JP6086299B2 - 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6086299B2 JP6086299B2 JP2012248951A JP2012248951A JP6086299B2 JP 6086299 B2 JP6086299 B2 JP 6086299B2 JP 2012248951 A JP2012248951 A JP 2012248951A JP 2012248951 A JP2012248951 A JP 2012248951A JP 6086299 B2 JP6086299 B2 JP 6086299B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving body
- carriage
- axis direction
- substrate
- moving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 124
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 12
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 9
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 20
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 17
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
以下、第1の実施形態について、図1〜図6を用いて説明する。
次に第2の実施形態について、図8及び図9を用いて説明する。第2の実施形態に係る基板ステージ装置120は、上記第1の実施形態に比べ、基板PをZ・チルト方向に駆動するための駆動系の構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第1の実施形態と同じ構成、及び機能を有する要素については、上記第1の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。
次に第3の実施形態について、図10を用いて説明する。第3の実施形態に係る基板ステージ装置220は、上記第1の実施形態の基板ステージ装置20(図1参照)に比べ、Yキャリッジ30をY軸、及び/又はX軸方向に駆動するための一対のX/Y軸2DOFモータ35の構成が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第1の実施形態と同じ構成、及び機能を有する要素については、上記第1の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。
次に第4の実施形態について、図11〜図14を用いて説明する。本第4の実施形態に係る基板ステージ装置320は、上記第1〜第3の実施形態と比べてYキャリッジ30の駆動方式が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第1〜3の実施形態と同じ構成、及び機能を有する要素については、上記第1〜3の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。なお、図11に示される基板ステージ装置320は、図12のE−E線断面図に相当する。
次に第5の実施形態について、図15(A)〜図16(B)を用いて説明する。第5の実施形態に係る基板ステージ装置420は、スイッチング装置80を有している点が上記第4の実施形態の基板ステージ装置320(図11参照)と異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第4の実施形態と同じ構成、及び機能を有する要素については、上記第4の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。
次に第6の実施形態について、図17(A)及び図17(B)を用いて説明する。第6の実施形態に係る基板ステージ装置520は、サブステージ56(上記第5の実施形態のサブステージ56(図15(A)参照)と機能的には同じなので第5の実施形態と同じ符号を付す)が支持台38に取り付けられている点が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第5の実施形態と同じ構成、及び機能を有する要素については、上記第5の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。
次に第7の実施形態について、図19(A)及び図19(B)を用いて説明する。第7の実施形態に係る基板ステージ装置620は、上記第6の実施形態と比べて一対のXボイスコイルモータ76(図17(A)参照)を有していない点が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第6の実施形態と同じ構成、及び機能を有する要素については、上記第6の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。
Claims (18)
- 互いに直交する第1及び第2方向を含む所定の2次元平面内の前記第1方向へ移動可能な第1移動体と、
前記第2方向に延び、前記第1方向へ移動可能な第2移動体と、
前記第2移動体に支持され、前記第2移動体に対して前記第2方向に関する相対移動が可能な第3移動体と、
前記第1移動体と前記第2移動体とを連結する連結部と、
前記第1移動体を前記第1方向へ駆動する駆動系と、を備え、
前記第3移動体は、前記第1方向へ駆動する前記第1移動体に対して前記連結部により連結された前記第2移動体に支持された状態で、前記第1移動体に押圧されて前記第1方向へ駆動する移動体装置。 - 前記第3移動体は、前記第1移動体に押圧される押圧部を有し、
前記第1移動体は、前記第1方向に関して、前記第3移動体上に前記第1移動体の進行方向とは反対の方向に設けられた前記押圧部を押圧し、前記第3移動体を前記第1方向へ駆動する請求項1に記載の移動体装置。 - 前記駆動系は、前記1移動体と前記第3移動体とに設けられた第1アクチュエータを含み、前記第1移動体に押圧されて前記第1方向へ移動された前記第3移動体を前記第1アクチュエータにより前記第1移動体に対して前記第2方向へ相対駆動する請求項1又は2に記載の移動体装置。
- 前記駆動系は、前記第3移動体の重心高さ位置に前記第1及び第2方向の推力を作用させる請求項2又は3に記載の移動体装置。
- 前記駆動系は、前記1移動体と前記第3移動体とに設けられた第2アクチュエータを含み、前記第2移動体に支持された前記第3移動体を第1移動体に対して前記第2移動体上を前記第2アクチュエータにより前記第1方向へ相対駆動させる請求項2〜4のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1及び第2アクチュエータは、前記第1移動体に設けられた固定子と、前記第3移動体に設けられた可動子とを含む電磁モータである請求項5に記載の移動体装置。
- 前記第1及び第2アクチュエータは、共通のアクチュエータであり、共通するひとつの前記固定子により、前記第1及び第2アクチュエータに共通するひとつの前記可動子を前記第1及び第2方向に駆動する2自由度電磁モータを含む請求項5又は6に記載の移動体装置。
- 前記第1及び第2アクチュエータは、前記固定子で別の前記可動子を駆動する2自由度電磁モータを含み、前記2自由度電磁モータは、前記第3移動体を、前記第1移動体に対して前記第2方向、及び前記2次元平面に交差する方向へ駆動する請求項7に記載の移動体装置。
- 前記第3移動体は、前記第2移動体上に非接触支持される請求項1〜8のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記連結部は、前記第2移動体の重心高さ位置で前記第1移動体と前記第2移動体とを連結し、
