JP6054834B2 - ナノワイヤの作製方法 - Google Patents
ナノワイヤの作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6054834B2 JP6054834B2 JP2013206124A JP2013206124A JP6054834B2 JP 6054834 B2 JP6054834 B2 JP 6054834B2 JP 2013206124 A JP2013206124 A JP 2013206124A JP 2013206124 A JP2013206124 A JP 2013206124A JP 6054834 B2 JP6054834 B2 JP 6054834B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nanowire
- growth
- fine particles
- supplied
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Led Devices (AREA)
Description
はじめに、本発明の実施の形態1について図1を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるナノワイヤの作製方法を説明するフローチャートである。このナノワイヤの作製方法は、まず、工程S101で、基板の上に触媒金属の微粒子を配置する(微粒子配置工程)。例えば、主表面の面方位を(111)B面としたInP基板の上に、Auからなる直径10nm程度の微粒子を配置すればよい。
次に、本発明の実施の形態2について説明する。実施の形態2におけるナノワイヤの形成方法は、まず、第1工程で、基板の上に触媒金属の微粒子を配置する(微粒子配置工程)。例えば、主表面の面方位を(111)B面としたInP基板の上に、Auからなる直径10nm程度の複数の微粒子を配置する。例えば、Au微粒子が分散している分散液(コロイド溶液)を塗布し、この後、分散媒体を除去すればよい。
次に、本発明の実施の形態3について説明する。実施の形態3におけるナノワイヤの形成方法は、まず、第1工程で、基板の上に触媒金属の微粒子を配置する(微粒子配置工程)。例えば、主表面の面方位を(111)B面としたGaAs基板の上に、Auからなる複数の微粒子を配置する。例えば、基板の上に蒸着法などによりAu層を形成し、形成したAu層を、よく知られたリソグラフィ技術によりパターニングし、直径20μmの円形のパターンが配列した配列パターンを形成する。この後、基板を加熱することで、基板の上に、複数のAu微粒子が配列した状態とすればよい。
次に、本発明の実施の形態4について説明する。実施の形態4におけるナノワイヤの形成方法は、まず、第1工程で、基板の上に触媒金属の微粒子を配置する(微粒子配置工程)。例えば、主表面の面方位を(111)B面としたInP基板の上に、Auからなる直径10nm程度の複数の微粒子を配置する。例えば、Au微粒子が分散している分散液(コロイド溶液)を塗布し、この後、分散媒体を除去すればよい。
Claims (6)
- 基板の上に触媒金属の微粒子を配置する微粒子配置工程と、
前記微粒子を配置した前記基板の上に有機金属から構成された原料ガスを供給し、前記微粒子を触媒として前記原料ガスより結晶化したナノワイヤを成長するナノワイヤ成長工程と
を備え、
前記ナノワイヤ成長工程では、前記原料ガスに加えて(CH3)3CClのガスを供給する
ことを特徴とするナノワイヤの作製方法。 - 請求項1記載のナノワイヤの作製方法において、
前記ナノワイヤ成長工程は、
所定の原料ガスを供給して前記微粒子を触媒として第1ナノワイヤを成長する第1ナノワイヤ成長工程と、
前記第1ナノワイヤの成長とは組成が異なる原料ガスを供給し、前記微粒子を触媒として前記第1ナノワイヤに連続して第2ナノワイヤを成長する第2ナノワイヤ成長工程と
を備えることを特徴とするナノワイヤの作製方法。 - 請求項2記載のナノワイヤの作製方法において、
前記第1ナノワイヤ成長工程および前記第2ナノワイヤ成長工程において(CH3)3CClのガスを供給することを特徴とするナノワイヤの作製方法。 - 請求項2記載のナノワイヤの作製方法において、
前記第1ナノワイヤ成長工程では(CH3)3CClのガスを供給せず、
前記第2ナノワイヤ成長工程では(CH3)3CClのガスを供給する
ことを特徴とするナノワイヤの作製方法。 - 請求項1記載のナノワイヤの作製方法において、
前記ナノワイヤ成長工程は、
前記原料ガスとともに第1導電型の不純物となる第1不純物原料を供給して前記微粒子を触媒として第1導電型ナノワイヤを成長する第1導電型ナノワイヤ成長工程と、
前記原料ガスを供給し、前記微粒子を触媒として前記第1導電型ナノワイヤに連続して不純物が導入されていないi型ナノワイヤを成長するi型ナノワイヤ成長工程と、
前記原料ガスとともに第2導電型の不純物となる第2不純物原料を供給し、前記微粒子を触媒として前記i型ナノワイヤに連続して第2導電型ナノワイヤを成長する第2導電型ナノワイヤ成長工程と
を備えることを特徴とするナノワイヤの作製方法。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載のナノワイヤの作製方法において、
前記触媒金属は、Auであることを特徴とするナノワイヤの作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013206124A JP6054834B2 (ja) | 2013-10-01 | 2013-10-01 | ナノワイヤの作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013206124A JP6054834B2 (ja) | 2013-10-01 | 2013-10-01 | ナノワイヤの作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015067530A JP2015067530A (ja) | 2015-04-13 |
JP6054834B2 true JP6054834B2 (ja) | 2016-12-27 |
Family
ID=52834584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013206124A Active JP6054834B2 (ja) | 2013-10-01 | 2013-10-01 | ナノワイヤの作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6054834B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6669608B2 (ja) * | 2016-08-03 | 2020-03-18 | 日本電信電話株式会社 | 半導体ナノワイヤレーザーおよびその製造方法 |
JP6669611B2 (ja) * | 2016-08-25 | 2020-03-18 | 日本電信電話株式会社 | ナノワイヤレーザ |
JP6863909B2 (ja) * | 2018-01-18 | 2021-04-21 | 日本電信電話株式会社 | ナノワイヤ光デバイス |
KR102608987B1 (ko) * | 2018-09-07 | 2023-12-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 발광 소자, 그의 제조 방법, 및 발광 소자를 구비한 표시 장치 |
CN110156021A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-08-23 | 承德石油高等专科学校 | 一种SiNWS:Eu3+,Lu3+荧光纳米材料制备方法 |
WO2023152873A1 (ja) * | 2022-02-10 | 2023-08-17 | 日本電信電話株式会社 | ナノ構造デバイスの作製方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2442985C (en) * | 2001-03-30 | 2016-05-31 | The Regents Of The University Of California | Methods of fabricating nanostructures and nanowires and devices fabricated therefrom |
US20070020933A1 (en) * | 2003-09-24 | 2007-01-25 | Koichi Naniwae | Method of cleaning treatment and method for manufacturing semiconductor device |
US8274138B2 (en) * | 2009-09-30 | 2012-09-25 | Eastman Kodak Company | II-VI semiconductor nanowires |
-
2013
- 2013-10-01 JP JP2013206124A patent/JP6054834B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015067530A (ja) | 2015-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11450528B2 (en) | Process for growing nanowires or nanopyramids on graphitic substrates | |
JP6054834B2 (ja) | ナノワイヤの作製方法 | |
JP5010908B2 (ja) | Iii−n層の選択的マスキング方法、自立iii−n層もしくはデバイスの製造方法、および当該方法により得られる製品 | |
JP5464458B2 (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
TW201717425A (zh) | 奈米材料 | |
JP2006248893A (ja) | ナノワイヤー及びその製造方法 | |
JP5795527B2 (ja) | ナノワイヤの作製方法 | |
KR20090008182A (ko) | Gan 나노선의 펄스 성장 및 ⅲ 족 질화물 반도체 기판 물질과 디바이스에서의 어플리케이션 | |
JP6146199B2 (ja) | 半導体ナノワイヤの製造方法及び光半導体装置の製造方法 | |
JP5876408B2 (ja) | ナノワイヤの作製方法 | |
JP6271401B2 (ja) | 量子ドットナノワイヤの製造方法 | |
JP2022541490A (ja) | ナノワイヤデバイス | |
JP6187394B2 (ja) | 半導体ナノワイヤの製造方法及び半導体ナノワイヤ素子の製造方法 | |
JP4814562B2 (ja) | ナノ構造の作製方法 | |
JP4923003B2 (ja) | ナノワイヤ作製方法、ナノワイヤ素子及びナノワイヤ構造物 | |
JP2012222274A (ja) | ナノピラーの作製方法 | |
KR101433895B1 (ko) | 나노와이어 제조 방법 | |
JP6232611B2 (ja) | 発光素子およびその製造方法 | |
WO2020027018A1 (ja) | 金微粒子の作製方法 | |
JP2009016562A (ja) | 半導体量子ドット素子、半導体量子ドット素子の形成方法および半導体量子ドット素子を利用した半導体レーザ | |
Deshpande et al. | Bright LEDs using position-controlled MOCVD growth of InP nanopillar array on a silicon substrate | |
Kawaguchi et al. | VLS growth of position-controlled InP nanowires and formation of radial heterostructures on mask-patterned InP substrates | |
JP2006108440A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2012028824A (ja) | Iii−v化合物半導体光素子を作製する方法 | |
JP2004281767A (ja) | 化合物半導体構造及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151218 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160816 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161005 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6054834 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |