JP6018369B2 - Substrate processing system, management apparatus, and display method in substrate processing system - Google Patents

Substrate processing system, management apparatus, and display method in substrate processing system Download PDF

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Description

本発明は、少なくとも1台の基板処理装置に関する情報を処理する基板処理システムに関するものである。   The present invention relates to a substrate processing system for processing information related to at least one substrate processing apparatus.

基板処理装置は、基板処理装置の各部から基板処理に関する情報を収集し、基板処理装置を管理する群管理装置に送信する。群管理装置には、GUI(Graphical User Interface)を備えた端末装置が接続され、群管理装置は、端末装置からの要求に基づいて、基板処理に関する情報を送信する。このような構成によって、端末装置の操作者は、群管理装置を介して、いずれの端末装置においても、基板処理装置に関する情報を表示させることができる。   The substrate processing apparatus collects information related to substrate processing from each part of the substrate processing apparatus and transmits the information to a group management apparatus that manages the substrate processing apparatus. A terminal device having a GUI (Graphical User Interface) is connected to the group management device, and the group management device transmits information related to substrate processing based on a request from the terminal device. With such a configuration, the operator of the terminal device can display information regarding the substrate processing apparatus in any terminal device via the group management device.

従来、端末操作での表示形式(表示内容、表示色及び表示位置など)を操作者ごとに保存することができず、操作者は、端末装置にログインするたびに、前回ログアウトした時点の表示形式を再現するための操作を行う必要があり、作業効率が低下していた。   Conventionally, the display format (display content, display color, display position, etc.) for the terminal operation cannot be saved for each operator, and the display format at the time when the operator logged out the last time each time the user logs in to the terminal device. It was necessary to perform an operation to reproduce the above, and the work efficiency was reduced.

本発明の目的は、作業効率の低下を防止する基板処理システムを提供することにある。   The objective of this invention is providing the substrate processing system which prevents the fall of work efficiency.

上記目的を達成するために、本発明に係る基板処理システムは、基板処理を実行する基板処理装置と、前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置と、前記群管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する端末装置とからなる基板処理システムであって、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理に関する情報の表示を制御する制御手段とを有する。   In order to achieve the above object, a substrate processing system according to the present invention includes a substrate processing apparatus that executes substrate processing, a group management apparatus that collectively acquires information on the substrate processing apparatus from the substrate processing apparatus, and the group A substrate processing system comprising a terminal device that acquires information related to the substrate processing apparatus via a management device, the information relating to display of information related to an operator of the terminal device and information related to the substrate processing apparatus in the terminal device Based on the storage means for storing the information, the information on the operator of the terminal device stored in the storage means, and the information on the display of the information on the substrate processing apparatus in the terminal device. Control means for controlling display of information relating to the substrate processing.

本発明に係る群管理装置は、基板処理を実行する基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置であって、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報が変更された場合、変更内容を保存する保存手段とを有する。   The group management apparatus according to the present invention is a group management apparatus that collectively acquires information related to a substrate processing apparatus that performs substrate processing, and that is related to an operator of the terminal apparatus and information related to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus. Storage means for storing the information related to the display, and storage means for saving the change contents when the information related to the display of the information related to the substrate processing apparatus in the terminal device stored in the storage means is changed. .

本発明に係る基板処理システムは、基板処理を実行する基板処理装置と、前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置と、前記群管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する端末装置とからなる基板処理システムであって、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報と、前記端末装置の操作者がログアウトした時点の前記端末装置における表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理に関する情報の表示を制御する制御手段とを有する。   A substrate processing system according to the present invention includes a substrate processing apparatus that performs substrate processing, a group management apparatus that collectively acquires information on the substrate processing apparatus from the substrate processing apparatus, and the substrate via the group management apparatus. A substrate processing system comprising a terminal device that acquires information relating to a processing apparatus, wherein the information relating to an operator of the terminal device, information relating to display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal device, and operation of the terminal device Storage means for storing information relating to the display on the terminal device at the time when the user logs out, information relating to the operator of the terminal device stored in the storage means, and information relating to the substrate processing apparatus in the terminal device Control means for controlling the display of the information relating to the substrate processing in the terminal device based on the information relating to the display. With the door.

好適には、前記端末装置の操作者がログアウトした時点の前記端末装置における表示に関する情報は、前記端末装置に表示されていた画面の名前、該画面の位置、該画面のサイズ、及び、該画面が表示されていた前記端末装置のディスプレイのサイズである。   Preferably, the information related to the display on the terminal device at the time when the operator of the terminal device logs out includes the name of the screen displayed on the terminal device, the position of the screen, the size of the screen, and the screen Is the size of the display of the terminal device on which was displayed.

好適には、ログアウトした前記端末装置の操作者が再度ログインした場合、前記制御手段は、前記端末装置の操作者がログアウトした時点の前記端末装置における表示に関する情報を前記記憶手段から読み出し、読み出した情報に基づいて、前記端末装置における表示を制御する。   Preferably, when an operator of the terminal device that has logged out logs in again, the control unit reads information related to display on the terminal device at the time when the operator of the terminal device logs out and reads the information Based on the information, display on the terminal device is controlled.

本発明によれば、作業効率の低下を防止する基板処理システムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the substrate processing system which prevents the fall of work efficiency can be provided.

本発明の実施形態に係る基板処理システムの構成図である。1 is a configuration diagram of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention. 図1に示した基板処理装置の平面透視図である。FIG. 2 is a plan perspective view of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1. 図1に示した基板処理装置の側面透視図である。FIG. 2 is a side perspective view of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1. 図1に示した群管理装置内のデータベースに格納される、操作者情報及び表示情報の一例である。It is an example of operator information and display information stored in the database in the group management apparatus shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、基板処理装置タイプ一覧画面の一例である。It is an example of the substrate processing apparatus type list screen displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、基板処理装置一覧画面の一例である。It is an example of the substrate processing apparatus list screen displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット切替画面の一例である。It is an example of a format switching screen displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面の一例である。It is an example of a format edit screen displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、アイテム選択画面の例である。It is an example of the item selection screen displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面(一部)及び詳細画面(一部)の一例である。It is an example of a format edit screen (part) and a detail screen (part) displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面(一部)及び詳細画面(一部)の一例である。It is an example of a format edit screen (part) and a detail screen (part) displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面(一部)の一例である。It is an example of a format edit screen (part) displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面(一部)の一例である。It is an example of a format edit screen (part) displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面(一部)の一例である。It is an example of a format edit screen (part) displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 図1に示した端末装置のディスプレイに表示される、フォーマット編集画面(一部)の一例である。It is an example of a format edit screen (part) displayed on the display of the terminal device shown in FIG. 表示画面のサイズを調整する手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure which adjusts the size of a display screen. 図16のフローチャートで用いられる値を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the value used with the flowchart of FIG.

まず、本発明の実施形態に係る基板処理システムの概要を説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る基板処理システムの構成図である。図1に示すように、基板処理システム1において、基板処理装置100−1〜100−nがネットワーク102−1を介して群管理装置2に接続されるとともに、群管理装置2がネットワーク102−2を介して端末装置3−1〜3−nに接続される。
First, an outline of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1 is a configuration diagram of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, in the substrate processing system 1, the substrate processing apparatuses 100-1 to 100-n are connected to the group management apparatus 2 via the network 102-1, and the group management apparatus 2 is connected to the network 102-2. Are connected to the terminal devices 3-1 to 3-n.

ここで、nは1以上の整数であって、nが常に同じ数を示すとは限らない。
以下の各図において、実質的に同じ構成部分には、同じ符号が付される。
以下、「基板処理装置100−1〜100−n」など、複数存在しうる構成部分のいずれかが、特定されずに示される場合には、単に「基板処理装置」などと略記されることがある。
Here, n is an integer of 1 or more, and n does not always indicate the same number.
In the following drawings, substantially the same components are denoted by the same reference numerals.
Hereinafter, when any of a plurality of constituent parts such as “substrate processing apparatus 100-1 to 100-n” is indicated without being specified, it may be simply abbreviated as “substrate processing apparatus”. is there.

基板処理装置100は、詳細は図2,3を参照して後述するが、例えば、半導体製造装置である。
群管理装置2は、例えば、データベース管理システムが稼働するデータベースサーバである。群管理装置2は、基板処理装置100の各部から、基板処理装置100の各部の状態を示す情報(例えば、処理炉内の温度、ガス流量及び圧力。以下、単に「基板処理情報」と記載)を取得し、自身のデータベースに格納する。群管理装置2内のデータベースには、基板処理情報のほか、端末装置3の操作者に関する情報(以下、単に「操作者情報」と記載。詳細は図4を参照して後述)及び端末装置3の表示に関する情報(以下、単に「表示情報」と記載。詳細は図4を参照して後述)が格納される。群管理装置2は、端末装置3からの指示に基づいて、端末装置3に対して、基板処理情報及び表示情報を送信する。
端末装置3は、例えば、ディスプレイを備えた一般的なコンピュータである。端末装置3は、群管理装置2に対して、操作者から受け付けた指示を送信する。端末装置3の操作者は、ディスプレイを介して、基板処理情報をディスプレイに表示する指示を入力する。
このような構成により、端末装置3の操作者は、群管理装置2を介して、いずれの端末装置3にも、基板処理装置100から取得した情報を表示させることができる。
The substrate processing apparatus 100 is, for example, a semiconductor manufacturing apparatus, which will be described later in detail with reference to FIGS.
The group management device 2 is, for example, a database server on which a database management system operates. The group management apparatus 2 receives information indicating the state of each part of the substrate processing apparatus 100 from each part of the substrate processing apparatus 100 (for example, temperature, gas flow rate and pressure in the processing furnace. Hereinafter, simply described as “substrate processing information”). And store it in its own database. In the database in the group management device 2, in addition to the substrate processing information, information related to the operator of the terminal device 3 (hereinafter simply referred to as “operator information”; details will be described later with reference to FIG. 4) and the terminal device 3 (Hereinafter simply referred to as “display information”, details will be described later with reference to FIG. 4). The group management device 2 transmits substrate processing information and display information to the terminal device 3 based on an instruction from the terminal device 3.
The terminal device 3 is a general computer provided with a display, for example. The terminal device 3 transmits an instruction received from the operator to the group management device 2. The operator of the terminal device 3 inputs an instruction to display the substrate processing information on the display via the display.
With such a configuration, the operator of the terminal device 3 can display the information acquired from the substrate processing apparatus 100 on any terminal device 3 via the group management device 2.

[基板処理装置]
次に、図1に示した基板処理装置100の具体的な実施形態について説明する。以下、基板処理装置100は、酸化、拡散処理やCVD処理などの処理を基板に施し、半導体装置(IC)を製造する半導体製造装置であるものとして説明する。
図2は、基板処理装置100の平面透視図であり、図3は、基板処理装置100の側面透視図である。
[Substrate processing equipment]
Next, a specific embodiment of the substrate processing apparatus 100 shown in FIG. 1 will be described. Hereinafter, the substrate processing apparatus 100 will be described as a semiconductor manufacturing apparatus that manufactures a semiconductor device (IC) by performing processes such as oxidation, diffusion processing, and CVD processing on the substrate.
FIG. 2 is a plan perspective view of the substrate processing apparatus 100, and FIG. 3 is a side perspective view of the substrate processing apparatus 100.

図2,3に示すように、基板処理装置100は、シリコン等からなるウエハ(基板)200を収納したウエハキャリアとしてフープ(基板収容器。以下、「ポッド」と記載)110を使用し、筐体111を備える。筐体111の正面壁111aの正面前方部には、メンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口103が開設され、正面メンテナンス口103を開閉する正面メンテナンス扉104がそれぞれ建て付けられる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate processing apparatus 100 uses a hoop (substrate container; hereinafter referred to as “pod”) 110 as a wafer carrier that stores a wafer (substrate) 200 made of silicon or the like. A body 111 is provided. A front maintenance port 103 serving as an opening provided for maintenance can be opened at the front front portion of the front wall 111a of the housing 111, and a front maintenance door 104 that opens and closes the front maintenance port 103 is built. .

筐体111の正面壁111aには、ポッド搬入搬出口(基板収容器搬入搬出口)112が筐体111の内外を連通するように開設され、ポッド搬入搬出口112は、フロントシャッタ(基板収容器搬入搬出口開閉機構)113によって開閉される。また、ポッド搬入搬出口112の正面前方側にはロードポート(基板収容器受渡し台)114が設置され、ロードポート114はポッド110を載置されて位置合わせするように構成される。ポッド110は、ロードポート114上に工程内搬送装置(図示せず)によって搬入され、ロードポート114上から搬出される。   A pod loading / unloading port (substrate container loading / unloading port) 112 is opened on the front wall 111a of the casing 111 so as to communicate between the inside and the outside of the casing 111. The pod loading / unloading port 112 has a front shutter (substrate container loading / unloading port). The loading / unloading opening / closing mechanism 113 is opened and closed. In addition, a load port (substrate container delivery table) 114 is installed in front of the front side of the pod loading / unloading port 112, and the load port 114 is configured to place and align the pod 110. The pod 110 is loaded onto the load port 114 by an in-process transfer device (not shown) and unloaded from the load port 114.

筐体111内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚(基板収容器載置棚)105が設置され、回転式ポッド棚105は複数個のポッド110を保管するように構成される。具体的には、回転式ポッド棚105は、垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱116と、支柱116に上下四段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板(基板収容器載置台)117とを備え、複数枚の棚板117は、ポッド110をそれぞれ載置するように構成される。   A rotary pod shelf (substrate container mounting shelf) 105 is installed at an upper portion of the casing 111 in a substantially central portion in the front-rear direction, and the rotary pod shelf 105 is configured to store a plurality of pods 110. Is done. Specifically, the rotary pod shelf 105 includes a support column 116 that is erected vertically and intermittently rotates in a horizontal plane, and a plurality of shelf plates that are radially supported by the support column 116 at four positions on the upper and lower sides ( Substrate holder mounting table) 117, and the plurality of shelf plates 117 are configured to mount the pods 110 respectively.

筐体111内におけるロードポート114と回転式ポッド棚105との間には、ポッド搬送装置(基板収容器搬送装置)118が設置され、ポッド搬送装置118は、ポッド110を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ(基板収容器昇降機構)118aと、搬送機構としてのポッド搬送機構(基板収容器搬送機構)118bとで構成され、ポッド搬送装置118は、ポッドエレベータ118aとポッド搬送機構118bとの連続動作により、ロードポート114、回転式ポッド棚105、ポッドオープナ(基板収容器蓋体開閉機構)121との間で、ポッド110を搬送するように構成される。   A pod transfer device (substrate container transfer device) 118 is installed between the load port 114 and the rotary pod shelf 105 in the housing 111, and the pod transfer device 118 can be moved up and down while holding the pod 110. A pod elevator (substrate container lifting mechanism) 118a and a pod transfer mechanism (substrate container transfer mechanism) 118b as a transfer mechanism are configured. The pod transfer device 118 operates continuously with the pod elevator 118a and the pod transfer mechanism 118b. Thus, the pod 110 is transported between the load port 114, the rotary pod shelf 105, and the pod opener (substrate container lid opening / closing mechanism) 121.

筐体111内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体119が後端にわたって構築される。サブ筐体119の正面壁119aには、ウエハ200をサブ筐体119内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口(基板搬入搬出口)120が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設され、上下段のウエハ搬入搬出口120には、一対のポッドオープナ121がそれぞれ設置される。   A sub-housing 119 is constructed across the rear end of the lower portion of the housing 111 at a substantially central portion in the front-rear direction. A pair of wafer loading / unloading ports (substrate loading / unloading ports) 120 for loading / unloading the wafer 200 into / from the sub-casing 119 are arranged on the front wall 119a of the sub-casing 119 in two vertical stages. A pair of pod openers 121 are respectively installed in the upper and lower wafer loading / unloading openings 120.

ポッドオープナ121は、ポッド110を載置する載置台122と、ポッド110のキャップ(蓋体)を着脱するキャップ着脱機構(蓋体着脱機構)123とを備える。ポッドオープナ121は、載置台122に載置されたポッド110のキャップをキャップ着脱機構123によって着脱することにより、ポッド110のウエハ出し入れ口を開閉するように構成される。   The pod opener 121 includes a mounting table 122 on which the pod 110 is placed, and a cap attaching / detaching mechanism (lid attaching / detaching mechanism) 123 that attaches / detaches a cap (lid) to the pod 110. The pod opener 121 is configured to open and close the wafer loading / unloading port of the pod 110 by attaching / detaching the cap of the pod 110 mounted on the mounting table 122 by the cap attaching / detaching mechanism 123.

サブ筐体119は、ポッド搬送装置118や回転式ポッド棚105の設置空間から流体的に隔絶された移載室124から構成される。移載室124の前側領域にはウエハ移載機構(基板移載機構)125が設置され、ウエハ移載機構125は、ウエハ200を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置(基板移載装置)125a及びウエハ移載装置125aを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ(基板移載装置昇降機構)125bとで構成される。ウエハ移載装置エレベータ125b及びウエハ移載装置125aの連続動作により、ウエハ移載装置125aのツイーザ(基板保持体)125cをが、ウエハ200の載置部として、ボート(基板保持具)217に対してウエハ200を装填(チャージング)及び脱装(ディスチャージング)するように構成される。   The sub-housing 119 includes a transfer chamber 124 that is fluidly isolated from the installation space of the pod transfer device 118 and the rotary pod shelf 105. A wafer transfer mechanism (substrate transfer mechanism) 125 is installed in the front region of the transfer chamber 124, and the wafer transfer mechanism 125 is a wafer transfer device (substrate transfer mechanism) capable of rotating or linearly moving the wafer 200 in the horizontal direction. And a wafer transfer device elevator (substrate transfer device lifting mechanism) 125b for raising and lowering the wafer transfer device 125a. By the continuous operation of the wafer transfer device elevator 125b and the wafer transfer device 125a, the tweezer (substrate holding body) 125c of the wafer transfer device 125a serves as a mounting portion for the wafer 200 with respect to the boat (substrate holder) 217. The wafer 200 is loaded (charged) and unloaded (discharged).

図2に示すように、移載室124のウエハ移載装置エレベータ125b側と反対側である右側端部には、清浄化した雰囲気又は不活性ガスであるクリーンエア133を供給するように、供給ファン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット134が設置され、ウエハ移載装置125aとクリーンユニット134との間には、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置135が設置される。   As shown in FIG. 2, supply is performed so that a clean atmosphere or an inert gas, clean air 133 is supplied to the right end of the transfer chamber 124 opposite to the wafer transfer device elevator 125 b side. A clean unit 134 composed of a fan and a dustproof filter is installed, and a notch alignment device 135 as a substrate alignment device for aligning the circumferential position of the wafer is disposed between the wafer transfer device 125a and the clean unit 134. Installed.

クリーンユニット134から吹き出されたクリーンエア133は、ノッチ合わせ装置135及びウエハ移載装置125aに流通された後、不図示のダクトにより吸い込まれ、筐体111の外部に排気がなされるか、又はクリーンユニット134の吸い込み側である一次側(供給側)にまで循環され、再びクリーンユニット134によって、移載室124内に吹き出されるように構成される。   The clean air 133 blown out from the clean unit 134 is circulated to the notch aligning device 135 and the wafer transfer device 125a, and then sucked in by a duct (not shown) and exhausted to the outside of the housing 111 or clean. It is circulated to the primary side (supply side) that is the suction side of the unit 134, and is again blown out into the transfer chamber 124 by the clean unit 134.

移載室124の後側領域には、大気圧未満の圧力(以下、「負圧」と記載)を維持可能な機密性能を有する筐体(以下、「耐圧筐体」と記載)140が設置され、耐圧筐体140によりボート217を収容可能な容積を有するロードロック方式の待機室であるロードロック室141が形成される。   In the rear region of the transfer chamber 124, a casing (hereinafter referred to as “pressure-resistant casing”) 140 having a confidential performance capable of maintaining a pressure below atmospheric pressure (hereinafter referred to as “negative pressure”) is installed. Thus, a load lock chamber 141 which is a load lock type standby chamber having a volume capable of accommodating the boat 217 is formed by the pressure-resistant housing 140.

耐圧筐体140の正面壁140aにはウエハ搬入搬出開口(基板搬入搬出開口)142が開設され、ウエハ搬入搬出開口142はゲートバルブ(基板搬入搬出口開閉機構)143によって開閉される。耐圧筐体140の一対の側壁には、ロードロック室141へ窒素ガスを給気するためのガス供給管144と、ロードロック室141を負圧に排気するための排気管145とがそれぞれ接続される。   A wafer loading / unloading opening (substrate loading / unloading opening) 142 is opened on the front wall 140a of the pressure-resistant housing 140, and the wafer loading / unloading opening 142 is opened and closed by a gate valve (substrate loading / unloading opening / closing mechanism) 143. A gas supply pipe 144 for supplying nitrogen gas to the load lock chamber 141 and an exhaust pipe 145 for exhausting the load lock chamber 141 to a negative pressure are connected to the pair of side walls of the pressure-resistant housing 140, respectively. The

ロードロック室141上方には、処理炉202が設けられる。処理炉202の下端部は炉口ゲートバルブ(炉口開閉機構)147により開閉されるように構成される。耐圧筐体140の正面壁140aの上端部には、炉口ゲートバルブ147を処理炉202の下端部の開放時に収容する炉口ゲートバルブカバー149が取り付けられる。   A processing furnace 202 is provided above the load lock chamber 141. The lower end portion of the processing furnace 202 is configured to be opened and closed by a furnace port gate valve (furnace port opening / closing mechanism) 147. A furnace port gate valve cover 149 that accommodates the furnace port gate valve 147 when the lower end portion of the processing furnace 202 is opened is attached to the upper end portion of the front wall 140 a of the pressure-resistant housing 140.

図2に示すように、耐圧筐体140にはボート217を昇降させるためのボートエレベータ(基板保持具昇降機構)115が設置される。ボートエレベータ115に連結された連結具としてのアーム128には蓋体としてのシールキャップ219が水平に据え付けられ、シールキャップ219はボート217を垂直に支持し、処理炉202の下端部を閉塞可能なように構成される。   As shown in FIG. 2, a boat elevator (substrate holder lifting mechanism) 115 for raising and lowering the boat 217 is installed in the pressure-resistant housing 140. A seal cap 219 serving as a lid is horizontally installed on an arm 128 serving as a connector connected to the boat elevator 115, and the seal cap 219 supports the boat 217 vertically and can close the lower end of the processing furnace 202. Configured as follows.

ボート217は複数本の保持部材を備えており、複数枚(例えば、50枚〜125枚程度)のウエハ200をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成される。   The boat 217 includes a plurality of holding members so that a plurality of (for example, about 50 to 125) wafers 200 are horizontally held in a state where their centers are aligned in the vertical direction. Composed.

次に、基板処理装置100の動作について説明する。図2,3に示すように、ポッド110がロードポート114に供給されると、ポッド搬入搬出口112がフロントシャッタ113によって開放され、ロードポート114の上のポッド110はポッド搬送装置118によって筐体111の内部へポッド搬入搬出口112から搬入される。   Next, the operation of the substrate processing apparatus 100 will be described. As shown in FIGS. 2 and 3, when the pod 110 is supplied to the load port 114, the pod loading / unloading port 112 is opened by the front shutter 113, and the pod 110 on the load port 114 is housed by the pod transfer device 118. 111 is carried into the interior of 111 from the pod loading / unloading port 112.

搬入されたポッド110は、回転式ポッド棚105の指定された棚板117へポッド搬送装置118によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板117から一方のポッドオープナ121に搬送されて載置台122に移載されるか、又は直接ポッドオープナ121に搬送されて載置台122に移載される。このとき、ポッドオープナ121のウエハ搬入搬出口120はキャップ着脱機構123によって閉じられており、移載室124にはクリーンエア133が流通され、充満されている。例えば、移載室124にはクリーンエア133として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が20ppm以下と、筐体111の内部(大気雰囲気)の酸素濃度よりも低く設定される。   The loaded pod 110 is automatically transported and delivered by the pod transport device 118 to the designated shelf 117 of the rotary pod shelf 105, temporarily stored, and then one pod from the shelf 117. It is conveyed to the opener 121 and transferred to the mounting table 122, or directly transferred to the pod opener 121 and transferred to the mounting table 122. At this time, the wafer loading / unloading port 120 of the pod opener 121 is closed by the cap attaching / detaching mechanism 123, and the transfer chamber 124 is filled with clean air 133. For example, the transfer chamber 124 is filled with nitrogen gas as the clean air 133, so that the oxygen concentration is set to 20 ppm or less and lower than the oxygen concentration inside the casing 111 (atmosphere).

載置台122に載置されたポッド110はその開口側端面がサブ筐体119の正面壁119aにおけるウエハ搬入搬出口120の開口縁辺部に押し付けられるとともに、キャップがキャップ着脱機構123によって取り外され、ポッド110のウエハ出し入れ口が開放される。また、予め内部が大気圧状態とされていたロードロック室141のウエハ搬入搬出開口142がゲートバルブ143の動作により開放されると、ウエハ200はポッド110からウエハ移載装置125aのツイーザ125cによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、ノッチ合わせ装置135にてウエハを整合した後、ウエハ搬入搬出開口142を通じてロードロック室141に搬入され、ボート217へ移載されて装填(ウエハチャージング)される。ボート217にウエハ200を受け渡したウエハ移載装置125aはポッド110に戻り、次のウエハ110をボート217に装填する。   The pod 110 mounted on the mounting table 122 is pressed against the opening edge of the wafer loading / unloading port 120 on the front wall 119a of the sub housing 119 at the opening side end surface, and the cap is removed by the cap attaching / detaching mechanism 123. The wafer loading / unloading port 110 is opened. Further, when the wafer loading / unloading opening 142 of the load lock chamber 141 whose interior is previously set at atmospheric pressure is opened by the operation of the gate valve 143, the wafer 200 is removed from the pod 110 by the tweezer 125c of the wafer transfer device 125a. After being picked up through the loading / unloading port and aligned with the notch aligner 135, the wafer is loaded into the load lock chamber 141 through the wafer loading / unloading opening 142, transferred to the boat 217, and loaded (wafer charging). The wafer transfer device 125 a that has delivered the wafer 200 to the boat 217 returns to the pod 110 and loads the next wafer 110 into the boat 217.

上段(又は下段)のポッドオープナ121において、ウエハ移載装置125がウエハをボート217に装填している間、下段(又は上段)のポッドオープナ121には、回転式ポッド棚105又はロードポート114から別のポッド110がポッド搬送装置118によって搬送されるとともに、ポッドオープナ121がポッド110を開放する。   In the upper (or lower) pod opener 121, while the wafer transfer device 125 is loading wafers into the boat 217, the lower (or upper) pod opener 121 is connected to the rotary pod shelf 105 or the load port 114. Another pod 110 is transported by the pod transport device 118 and the pod opener 121 opens the pod 110.

予め指定された枚数のウエハ200がボート217に装填されると、ウエハ搬入搬出開口142がゲートバルブ143によって閉じられ、ロードロック室141は排気管145から真空引きされることにより、減圧される。   When a predetermined number of wafers 200 are loaded into the boat 217, the wafer loading / unloading opening 142 is closed by the gate valve 143, and the load lock chamber 141 is evacuated by being evacuated from the exhaust pipe 145.

ロードロック室141が処理炉202内の圧力と同圧に減圧されると、処理炉202の下端部が炉口ゲートバルブ147によって開放される。このとき、炉口ゲートバルブ147は炉口ゲートバルブカバー149の内部に搬入されて収容される。   When the load lock chamber 141 is reduced to the same pressure as that in the processing furnace 202, the lower end portion of the processing furnace 202 is opened by the furnace port gate valve 147. At this time, the furnace port gate valve 147 is carried into and stored in the furnace port gate valve cover 149.

続いて、シールキャップ219がボートエレベータ115の昇降台161によって上昇されて、シールキャップ219に支持されたボート217が処理炉202内へ搬入(ローディング)される。   Subsequently, the seal cap 219 is raised by the elevator 161 of the boat elevator 115, and the boat 217 supported by the seal cap 219 is loaded into the processing furnace 202.

ローディング後、処理炉202にてウエハ200に所定の処理が実施される。処理が終了した後、ボートエレベータ115によりボート217が引き出され、さらに、ロードロック室140内部を大気圧に復圧させた後にゲートバルブ143が開かれる。この後、ノッチ合わせ装置135でのウエハの整合工程を除き、上述した手順とは逆の手順で、ウエハ200及びポッド110は筐体111の外部へ払い出される。   After loading, a predetermined process is performed on the wafer 200 in the processing furnace 202. After the processing is completed, the boat 217 is pulled out by the boat elevator 115, and the gate valve 143 is opened after the inside of the load lock chamber 140 is returned to atmospheric pressure. Thereafter, except for the wafer alignment process in the notch alignment device 135, the wafer 200 and the pod 110 are discharged to the outside of the casing 111 by a procedure reverse to the above-described procedure.

[操作者情報,表示情報]
図4は、図1の群管理装置2内のデータベースに格納される、操作者情報及び表示情報の一例である。
図4に示すように、操作者情報は、操作者名、操作者のパスワード、操作者の権限、及び、対応付けられる表示情報の種別により構成され、操作者ごとに生成される。ここでは、Yamadaの操作者情報及びSuzukiの操作情報が生成されている。
表示情報には、初期設定された表示情報(デフォルトの表示情報)と、操作者ごとに生成された表示情報との2種類があり、いずれの表示情報も、少なくとも1つのフォーマットを含む。なお、表示情報は、操作者が操作しなくなってからログアウトするまでの時間をさらに含んでもよい。
デフォルトの表示情報は、すべての操作者情報に対応付けられる。つまり、デフォルトの表示情報は、すべての操作者によって利用可能である。これに対し、操作者ごとの表示情報は、操作者が同じである操作者情報にのみ対応付けられる。つまり、操作者ごとの表示情報は、別途表示情報を生成した操作者によってのみ利用可能である。操作者(特に、新たに追加された操作者)は、別途表示情報を生成するまで、デフォルトの表示情報を利用することになる。
[Operator information, display information]
FIG. 4 is an example of operator information and display information stored in the database in the group management apparatus 2 of FIG.
As shown in FIG. 4, the operator information includes an operator name, an operator password, an operator authority, and a type of display information associated with the operator name, and is generated for each operator. Here, Yamada operator information and Suzuki operation information are generated.
There are two types of display information: initial display information (default display information) and display information generated for each operator, and each display information includes at least one format. The display information may further include a time from when the operator stops operating until logout.
The default display information is associated with all operator information. That is, the default display information can be used by all operators. On the other hand, display information for each operator is associated only with operator information for the same operator. That is, the display information for each operator can be used only by an operator who has separately generated display information. The operator (especially a newly added operator) will use the default display information until separate display information is generated.

ここでは、Yamadaの操作者情報には、デフォルトの表示情報のみが対応付けられ(図中の矢印Aを参照)、Suzukiの操作者情報には、デフォルトの表示情報(図中の矢印Bを参照)及びSuzukiの表示情報(図中の矢印Cを参照)が対応付けられている。つまり、操作者Yamadaはデフォルトの表示情報のみ利用可能であり、操作者Suzukiはデフォルトの表示情報及びSuzukiの表示情報の両方が利用可能である。
フォーマットは、表示内容、表示色及び表示位置などをパラメータ等により規定したファイルであり、基板処理装置100の種別ごとに生成される。例えば、フォーマット1をタイプAの基板処理装置100に対応付けることにより、タイプAの基板処理装置100の各部に関する情報をフォーマット1で表示する。
後述するように、操作者は、あるフォーマットから別のフォーマットに切り替えることができ、パラメータを書き換えることによりフォーマットを編集することができる。
Here, only the default display information is associated with the operator information of Yamada (see arrow A in the figure), and the default display information (see arrow B in the figure) is assigned to the operator information of Suzuki. ) And Suzuki display information (see arrow C in the figure). That is, the operator Yamada can use only the default display information, and the operator Suzuki can use both the default display information and the display information of Suzuki.
The format is a file in which display contents, display color, display position, and the like are defined by parameters and the like, and is generated for each type of substrate processing apparatus 100. For example, by associating format 1 with the type A substrate processing apparatus 100, information regarding each part of the type A substrate processing apparatus 100 is displayed in format 1.
As will be described later, the operator can switch from one format to another, and can edit the format by rewriting the parameters.

以下、図1の端末装置3のディスプレイに表示される画面を説明する。
図5は、操作者がログインした後に表示される、基板処理装置100の種別(タイプ)
を一覧表示する画面の一例である。
図5に示すように、この画面は、ヘッダ300及びボディ302により構成される。ヘッダ300には画面名(ここでは、基板処理装置タイプ一覧)が表示され、ボディ302には、基板処理装置100の種別がラベリングされたボタン304(ここでは、タイプAの基板処理装置のボタン304−1、タイプBの基板処理装置のボタン304−2、及び、タイプCの基板処理装置のボタン304−3)が表示される。
操作者がいずれかのボタンを押下することにより、押下されたボタンに対応する種別の基板処理装置100を一覧表示する画面に遷移する。
なお、ログイン画面から基板処理装置100を一覧表示する画面に遷移するのではなく、基板処理装置100を一覧表示する画面がログイン画面とは別の画面として表示されてもよい(以下、他の画面についても同様)。
Hereinafter, the screen displayed on the display of the terminal device 3 of FIG. 1 will be described.
FIG. 5 shows the type of the substrate processing apparatus 100 displayed after the operator logs in.
It is an example of the screen which displays a list.
As shown in FIG. 5, this screen includes a header 300 and a body 302. The header 300 displays a screen name (here, a list of substrate processing apparatus types), and the body 302 has a button 304 (here, a button 304 for a type A substrate processing apparatus) labeled with the type of the substrate processing apparatus 100. -1, a type B substrate processing apparatus button 304-2 and a type C substrate processing apparatus button 304-3) are displayed.
When the operator presses any button, the screen transitions to a screen for displaying a list of the substrate processing apparatuses 100 of the type corresponding to the pressed button.
Instead of transition from the login screen to a screen for displaying a list of substrate processing apparatuses 100, a screen for displaying a list of substrate processing apparatuses 100 may be displayed as a screen different from the login screen (hereinafter referred to as other screens). The same applies to.

図6は、図5の基板処理装置タイプ一覧画面において、操作者がタイプAの基板処理装置のボタン304−1を押下することにより表示される、タイプAの基板処理装置100を一覧表示する画面の一例である。
図6に示すように、この画面は、ヘッダ300及びボディ302により構成される。ヘッダ300には、画面名(ここでは、基板処理装置一覧)が表示され、ボディ302には、基板処理装置一覧テーブル306、表示切替ボタン308及び表示編集ボタン310が表示される。基板処理装置一覧テーブル306は、通し番号(No.)312、基板処理装置名(Equipment)314、装置警告数(Alarm)316、装置状態(Status)318、オンライン接続状態(FA Mode)320、プロセス状態(PMC Mode)322及び傾向監視警告数(EE Alarm)324というデータ項目により構成される。
FIG. 6 is a screen for displaying a list of type A substrate processing apparatuses 100 displayed when the operator presses the button 304-1 of the type A substrate processing apparatus on the substrate processing apparatus type list screen of FIG. It is an example.
As shown in FIG. 6, this screen includes a header 300 and a body 302. The header 300 displays a screen name (here, a substrate processing apparatus list), and the body 302 displays a substrate processing apparatus list table 306, a display switching button 308, and a display edit button 310. The substrate processing apparatus list table 306 includes a serial number (No.) 312, a substrate processing apparatus name (Equipment) 314, an apparatus warning number (Alarm) 316, an apparatus state (Status) 318, an online connection state (FA Mode) 320, and a process state. (PMC Mode) 322 and trend monitoring warning number (EE Alarm) 324 are configured by data items.

基板処理装置一覧テーブル306の下線は、リンク先があり、操作者がクリック可能であることを意味する。操作者が下線のあるデータ項目をクリックすることにより、クリックされたデータ項目の詳細を表示する画面に遷移する。
例えば、図中の矢印Aによって示される'E75'をクリックすることにより、基板処理装置E75の詳細を表示する画面に遷移し、図中の矢印Bによって示される'9'をクリックすることにより、9つの各警告の詳細を表示する画面に遷移する。
The underline of the substrate processing apparatus list table 306 means that there is a link destination and the operator can click it. When the operator clicks an underlined data item, the screen transitions to a screen that displays details of the clicked data item.
For example, by clicking on “E75” indicated by an arrow A in the figure, the screen changes to a screen displaying details of the substrate processing apparatus E75, and by clicking on “9” indicated by an arrow B in the figure, Transition to a screen displaying details of each of the nine warnings.

操作者が表示切替ボタン308を押下することにより、基板処理装置100の詳細を表示するためのフォーマットを切り替える画面に遷移する。
ここでは、タイプAの基板処理装置100が一覧表示されているので、フォーマットが切り替えられた場合には、タイプAの基板処理装置100すべてについて、詳細を表示するにあたり、切替え後のフォーマットが適用されることになる。
タイプBの基板処理装置100が一覧表示された基板処理装置一覧画面において、フォーマットが切り替えられた場合には、タイプBの基板処理装置100すべてについて、詳細を表示するにあたり、切替え後のフォーマットが適用されることになる。
When the operator presses the display switching button 308, the screen changes to a screen for switching the format for displaying details of the substrate processing apparatus 100.
Here, since the list of type A substrate processing apparatuses 100 is displayed, when the format is switched, the format after switching is applied to display details of all the type A substrate processing apparatuses 100. Will be.
When the format is switched on the substrate processing apparatus list screen in which the type B substrate processing apparatuses 100 are displayed in a list, the format after switching is applied to display details for all the type B substrate processing apparatuses 100. Will be.

操作者が表示編集ボタン310を押下することにより、基板処理装置100の詳細を表示するためのフォーマットを編集する画面に遷移する。
ここでは、タイプAの基板処理装置100が一覧表示されているので、フォーマットが編集された場合には、タイプAの基板処理装置100すべてについて、詳細を表示するにあたり、編集された後のフォーマットが適用されることになる。
タイプBの基板処理装置100が一覧表示された基板処理装置一覧画面において、フォーマットが編集された場合には、タイプBの基板処理装置100すべてについて、詳細を表示するにあたり、編集された後のフォーマットが適用されることになる。
When the operator presses the display edit button 310, the screen transits to a screen for editing a format for displaying details of the substrate processing apparatus 100.
Here, since a list of type A substrate processing apparatuses 100 is displayed, when the format is edited, all the type A substrate processing apparatuses 100 have a format after editing to display details. Will be applied.
When the format is edited on the substrate processing apparatus list screen in which the type B substrate processing apparatuses 100 are displayed as a list, the format after the editing is performed when displaying details of all the type B substrate processing apparatuses 100 Will be applied.

[フォーマットの切替え]
図7は、図6の基板処理装置一覧画面において、操作者が表示切替ボタン308を押下することにより表示される、基板処理装置100の詳細を表示するためのフォーマットを切り替える画面の一例である。
図7に示すように、この画面は、ヘッダ300及びボディ302により構成される。ヘッダ300には、画面名(ここでは、フォーマット切替)が表示され、ボディ302には、フォーマット一覧テーブル326が表示される。フォーマット一覧テーブル326は、フォーマット名(Name)328、コメント(Comment)330及び選択状態(Current)332というデータ項目により構成される。
選択状態332には、チェックボックスが表示される。選択状態332にチェックが入っているフォーマットは、基板処理装置100の詳細を表示するにあたり、現在適用されていることを示す。ここでは、'TopContentsMin'の選択状態332にチェックが入り、'TopContentsMin'が現在適用されているが、'TopContentsMin'の選択状態332に入っているチェックを外し、別のフォーマットの選択状態332にチェックを入れ直すことにより、'TopContentsMin'から別のフォーマットに切り替えることができる。このようにフォーマットが切り替えられた場合には、切替え後のフォーマットの種別が群管理装置2に送信され、群管理装置2内のデータベースに格納されている表示情報に反映される。
[Switch format]
FIG. 7 is an example of a screen for switching the format for displaying details of the substrate processing apparatus 100 displayed when the operator presses the display switching button 308 on the substrate processing apparatus list screen of FIG.
As shown in FIG. 7, this screen includes a header 300 and a body 302. The header 300 displays a screen name (here, format switching), and the body 302 displays a format list table 326. The format list table 326 includes data items of a format name (Name) 328, a comment (Comment) 330, and a selection state (Current) 332.
A check box is displayed in the selection state 332. A format in which the selected state 332 is checked indicates that it is currently applied when displaying details of the substrate processing apparatus 100. Here, “TopContentsMin” selection state 332 is checked, and “TopContentsMin” is currently applied, but “TopContentsMin” selection state 332 is unchecked and another format selection state 332 is checked. You can switch from 'TopContentsMin' to another format by re-inserting. When the format is switched in this way, the format type after the switching is transmitted to the group management apparatus 2 and reflected in the display information stored in the database in the group management apparatus 2.

[フォーマットの編集]
図8は、図6の基板処理装置一覧画面において、操作者が表示編集ボタン310を押下することにより表示される、基板処理装置100の詳細を表示するためのフォーマットを編集する画面の一例である。
図8に示すように、この画面は、ヘッダ300及びボディ302により構成される。ヘッダ300には、画面名(ここでは、フォーマット編集)が表示され、ボディ302には、列名入力部(Column Name)334、説明入力部(Caption)336、表示プロパティ設定部(Display Property)338、表示アイテム設定部(Display Item)340、色設定部(Color Setting)342、セーブボタン(Save)344及びキャンセルボタン(Cancel)346が表示される。
列名入力部334及び説明入力部336への入力、並びに、表示プロパティ設定部338、表示アイテム設定部340及び色設定部342における設定を行うことにより、フォーマットを編集することができる。このようにフォーマットが編集された場合には、編集後のフォーマットが群管理装置2に送信され、群管理装置2内のデータベースに格納されている表示情報に反映される。
[Edit Format]
FIG. 8 is an example of a screen for editing a format for displaying details of the substrate processing apparatus 100 displayed when the operator presses the display edit button 310 on the substrate processing apparatus list screen of FIG. .
As shown in FIG. 8, this screen includes a header 300 and a body 302. The header 300 displays a screen name (format editing here), and the body 302 has a column name input part (Column Name) 334, an explanation input part (Caption) 336, and a display property setting part (Display Property) 338. A display item setting section (Display Item) 340, a color setting section (Color Setting) 342, a save button (Save) 344, and a cancel button (Cancel) 346 are displayed.
The format can be edited by making an input to the column name input unit 334 and the description input unit 336 and setting in the display property setting unit 338, the display item setting unit 340, and the color setting unit 342. When the format is edited in this way, the edited format is transmitted to the group management apparatus 2 and reflected in the display information stored in the database in the group management apparatus 2.

列名入力部334は、追加、削除又は変更したい列の名前の入力を受け付け、説明入力部336は、列に関する説明の入力を受け付ける。
表示プロパティ設定部338には、テキスト揃え選択部(Text Align)348、データ形式選択部(Data Format)350、データ長選択部(Data Length)352及び表示タイプ選択部(Display Type)354がプルダウンメニューとして表示され、テキスト揃え、データ形式、データ長及び表示タイプの選択が受け付けられる。表示タイプは、標準(Normal)、バー表示(Bar)及びコンビネーション表示(Combination)から選択可能である。
The column name input unit 334 receives an input of the name of a column to be added, deleted or changed, and the description input unit 336 receives an input of a description regarding the column.
In the display property setting section 338, a text alignment selection section (Text Align) 348, a data format selection section (Data Format) 350, a data length selection section (Data Length) 352, and a display type selection section (Display Type) 354 are pull-down menus. And the selection of text alignment, data format, data length and display type is accepted. The display type can be selected from normal (Normal), bar display (Bar), and combination display (Combination).

表示アイテム設定部340には、追加ボタン(Add)356、削除ボタン(Remove)358及びアイテム表示部360がさらに表示される。
操作者が追加ボタン356又は削除ボタン358を押下することにより、追加又は削除したいアイテムを選択する画面に遷移する。ここで、アイテムとは、図1の端末装置3に表示されるデータ項目(列)である。選択されたアイテムは、アイテム表示部360に表示される。アイテム表示部360には、通し番号(No.)362、ロケータ(Locator)364、エレメント(Element)366及び属性名(Attribute Name)368というデータ項目が表示される。ここで、ロケータとは、装置内の箇所(部品など)であり、エレメントとは、設定値などのデータ要素である。
後述するように、表示タイプ選択部354において選択された表示タイプなどに応じて、アイテム表示部360に表示されるデータ項目が異なる。
In the display item setting section 340, an add button (Add) 356, a delete button (Remove) 358, and an item display section 360 are further displayed.
When the operator presses the add button 356 or the delete button 358, the screen transits to a screen for selecting an item to be added or deleted. Here, the item is a data item (column) displayed on the terminal device 3 of FIG. The selected item is displayed on the item display unit 360. In the item display section 360, data items such as a serial number (No.) 362, a locator (364), an element (Element) 366, and an attribute name (Attribute Name) 368 are displayed. Here, the locator is a location (part or the like) in the apparatus, and the element is a data element such as a set value.
As will be described later, the data items displayed on the item display unit 360 differ depending on the display type selected by the display type selection unit 354 and the like.

色設定部342には、色タイプ選択部(Color Type)370がプルダウンメニューとして表示され、色タイプの選択が受け付けられる。
色タイプは、初期表示(Default)、固定色表示(Fixed)、文字列毎色表示(Enum)、パターン別色表示(Pattern Match)及び上下限色表示(Upper Value)から選択可能である。
In the color setting unit 342, a color type selection unit (Color Type) 370 is displayed as a pull-down menu, and selection of the color type is accepted.
The color type can be selected from an initial display (Default), a fixed color display (Fixed), a character string color display (Enum), a pattern-specific color display (Pattern Match), and an upper / lower limit color display (Upper Value).

図9は、図8のフォーマット編集画面において、追加ボタン356又は削除ボタン358を押下することにより表示される、追加又は削除したいアイテムを選択する画面の一例である。
図9に示すように、この画面は、ヘッダ300及びボディ302により構成される。ヘッダ300には、画面名(ここでは、アイテム選択)が表示され、ボディ302には、装置選択部(Equipment)372、ロケータ表示部(Locator)374及び属性表示部(Attribute)376が表示される。
装置選択部372は、追加又は削除したいアイテムに関連する基板処理装置100の選択を受け付け、ロケータ表示部374は、装置選択部372によって受け付けられた基板処理装置100のロケータ及びロケータツリーを表示する。ロケータツリーの各ノードは操作者により選択可能であり、いずれかのノードが選択されることにより、属性表示部376には、選択されたノードが採りうる属性が表示される。属性表示部376の属性もまた、操作者により選択可能であり、いずれかの属性が選択されることにより、アイテムが選択される。
FIG. 9 is an example of a screen for selecting an item to be added or deleted, which is displayed by pressing the add button 356 or the delete button 358 on the format editing screen of FIG.
As shown in FIG. 9, this screen includes a header 300 and a body 302. The header 300 displays a screen name (here, item selection), and the body 302 displays a device selection unit (Equipment) 372, a locator display unit (Locator) 374, and an attribute display unit (Attribute) 376. .
The apparatus selection unit 372 receives selection of the substrate processing apparatus 100 related to the item to be added or deleted, and the locator display unit 374 displays the locator and locator tree of the substrate processing apparatus 100 received by the apparatus selection unit 372. Each node of the locator tree can be selected by the operator, and when any of the nodes is selected, the attribute display unit 376 displays attributes that can be taken by the selected node. The attribute of the attribute display unit 376 can also be selected by the operator, and an item is selected by selecting any attribute.

図10(A)は、図8の表示タイプ選択部354においてバー表示が選択された場合、図8のフォーマット編集画面内のアイテム表示部360に表示されるアイテムの一例である。図10(A)に示すように、アイテム表示部360には、通し番号(No.)362、ロケータ(Locator)364、エレメント(Element)366及び属性名(Attribute Name)368のほか、表示/非表示(Value is dispaly)378が表示される。表示/非表示378には、チェックボックスが表示される。チェックが入っているかロケータは、値が表示されることを示す。
図10(B)は、図10(A)のアイテムがフォーマットに追加され、このフォーマットが適用された場合に表示される、基板処理装置100の詳細を表示する画面(一部)の一例である。
FIG. 10A is an example of items displayed on the item display unit 360 in the format editing screen of FIG. 8 when the bar display is selected in the display type selection unit 354 of FIG. As shown in FIG. 10A, the item display section 360 displays / hides a serial number (No.) 362, a locator 364, an element (Element) 366, and an attribute name (Attribute Name) 368. (Value is dispaly) 378 is displayed. In the display / non-display 378, a check box is displayed. A check or locator indicates that the value is displayed.
FIG. 10B is an example of a screen (partial) for displaying details of the substrate processing apparatus 100 displayed when the item of FIG. 10A is added to the format and this format is applied. .

図11(A)は、図8の表示タイプ選択部354においてコンビネーション表示が選択された場合、図8のフォーマット編集画面内のアイテム表示部360に表示されるアイテムの一例である。図11(A)に示すように、アイテム表示部360には、通し番号(No.)362、ロケータ(Locator)364、エレメント(Element)366及び属性名(Attribute Name)368のほか、区切り文字(Separate Character)380が表示される。区切り文字380には、プルダウンメニューが表示され、値の区切り文字が選択される。
図11(B)は、図11(A)のアイテムがフォーマットに追加され、このフォーマットが適用された場合に表示される、基板処理装置100の詳細を表示する画面(一部)の一例である。
FIG. 11A is an example of items displayed on the item display unit 360 in the format editing screen of FIG. 8 when the combination display is selected in the display type selection unit 354 of FIG. As shown in FIG. 11A, the item display section 360 has a serial number (No.) 362, a locator 364, an element (Element) 366, an attribute name (Attribute Name) 368, and a separator (Separate Character) 380 is displayed. A pull-down menu is displayed as the delimiter 380, and a value delimiter is selected.
FIG. 11B is an example of a screen (partial) for displaying details of the substrate processing apparatus 100 displayed when the item of FIG. 11A is added to the format and this format is applied. .

図12は、図8の色タイプ選択部370において固定色表示が選択された場合、図8のフォーマット編集画面内の色設定部342に表示される表示色(Color)の一例である。図12に示すように、テキスト表示色(Text Color)382、背景表示色(Back Color)384、並びに、テキスト表示色382及び背景表示色384が適用されたサンプル(Sample)386が表示色として表示される。   FIG. 12 is an example of the display color (Color) displayed on the color setting unit 342 in the format editing screen of FIG. 8 when the fixed color display is selected in the color type selection unit 370 of FIG. As shown in FIG. 12, a text display color (Text Color) 382, a background display color (Back Color) 384, and a sample (Sample) 386 to which the text display color 382 and the background display color 384 are applied are displayed as display colors. Is done.

図13は、図8の色タイプ選択部370において文字列毎色表示が選択された場合、図8のフォーマット編集画面内の色設定部342に表示される文字列毎表示色(Enum Color)の一例である。図13に示すように、文字列(Enum)388、テキスト表示色(Text Color)382、背景表示色(Back Color)384、並びに、テキスト表示色382及び背景表示色384が適用されたサンプル(Sample)386が表示色として表示される。   FIG. 13 shows the display color (Enum Color) for each character string displayed in the color setting unit 342 in the format editing screen of FIG. 8 when the color type selection unit 370 in FIG. 8 is selected. It is an example. As shown in FIG. 13, a sample (Sample) to which a character string (Enum) 388, a text display color (Text Color) 382, a background display color (Back Color) 384, and a text display color 382 and a background display color 384 are applied. 386 is displayed as the display color.

図14は、図8の色タイプ選択部370においてパターン別色表示が選択された場合、図8のフォーマット編集画面内の色設定部342に表示される表示色(Color)及びパターンマッチ(Pattern Match)の一例である。図14に示すように、テキスト表示色(Text Color)382、背景表示色(Back Color)384、並びに、テキスト表示色382及び背景表示色384が適用されたサンプル(Sample)386が表示色として表示される。また、文字列パターン(String Pattern)390、テキスト表示色(Text Color)382、背景表示色(Back Color)384、並びに、文字列パターン390、テキスト表示色382及び背景表示色384が適用されたサンプル(Sample)386がパターンマッチとして表示される。   FIG. 14 shows the display color (Color) and pattern match (Pattern Match) displayed in the color setting unit 342 in the format editing screen of FIG. 8 when the color type selection unit 370 in FIG. ). As shown in FIG. 14, a text display color (Text Color) 382, a background display color (Back Color) 384, and a sample (Sample) 386 to which the text display color 382 and the background display color 384 are applied are displayed as display colors. Is done. Also, a sample to which a character string pattern (String Pattern) 390, a text display color (Text Color) 382, a background display color (Back Color) 384, and a character string pattern 390, a text display color 382, and a background display color 384 are applied. (Sample) 386 is displayed as a pattern match.

図15は、図8の色タイプ選択部370において上下限色表示が選択された場合、図8のフォーマット編集画面内の色設定部342に表示される表示色(Color)及び上限値/下限値(Lower/Upper Value)の一例である。図15に示すように、テキスト表示色(Text Color)382、背景表示色(Back Color)384、並びに、テキスト表示色382及び背景表示色384が適用されたサンプル(Sample)386が表示色として表示される。また、下限値(Lower Value)392、上限値(Upper Value)394、テキスト表示色(Text Color)382、背景表示色(Back Color)384、並びに、下限値392、テキスト表示色382及び背景表示色384が適用されたサンプル(Sample)386がパターンマッチとして表示される。   FIG. 15 shows the display color (Color) and upper limit / lower limit values displayed in the color setting section 342 in the format editing screen of FIG. 8 when the upper and lower limit color display is selected in the color type selection section 370 of FIG. It is an example of (Lower / Upper Value). As shown in FIG. 15, a text display color (Text Color) 382, a background display color (Back Color) 384, and a sample (Sample) 386 to which the text display color 382 and the background display color 384 are applied are displayed as display colors. Is done. Also, a lower limit (Lower Value) 392, an upper limit (Upper Value) 394, a text display color (Text Color) 382, a background display color (Back Color) 384, and a lower limit value 392, a text display color 382, and a background display color. A sample 386 to which 384 is applied is displayed as a pattern match.

上述したように、操作者がログインした後、フォーマットが切り替えられた場合には、切替え後のフォーマットの種別が群管理装置2に送信され、群管理装置2内のデータベースに格納されている表示情報に反映される。また、操作者がログインした後、フォーマットが編集された場合には、編集後のフォーマットが群管理装置2に送信され、群管理装置2内のデータベースに格納されている表示情報に反映される。このことにより、操作者が別の端末装置3から再度ログインした場合であっても、切替え後(又は編集後)のフォーマットが利用可能となり、別の端末装置3において、フォーマットを再度切り替える(又は編集する)作業を省くことができる。   As described above, when the format is switched after the operator logs in, the format type after the switching is transmitted to the group management device 2 and the display information stored in the database in the group management device 2 It is reflected in. When the format is edited after the operator logs in, the edited format is transmitted to the group management device 2 and reflected in the display information stored in the database in the group management device 2. As a result, even if the operator logs in again from another terminal device 3, the format after switching (or after editing) can be used, and the format is switched again (or edited) in another terminal device 3. Yes) work can be saved.

さらに、操作者がログアウトした時点で画面が表示されていた場合、この画面に関する情報(画面名、画面の位置、画面のサイズ、及び、画面が表示されていたディスプレイのサイズ)が群管理装置2に送信され、群管理装置2内のデータベースに格納されている表示情報に反映される。このことにより、操作者が別の端末装置3から再度ログインした場合であっても、ログアウト時の画面が表示され、別の端末装置3において、ログアウト時に表示されていた画面を再度表示させる作業を省くことができる。   Further, when the screen is displayed when the operator logs out, information on the screen (screen name, screen position, screen size, and display size on which the screen was displayed) is stored in the group management apparatus 2. And is reflected in the display information stored in the database in the group management apparatus 2. As a result, even when the operator logs in again from another terminal device 3, the logout screen is displayed, and another terminal device 3 can display the screen displayed at the time of logout again. It can be omitted.