前記第1移動体から前記第2移動体に付与される推力は、前記第2移動体の重心高さ位置に作用する請求項1〜9のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記連結部は、前記第1方向の剛性に比べてその他の方向の剛性が低い請求項1〜10のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記駆動系は、前記第1移動体が前記第1方向に沿って加減速する際に、前記第1移動体を駆動する前記第1アクチュエータにより前記第3移動体に前記第1方向に沿った推力を作用させ前記第3移動体を前記第1方向に沿って加減速させる請求項1〜11のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1及び第2移動体が前記第1方向に沿って加減速される際に前記第1移動体と前記3移動体との前記第1方向に沿った相対移動を制限する制限装置を更に備える請求項1〜11のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 所定の物体が前記第3移動体に保持される請求項1〜13のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。 - 前記物体は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である請求項14に記載の露光装置。
- 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項15に記載の露光装置。
- 請求項15又は16に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項14〜16のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012248951A JP6086299B2 (ja) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012248951A JP6086299B2 (ja) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014098732A JP2014098732A (ja) | 2014-05-29 |
JP6086299B2 true JP6086299B2 (ja) | 2017-03-01 |
Family
ID=50940803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012248951A Active JP6086299B2 (ja) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6086299B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6437884B2 (ja) * | 2015-06-03 | 2018-12-12 | 旭化成エンジニアリング株式会社 | 平面移動装置 |
JP6889534B2 (ja) * | 2016-09-28 | 2021-06-18 | 国立大学法人 東京大学 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、およびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000078830A (ja) * | 1998-09-01 | 2000-03-14 | Nikon Corp | リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置 |
JP2002353127A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-06 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
US8659746B2 (en) * | 2009-03-04 | 2014-02-25 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method |
US20120064460A1 (en) * | 2010-09-07 | 2012-03-15 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
-
2012
- 2012-11-13 JP JP2012248951A patent/JP6086299B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014098732A (ja) | 2014-05-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6593662B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、移動体駆動方法、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP6558721B2 (ja) | 移動体装置及び移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
TWI789689B (zh) | 曝光裝置、平面顯示器之製造方法、及元件製造方法 | |
JP6319277B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光方法 | |
JP6551762B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5849955B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP6132079B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
WO2014024465A1 (ja) | 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2014098731A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5807841B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP6086299B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2013219068A (ja) | 物体駆動システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体の駆動方法 | |
JP5863149B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5772196B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体装置の組立方法。 | |
JP6135099B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012234108A (ja) | 用力伝達部材案内装置、移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び用力伝達部材の案内方法 | |
JP6573131B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5958692B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法並びに露光方法 | |
JP2013214024A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2019133192A (ja) | 物体搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2017135418A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2013214028A (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170119 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6086299 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |