル孔11から液体が吐出される。本実施形態では、有効駆動電極領域Eが仮想面Fに対して面対称となるように設けられる。したがって、コモン端子16aとアクティブ端子16bとに電圧を印加して液体噴射ヘッド1を駆動したときに、壁部5を仮想面Fに対して面対称となるように変形するので、吐出溝6aに充填された液体の内部において、ノズル孔11の中心軸を挟んでY方向両側に向かって、壁部5の変形時に発生する圧力波をそれぞれバランスよく伝播できる。
図7中の一点鎖線のグラフは、図1に示す絶縁膜20(21,22)を設けることなく、壁部5の両側面5a,5bに直接駆動電極12(12a,12b)を設置したときの、液体噴射ヘッドの駆動時における周波数−インピーダンス特性を示している。また、図7中の実線のグラフは、上述の実施形態のとおり、X方向の両端部において、壁部5との間に絶縁膜20を挟んで壁部5の両側面5a,5bに駆動電極12(12a,12b)を設置したときの、液体噴射ヘッド1の駆動時における周波数−インピーダンス特性を示している。
このように、実施形態の液体噴射ヘッド1にあっては、駆動電極12(12a,12b)は、X方向の両端部において壁部5との間に絶縁膜20を挟んで壁部5の両側面5a,5bに設置され、壁部5との間に絶縁膜21,22を挟まない有効駆動電極領域Eが、ノズル孔11の中心軸を含む仮想面Fに対して面対称となるように設けられる。したがって、壁部5は、液体噴射ヘッド1の駆動時に、仮想面Fに対して面対称となるように変形する。さらに、本実施形態においては、有効駆動電極領域EのX方向の両側縁部をポンプ領域P内に配置しているので、ポンプ領域P内の壁部5のみを駆動できる。したがって、ポンプ領域P外の壁部5が不要に駆動されることがないので、壁部5の共振ポイントを減少させて壁部5の共振を抑制できる。
本実施形態によれば、駆動電極12(12a,12b)は、壁部5における−X側端部から+X側端部よりも一方側の位置に亘って設置されているので、+X側端部において溝6(6a,6b)内で対向する駆動電極12(12a,12b)同士が短絡するのを防止できるとともに、駆動電極12(12a,12b)に電圧を印加して液体噴射ヘッド1を駆動したときに、壁部5の+X側端部が変形するのを抑制できる。また、駆動電極12(12a,12b)は、X方向の両側において、それぞれ壁部5との間に第一の絶縁膜21および第二の絶縁膜22を挟んで設置されていることから、駆動電極12(12a,12b)に電圧を印加して液体噴射ヘッド1を駆動したときに、壁部5の−X側端部および+X側端部が変形するのを抑制できる。これにより、駆動電極12(12a,12b)に電圧を印加して液体噴射ヘッド1を駆動したときに、壁部5のノズル孔11の周辺部分が変形するとともに、壁部の長手方向の両端部が変形するのを抑制できる。また、壁部5のノズル孔11の周辺部分のみを変形できるので、吐出溝6aに充填された液体の内部において、ノズル孔11の中心軸を挟んでX方向の両側に向かって、壁部5の変形時に発生する圧力波をそれぞれバランスよく伝播できる。したがって、液体の吐出特性を向上できる。
図8は、実施形態の第一変形例に係る液体噴射ヘッド1の説明図であり、吐出溝6aのX方向に沿った側面断面図である。なお、図8では、分かりやすくするために、駆動電極12にクロスハッチングを施し、絶縁膜20にドットハッチングを施している。
続いて、実施形態の第一変形例に係る液体噴射ヘッド1について説明する。
実施形態に係る液体噴射ヘッド1は、駆動電極12(12a,12b)がそれぞれ−X側端部において壁部5との間に第一の絶縁膜21を挟み、+X側端部において壁部5との間に第二の絶縁膜22を挟んで設置されていた(図2(a)参照)。
これに対して、実施形態の第一変形例に係る液体噴射ヘッド1は、図8に示すように、駆動電極12(12a,12b)がそれぞれ−X側端部において壁部5との間に第一の絶縁膜21を挟み、+X側端部において壁部5との間に第二の絶縁膜22を挟んで設置され、かつノズル孔11と対応する位置において、壁部5との間に第三の絶縁膜23をさらに挟んで設置されている点で、実施形態とは異なっている。なお、実施形態と同様の構成部分については詳細な説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
実施形態の第一変形例によれば、駆動電極12(12a,12b)と壁部5の側面5aとの間であって、ノズル孔11と対応する位置に第三の絶縁膜23を設けることで、駆動電極12(12a,12b)に電圧を印加して液体噴射ヘッド1を駆動したときに、壁部5のノズル孔11と対応する位置が変形するのを抑制するとともに、壁部5のノズル孔11と対応する位置以外の周辺部分を変形できる。これにより、吐出溝6aに充填された液体の内部において、ノズル孔11の中心軸を挟んでX方向の両側に向かって、壁部5の変形時に発生する圧力波をそれぞれバランスよく伝播できる。しかも、ノズル孔11と対応する位置において、壁部5との間に第三の絶縁膜23をさらに挟んで駆動電極を設置することで、駆動電極12(12a,12b)のうち、壁部5との間に絶縁膜21,22,23を挟まない有効駆動電極領域Eを第三の絶縁膜23の分だけ狭くすることができる。したがって、良好な吐出特性を維持したまま、消費電力を下げることができる。
