JP6042028B2 - 高周波パッケージ - Google Patents

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Description

本発明は、高周波デバイスを収納する高周波パッケージに関する。
マイクロ波帯やミリ波帯の高周波信号を扱う高周波デバイスが知られている。そのような高周波デバイスを収納する高周波パッケージでは、誘電体基板上に高周波デバイスが搭載される。その誘電体基板の内層に、高周波信号の伝送線路が設けられる場合もある(例えば、特許文献1参照)。
国際公開第2007/091470号
本願発明者は、次のような課題を初めて認識した。
高周波デバイスが搭載される誘電体基板として、「樹脂基板」が用いられる場合を考える。樹脂基板の製造工程では、洗浄液などに起因する水分がコア材などに侵入する。侵入した水分は、メッキによって樹脂基板内部に閉じ込められる。その後、リフロー処理により、樹脂基板内部でガスが発生する。このとき、ガスの逃げ道が無ければ、ガスが樹脂基板内部で膨張してしまい、それがデラミネーション(層間はく離)を引き起こす恐れがある。
このようなデラミネーションを防ぐために、樹脂基板のグランド面に、ガス抜きのための穴を多数あけることが考えられる。しかしながらこの場合、樹脂基板の内層の伝送線路に起因するマイクロ波帯やミリ波帯の高周波信号が、そのガス抜き用穴を通して外部に漏洩する恐れがある。このことは、EMI(Electro−Magnetic Interference)特性の悪化を招く。
本発明の1つの目的は、樹脂基板を用いた高周波パッケージのEMI特性の悪化を防止することができる技術を提供することにある。
本発明の1つの観点において、高周波パッケージは、樹脂基板と、樹脂基板の第1表面側に搭載された高周波デバイスと、樹脂基板の第1表面と反対側の第2表面上に形成されたグランド電位のグランド面導体と、樹脂基板の内層に形成された高周波信号の伝送線路と、樹脂基板の内部に形成されたグランド電位のグランドビアと、を備える。グランド面導体には貫通穴が形成されている。グランドビアは、伝送線路と貫通穴との間に配置されている。
本発明の他の観点において、高周波パッケージは、樹脂基板と、樹脂基板の第1表面側に搭載された高周波デバイスと、樹脂基板の第1表面と反対側の第2表面上に形成されたグランド電位のグランド面導体と、樹脂基板の内層に形成された高周波信号の伝送線路と、を備える。グランド面導体には貫通穴が形成されている。その貫通穴の直径は、高周波信号の波長の1/2未満である。
本発明によれば、樹脂基板を用いた高周波パッケージのEMI特性の悪化を防止することが可能となる。
図1は、本発明の実施の形態に係る高周波パッケージの樹脂基板の上面図である。 図2は、本発明の実施の形態に係る高周波パッケージの断面図である。
添付図面を参照して、本発明の実施の形態に係る高周波パッケージを説明する。
実施の形態.
図1は、本実施の形態に係る高周波パッケージの樹脂基板の上面図である。図2は、本実施の形態に係る高周波パッケージの断面図であって、図1中の線A−A’に沿った断面構造を示している。尚、説明を分かりやすくするため、図1において、樹脂基板の内層に形成されているいくつかの構成要素も破線で示されている。
本実施の形態に係る高周波パッケージは、マイクロ波帯やミリ波帯の高周波信号を扱う高周波デバイス1を収納する。そのような高周波デバイス1として、例えば、MMIC(Monolithic Microwave Integrated Circuit)チップが挙げられる。
本実施の形態に係る高周波パッケージでは、互いに対向する2つの基板が用いられる。より詳細には、図2に示されるように、下側のマザー基板10と上側の樹脂基板20とが互いに対向するように配置されている。また、マザー基板10と樹脂基板20とを接続する基板間接続導体15が、マザー基板10と樹脂基板20との間に挟まれるように配置されている。これらマザー基板10、樹脂基板20、及び基板間接続導体15によって囲まれた空間に、高周波デバイス1が配置される。より詳細には、樹脂基板20上に高周波デバイス1が搭載される。
樹脂基板20は、第1表面21と第2表面22を有している。第1表面21は、高周波デバイス1が搭載される側の面(デバイス面)であり、マザー基板10に対向している。第2表面22は、第1表面21と反対側の面であり、後述されるようにグランド面を形成するために用いられる。
高周波デバイス1は、樹脂基板20の第1表面21側に搭載されている。より詳細には、樹脂基板20の第1表面21上に、表層伝送線路30やグランド配線(図示されない)が形成されている。そして、高周波デバイス1は、それら表層伝送線路30やグランド配線に対して、バンプ31を介してフリップチップ接続されている。
一方、樹脂基板20の第2表面22上にはグランド面導体40が形成されている。グランド面導体40の電位は、グランド電位である。このグランド面導体40によって、樹脂基板20の第2表面22側にグランド面が形成される。
樹脂基板20の内層には、高周波信号の伝送線路である内層伝送線路50が形成されている。この内層伝送線路50は、ビア51を介して、上述の表層伝送線路30に接続されている。例えば、内層伝送線路50は、トリプレート線路を構成する。この場合、上述の第2表面22上のグランド面導体40も、トリプレート線路の構成要素となる。
また、樹脂基板20の内層には、内層グランド導体60も形成されている。内層グランド導体60の電位は、グランド電位である。
樹脂基板20が用いられる場合、上述の通り、リフロー処理によって、樹脂基板20内部でガスが発生する。このとき、ガスの逃げ道が無ければ、ガスが樹脂基板20内部で膨張してしまい、それがデラミネーション(層間はく離)を引き起こす恐れがある。本実施の形態によれば、このようなデラミネーションを防ぐために、第2表面22上のグランド面導体40に、ガス抜き用の貫通穴70が多数形成される(図1参照)。但し、内層伝送線路50に起因するマイクロ波帯やミリ波帯の高周波信号が、その貫通穴70を通して外部に漏洩する恐れがある。このことは、EMI特性の悪化を招く。
そこで、本実施の形態によれば、貫通穴70の直径Dが、高周波信号の波長λの1/2未満に設計される(D<λ/2)。このように貫通穴70の径を小さくすることにより、貫通穴70に関するカットオフ周波数が、高周波デバイス1で使用される周波数帯以上となる。その結果、貫通穴70からの高周波信号の漏洩が低減される。
また、本実施の形態によれば、樹脂基板20の内部に形成されるグランドビア80が有効に活用される。グランドビア80の電位は、グランド電位である。例えば、グランドビア80は、グランド面導体40と内層グランド導体60との間を接続するように、樹脂基板20の内部に形成されている。図1及び図2に示されるように、このようなグランドビア80が、内層伝送線路50と貫通穴70との間に配置されている。すなわち、内層伝送線路50から貫通穴70に抜ける漏洩経路上に、グランド電位のグランドビア80が配置されている。このグランドビア80によるシールド効果により、貫通穴70からの高周波信号の漏洩が低減される。
図1に示されるように、多数のグランドビア80が、内層伝送線路50に沿って配置されると好適である。多数のグランドビア80が、内層伝送線路50の周りを囲むように配置されると更に好適である。これにより、グランドビア80によるシールド効果が顕著になり、貫通穴70からの高周波信号の漏洩が大幅に低減される。
以上に説明されたように、本実施の形態によれば、樹脂基板20を用いる場合であっても、デラミネーションを防止することができ、且つ、EMI特性の悪化も防止することが可能となる。
以上、本発明の実施の形態が添付の図面を参照することにより説明された。但し、本発明は、上述の実施の形態に限定されず、要旨を逸脱しない範囲で当業者により適宜変更され得る。
1 高周波デバイス、10 マザー基板、15 基板間接続導体、20 樹脂基板、21 第1表面、22 第2表面、30 表層伝送線路、31 バンプ、40 グランド面導体、50 内層伝送線路、51 ビア、60 内層グランド導体、70 貫通穴、80 グランドビア。

Claims (4)

  1. 樹脂基板と、
    前記樹脂基板の第1表面側に搭載された高周波デバイスと、
    前記樹脂基板の前記第1表面と反対側の第2表面上に形成された、グランド電位のグランド面導体と、
    前記樹脂基板の内層に形成された、高周波信号の伝送線路と、
    前記樹脂基板の内部に形成された、グランド電位のグランドビアと
    を備え、
    前記グランド面導体には貫通穴が形成され、
    前記グランドビアは、前記伝送線路と前記貫通穴との間に配置されている
    ことを特徴とする高周波パッケージ。
  2. 前記グランドビアの数は複数であり、
    前記複数のグランドビアは、前記伝送線路に沿って配置されている
    ことを特徴とする請求項1に記載の高周波パッケージ。
  3. 前記貫通穴の直径は、前記高周波信号の波長の1/2未満である
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の高周波パッケージ。
  4. 樹脂基板と、
    前記樹脂基板の第1表面側に搭載された高周波デバイスと、
    前記樹脂基板の前記第1表面と反対側の第2表面上に形成された、グランド電位のグランド面導体と、
    前記樹脂基板の内層に形成された、高周波信号の伝送線路と
    を備え、
    前記グランド面導体には貫通穴が形成され、
    前記貫通穴の直径は、前記高周波信号の波長の1/2未満である
    ことを特徴とする高周波パッケージ。
JP2016507171A 2014-03-11 2014-03-11 高周波パッケージ Active JP6042028B2 (ja)

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