JP6058360B2 - 基板受渡機構、基板搬送装置及び基板受渡方法 - Google Patents
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Description
10 基板処理システム
11 トランスファモジュール
12 プロセスモジュール
14 ロードロックモジュール
17a 搬送アーム
17b フォーク
17c パッド
18 ステージ
18a リフトピン
Claims (8)
- 搬送アームに設けられた基板支持部へ基板を受け渡すために前記基板を上方へ持ち上げる複数のリフトピンを備える基板受渡機構であって、
前記複数のリフトピンは平面視において同一円周上に配置され、
前記基板支持部は、上方に突出し且つ前記基板の裏面へ当接して前記基板を支持する弾性体からなる複数の当接部を有し、
前記複数のリフトピンのピッチ円直径は、前記複数のリフトピンが前記基板を上方へ持ち上げた際、前記基板が積極的に上に凸に変形して前記基板の裏面が水平に対して傾斜し、該傾斜した基板の裏面が前記複数の当接部に当接して該複数の当接部によって前記基板が支持された際、前記複数の当接部を水平に対して傾斜した方向に変形させ、前記傾斜した方向へ作用して前記複数の当接部からの前記基板の離間を補助する力を発生させるように設定されることを特徴とする基板受渡機構。 - 前記当接部の少なくとも上端は半球状を呈することを特徴とする請求項1記載の基板受渡機構。
- 前記基板は直径が450mmの円板状部材からなり、前記複数のリフトピンのピッチ円直径は180mm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の基板受渡機構。
- 前記複数のリフトピンのピッチ円直径は120mm以下であることを特徴とする請求項3記載の基板受渡機構。
- 大気真空切替室、基板処理室、並びに、前記大気真空切替室及び前記基板処理室の間に介在する基板搬送室を備える基板処理システムにおいて、前記基板処理室及び前記大気真空切替室の間で基板を搬送する基板搬送装置であって、
前記基板搬送室に配置され、且つ前記大気真空切替室及び前記基板処理室へ進退自在な基板支持部を有する搬送アームと、
前記大気真空切替室に配置され、且つ前記基板支持部へ前記基板を受け渡すために前記基板を上方へ持ち上げる複数のリフトピンとを備え、
前記複数のリフトピンは平面視において同一円周上に配置され、
前記基板支持部は、上方に突出し且つ前記基板の裏面へ当接して前記基板を支持する弾性体からなる複数の当接部を有し、
前記複数のリフトピンのピッチ円直径は、前記複数のリフトピンが前記基板を上方へ持ち上げた際、前記基板が積極的に上に凸に変形して前記基板の裏面が水平に対して傾斜し、該傾斜した基板の裏面が前記複数の当接部に当接して該複数の当接部によって前記基板が支持された際、前記複数の当接部を水平に対して傾斜した方向に変形させ、前記傾斜した方向へ作用して前記複数の当接部からの前記基板の離間を補助する力を発生させるように設定されることを特徴とする基板搬送装置。 - 搬送アームに設けられた基板支持部へ複数のリフトピンで基板を受け渡す基板受渡方法であって、
前記複数のリフトピンで前記基板を上方へ持ち上げる際、前記基板の中心近傍を前記複数のリフトピンで支持して前記基板を積極的に上に凸に変形させて前記基板の裏面を水平に対して傾斜させる基板上昇ステップと、
前記複数のリフトピンで前記基板を支持したまま、前記複数のリフトピンで前記基板を下降させて前記基板を前記基板支持部に支持させる基板下降ステップとを有し、
前記複数のリフトピンは平面視において同一円周上に配置され、
前記基板支持部は、上方に突出し且つ前記基板の裏面へ当接して前記基板を支持する弾性体からなる複数の当接部を有し、
前記複基板下降ステップにおいて前記傾斜した基板の裏面が前記複数の当接部に当接して該複数の当接部によって前記基板が支持された際、前記複数の当接部を水平に対して傾斜した方向に変形させ、前記傾斜した方向へ作用して前記複数の当接部からの前記基板の離間を補助する力を発生させるように、前記複数のリフトピンのピッチ円直径が設定されることを特徴とする基板受渡方法。 - 前記基板は直径が450mmの円板状部材からなり、前記複数のリフトピンのピッチ円直径は180mm以下であることを特徴とする請求項6記載の基板受渡方法。
- 前記複数のリフトピンのピッチ円直径は120mm以下であることを特徴とする請求項7記載の基板受渡方法。
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