図9は、実施形態の第二変形例に係る液体噴射ヘッド1の説明図であり、吐出溝6aのX方向に沿った側面断面図である。なお、図9では、分かりやすくするために、駆動電極12にクロスハッチングを施し、絶縁膜20にドットハッチングを施している。
続いて、実施形態の第二変形例に係る液体噴射ヘッド1について説明する。
実施形態に係る液体噴射ヘッド1は、駆動電極12(12a,12b)がそれぞれ−X側端部において壁部5との間に第一の絶縁膜21を挟み、+X側端部において壁部5との間に第二の絶縁膜22を挟んで設置されていた(図2(a)参照)。
これに対して、実施形態の第二変形例に係る液体噴射ヘッド1は、図9に示すように、駆動電極12(12a,12b)がそれぞれ−X側端部において壁部5との間に第一の絶縁膜21のみを挟んで設置されている点で、実施形態とは異なっている。なお、実施形態と同様の構成部分については詳細な説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
コモン電極12aは、−X側端部において、壁部5との間に第一の絶縁膜21を挟んで設置されている。
第一の絶縁膜21の+X側端部21bは、ポンプ領域Pと第一スリット14aに対応する非ポンプ領域との境界に沿うように配置されている。なお、図示は省略するが、アクティブ電極12b(図1参照)の+X側端部は、コモン電極12aと同様に、ポンプ領域Pの+X側縁部に沿うように配置されている。また、コモン電極12aと壁部5との間に介在する第一の絶縁膜21の+X側端部21bは、コモン電極12a側の第一の絶縁膜21と同様に、ポンプ領域Pと第一スリット14aに対応する非ポンプ領域との境界に沿うように配置されている。
図10は、実施形態に係る液体噴射ヘッド1を備えた液体噴射装置30の説明図である。
図10に示すように、液体噴射装置30は、複数(本実施形態では4個)の液体噴射ヘッド1と、液体噴射ヘッド1に液体を供給し、液体噴射ヘッド1から液体を排出する流路部35(請求項の「液体供給管」に相当。)と、流路部35に液体を供給する液体ポンプ33および複数(本実施形態では4個)の液体タンク34とを備えている。各液体噴射ヘッド1は複数のヘッドチップを備え、ノズル孔11(図1参照)から液体を吐出する。液体ポンプ33として、流路部35に液体を供給する供給ポンプおよび液体を排出する排出ポンプの少なくともいずれか一方を設置する。また、図示しない圧力センサーや流量センサーを設置し、液体の流量を制御することもある。液体噴射ヘッド1は、上述した実施形態および実施液体の各変形例に係るいずれかを使用する。
また、液体噴射装置30は、紙等の被記録媒体44を主走査方向に搬送する一対の搬送手段41,42と、液体噴射ヘッド1を載置するキャリッジユニット43と、液体噴射ヘッド1を主走査方向と直交する副走査方向に走査する移動機構40とを備えている。図示しない制御部は、液体噴射ヘッド1、移動機構40および搬送手段41,42を制御して駆動する。
例えば、本発明に関し、溝6の深さ方向において分極方向が上下方向に互いに反対向きの圧電体材料を積層したシェブロンタイプを用いることが可能である。この場合、壁部5の側面5a,5b全面に亘って駆動電極12を形成することで、圧電滑り効果により壁部5の高さ方向中間位置を中心にして、V字状に壁部5の上下部分が屈曲変形することになる。これにより、低電圧で壁部5を変形させることができる。
これに対して、例えば、第一の絶縁膜21の+X側端部21bおよび第二の絶縁膜22の−X側端部22aがそれぞれポンプ領域Pと非ポンプ領域との境界に沿うように配置され、ポンプ領域Pと同一の領域に有効駆動電極領域Eが配置されることにより、有効駆動電極領域Eが仮想面Fに対して面対称に形成されていてもよい。また、例えば、第一の絶縁膜21の+X側端部21bおよび第二の絶縁膜22の−X側端部22aがわずかにポンプ領域Pの外側に配置され、有効駆動電極領域EのX方向の両側縁部がポンプ領域P外に配置されることにより、有効駆動電極領域Eが仮想面Fに対して面対称に形成されていてもよい。いずれの場合においても、有効駆動電極領域Eが仮想面Fに対して面対称に形成されることで、実施形態の作用効果が得られる。
Claims (13)
- 圧電体により形成される壁部により仕切られ、第一主面と第二主面とを貫通する溝が複数配列するアクチュエータ基板と、
前記溝の前記第一主面側の開口を覆うように前記アクチュエータ基板に設置され、前記溝の長手方向の中間部において前記溝と連通するノズル孔を有するノズルプレートと、
を備え、
前記壁部の側面には、
前記長手方向の一方側の端部から他方側の端部に亘って、前記長手方向に沿って延在する駆動電極と、
前記壁部の側面の一部を覆う絶縁膜と、
が設置され、
前記駆動電極は、前記ノズル孔の周辺において前記壁部の表面に設置されるとともに、少なくとも前記長手方向の前記一方側の端部において、前記壁部との間に前記絶縁膜を挟んで設置されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記駆動電極は、前記ノズルプレートから離間していることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1または2に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記駆動電極は、前記長手方向の両側において前記壁部との間に前記絶縁膜を挟んで設置されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記駆動電極は、前記ノズル孔と対応する位置において、前記壁部との間に前記絶縁膜をさらに挟んで設置されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記駆動電極のうち、前記壁部との間に前記絶縁膜を挟まない有効駆動電極領域は、前記長手方向と直交するとともに前記ノズル孔の中心軸を含む仮想面に対して、面対称となるように設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項5に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記溝の前記第二主面側の開口を覆うように前記アクチュエータ基板に設置され、前記溝に液体を供給する液体供給室を有するカバープレートを備え、
前記溝のうち、前記ノズル孔の周辺の領域であって、前記液体供給室に対応する領域以外の所定領域がポンプ領域とされ、
前記有効駆動電極領域の前記長手方向の両側縁部は、前記ポンプ領域内に配置されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項5に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記溝の前記第二主面側の開口を覆うように前記アクチュエータ基板に設置され、前記溝に液体を供給する液体供給室を有するカバープレートを備え、
前記溝のうち、前記ノズル孔の周辺の領域であって、前記液体供給室に対応する領域以外の所定領域がポンプ領域とされ、
前記有効駆動電極領域の前記長手方向の両側縁部は、前記ポンプ領域と非ポンプ領域との境界に沿うように配置されていることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項6または7に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記カバープレートは前記溝から前記液体を排出する液体排出室を備え、
前記液体供給室が前記溝における前記長手方向の前記一方側に連通し、前記液体排出室が前記溝における前記長手方向の前記他方側に連通するとともに、
前記溝のうち、前記液体供給室と前記液体排出室との間に対応する領域が前記ポンプ領域とされることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項8に記載の液体噴射ヘッドであって、
複数の前記溝は、吐出溝と非吐出溝とが交互に配列することにより形成され、
前記液体供給室および前記液体排出室は、前記吐出溝と連通していることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から9のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記絶縁膜を形成する材料の比誘電率は、前記壁部を形成する前記圧電体の比誘電率よりも小さいことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1から10のいずれか1項に記載の液体噴射ヘッドであって、
前記絶縁膜を形成する材料は、SiO2を主成分とすることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1に記載の液体噴射ヘッドの製造方法であって、
圧電体基板に絶縁膜用マスクを設置する絶縁膜用マスク設置工程と、
前記圧電体基板に絶縁材料を成膜する絶縁材料成膜工程と、
前記駆動電極の成膜領域に対応した部分が開口した駆動電極用マスクを設置する駆動電極用マスク設置工程と、
前記駆動電極の電極材料を成膜する駆動電極製膜工程と、
を備えたことを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 - 請求項1に記載の液体噴射ヘッドと、
前記液体噴射ヘッドと被記録媒体とを相対的に移動させる移動機構と、
前記液体噴射ヘッドに液体を供給する液体供給管と、
前記液体供給管に前記液体を供給する液体タンクと、
を備える液体噴射装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012277282A JP6121708B2 (ja) | 2012-12-19 | 2012-12-19 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 |
US14/103,900 US9085153B2 (en) | 2012-12-19 | 2013-12-12 | Liquid jet head, method for producing liquid jet head, and liquid jet apparatus |
CN201310702130.5A CN103879146B (zh) | 2012-12-19 | 2013-12-19 | 液体喷射头、液体喷射头的制造方法以及液体喷射装置 |
GB1322521.4A GB2511185B (en) | 2012-12-19 | 2013-12-19 | Liquid jet head, method for producing liquid jet head, and liquid jet apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012277282A JP6121708B2 (ja) | 2012-12-19 | 2012-12-19 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014117942A JP2014117942A (ja) | 2014-06-30 |
JP6121708B2 true JP6121708B2 (ja) | 2017-04-26 |
Family
ID=50071102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012277282A Active JP6121708B2 (ja) | 2012-12-19 | 2012-12-19 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9085153B2 (ja) |
JP (1) | JP6121708B2 (ja) |
CN (1) | CN103879146B (ja) |
GB (1) | GB2511185B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6547249B2 (ja) * | 2014-07-31 | 2019-07-24 | ブラザー工業株式会社 | 液体吐出装置の製造方法、及び、液体吐出装置 |
JP6393180B2 (ja) * | 2014-12-16 | 2018-09-19 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3139511B2 (ja) * | 1990-11-09 | 2001-03-05 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
EP0901415B1 (en) * | 1996-04-23 | 2002-07-24 | Xaar Technology Limited | Droplet deposition apparatus |
JP3770898B1 (ja) * | 2004-11-16 | 2006-04-26 | シャープ株式会社 | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
JP2009061614A (ja) | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Sharp Corp | インクジェットヘッド、およびインクジェットヘッドの製造方法 |
JP5437773B2 (ja) | 2009-10-29 | 2014-03-12 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP5351714B2 (ja) * | 2009-11-12 | 2013-11-27 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP5432064B2 (ja) * | 2010-05-31 | 2014-03-05 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2012192629A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Toshiba Tec Corp | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
JP5882069B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2016-03-09 | エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2012
- 2012-12-19 JP JP2012277282A patent/JP6121708B2/ja active Active
-
2013
- 2013-12-12 US US14/103,900 patent/US9085153B2/en active Active
- 2013-12-19 GB GB1322521.4A patent/GB2511185B/en active Active
- 2013-12-19 CN CN201310702130.5A patent/CN103879146B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB201322521D0 (en) | 2014-02-05 |
GB2511185A (en) | 2014-08-27 |
CN103879146A (zh) | 2014-06-25 |
US20140168321A1 (en) | 2014-06-19 |
US9085153B2 (en) | 2015-07-21 |
JP2014117942A (ja) | 2014-06-30 |
GB2511185B (en) | 2019-11-13 |
CN103879146B (zh) | 2016-08-31 |
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