図16は、操作者が再度ログインした端末装置3のディスプレイのサイズが、これより前にログインした端末装置3のディスプレイのサイズと異なる場合、再度ログインした端末装置3において、表示画面のサイズを調整する手順を示すフローチャートである。
なお、以下の各手順は、再度ログインした端末装置3において、CPUがメモリ等に格納されたプログラムを実行することによって実現される(CPU、メモリ及びプログラムは不図示)。
FIG. 16 shows that when the display size of the terminal device 3 to which the operator has logged in again is different from the display size of the terminal device 3 to which the operator has logged in before this, the display screen size is adjusted in the terminal device 3 that has logged in again It is a flowchart which shows the procedure to perform.
Note that the following procedures are realized by the CPU executing a program stored in a memory or the like in the terminal device 3 that has logged in again (the CPU, the memory, and the program are not shown).

以下、前にログインされた端末装置を端末装置3−1とし、再度ログインされた端末装置を端末装置3−2とする。端末装置3−1のディスプレイの幅をW、高さをHとし、端末装置3−2のディスプレイの幅をW、高さをHとする。端末装置3−1のディスプレイに表示される画面の横位置をX、縦位置をYとし、端末装置3−2のディスプレイに表示される画面の横位置をX、縦位置をYとする。
,H,X,Yは、図17(A)に示すとおりであり、W,H,X,Yは、図17(B)に示すとおりである。
Hereinafter, the terminal device logged in before is referred to as a terminal device 3-1, and the terminal device logged in again is referred to as a terminal device 3-2. The display width of the terminal device 3-1 is W 1 , the height is H 1 , the display width of the terminal device 3-2 is W 2 , and the height is H 2 . X 1 and lateral position display of a screen displayed in the terminal device 3-1, the vertical position and Y 1, X 2 a lateral position display of a screen displayed in the terminal device 3-2, the vertical position Y 2 And
W 1 , H 1 , X 1 and Y 1 are as shown in FIG. 17 (A), and W 2 , H 2 , X 2 and Y 2 are as shown in FIG. 17 (B).

図16に示すように、ステップ100(S100)において、W1がW2よりも大きいか否かを判定する。W1がW2よりも大きい場合には、ステップ102に進み、そうでない場合には、ステップ108に進む。
ステップ102(S102)において、X1を補正する必要があるか否かを判定する。具体的には、X1がW2に0.9を乗じた値よりも大きいか否かを判定する。X1がW2×0.9よりも大きい場合には、ステップ104に進み、そうでない場合には、ステップ106に進む。
ステップ104(S104)において、W2×0.9をX2に設定し、ステップ108に進む。
ステップ106(S106)において、X1をX2に設定し、ステップ108に進む。
As shown in FIG. 16, in step 100 (S100), it is determined whether W1 is larger than W2. If W1 is greater than W2, the process proceeds to step 102; otherwise, the process proceeds to step 108.
In step 102 (S102), it is determined whether or not X1 needs to be corrected. Specifically, it is determined whether X1 is larger than a value obtained by multiplying W2 by 0.9. If X1 is larger than W2 × 0.9, the process proceeds to step 104; otherwise, the process proceeds to step 106.
In step 104 (S104), W2 × 0.9 is set to X2, and the process proceeds to step.
In step 106 (S106), X1 is set to X2, and the process proceeds to step 108.

ステップ108(S108)において、H1がH2よりも大きいか否かを判定する。H1がH2よりも大きい場合には、ステップ110に進み、そうでない場合には、ステップ112に進む。
ステップ110(S110)において、Y1を補正する必要があるか否かを判定する。具体的には、Y1がH2に0.9を乗じた値よりも大きいか否かを判定する。Y1がH2×0.9よりも大きい場合には、ステップ112に進み、そうでない場合には、ステップ114に進む。
ステップ112(S112)において、H2×0.9をY2に設定し、終了する。
ステップ114(S114)において、Y1をY2に設定し、終了する。
なお、ステップ102,104,110,112において、0.9を乗じるものとして説明したが、乗じる値は0.9に限定されず、端末装置3−1,3−2のディスプレイに表示されるよう補正可能な値であればよい。
In step 108 (S108), it is determined whether H1 is larger than H2. If H1 is greater than H2, proceed to step 110, otherwise proceed to step 112.
In step 110 (S110), it is determined whether or not Y1 needs to be corrected. Specifically, it is determined whether Y1 is larger than a value obtained by multiplying H2 by 0.9. If Y1 is larger than H2 × 0.9, the process proceeds to step 112, and if not, the process proceeds to step 114.
In step 112 (S112), H2 × 0.9 is set to Y2, and the process ends.
In step 114 (S114), Y1 is set to Y2, and the process ends.
In steps 102, 104, 110, and 112, it has been described that 0.9 is multiplied. However, the value to be multiplied is not limited to 0.9, and is displayed on the display of the terminal devices 3-1, 3-2. Any value that can be corrected is acceptable.

以上、本発明の実施形態を具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
例えば、基板処理装置100及び群管理装置2は、同じフロア(クリーンルーム)に配置する必要はなく、LAN等に接続され、事務所に配置されてもよい。また、群管理装置2において、データベースは、サーバ本体と一体にする必要はなく、それぞれを別体にしてもよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described concretely, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, It can change variously in the range which does not deviate from the summary.
For example, the substrate processing apparatus 100 and the group management apparatus 2 do not have to be arranged on the same floor (clean room), but may be connected to a LAN or the like and arranged in an office. Further, in the group management device 2, the database does not need to be integrated with the server main body, and may be separated from each other.

基板処理装置100は、半導体製造装置であるものとして説明したが、LCD装置のようなガラス基板を処理する装置であってもかまわない。さらに、基板処理装置100は、エッチング装置、露光装置、リソグラフィ装置、塗布装置、モールド装置、現像装置、ダイシング装置、ワイヤボンディング装置、検査装置等であってもかまわない。   Although the substrate processing apparatus 100 has been described as a semiconductor manufacturing apparatus, it may be an apparatus for processing a glass substrate such as an LCD device. Further, the substrate processing apparatus 100 may be an etching apparatus, an exposure apparatus, a lithography apparatus, a coating apparatus, a molding apparatus, a developing apparatus, a dicing apparatus, a wire bonding apparatus, an inspection apparatus, or the like.

成膜処理は、例えば、CVD、PVD、ALD、Epiその他酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理などを含むが、アニール処理、酸化処理、拡散処理等の処理をさらに含んでもかまわない。   The film formation process includes, for example, CVD, PVD, ALD, Epi and other processes for forming an oxide film and a nitride film, a process for forming a film containing a metal, etc., but an annealing process, an oxidation process, a diffusion process, etc. It may also be included.

次に、本発明の好ましい他の実施形態を付記するが、本発明が以下の記載に限定されないことはいうまでもない。   Next, other preferred embodiments of the present invention will be additionally described, but it goes without saying that the present invention is not limited to the following description.

[実施形態1]
基板処理を実行する基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置であって、
前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報が変更された場合、変更内容を保存する保存手段と
を有する群管理装置。
[Embodiment 1]
A group management device that collectively acquires information on substrate processing apparatuses that perform substrate processing,
Storage means for storing information relating to an operator of the terminal device and information relating to display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal device;
A group management apparatus comprising: a storage unit configured to store a change content when information relating to display of information regarding the substrate processing apparatus in the terminal device stored in the storage unit is changed.

[実施形態2]
基板処理を実行する基板処理装置と、
前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置と、
前記群管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する端末装置と
からなる基板処理システムであって、
前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報と、前記端末装置の操作者がログアウトした時点の前記端末装置における表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理に関する情報の表示を制御する制御手段と
を有する基板処理システム。
[Embodiment 2]
A substrate processing apparatus for performing substrate processing;
A group management device for collectively acquiring information on the substrate processing device from the substrate processing device;
A substrate processing system comprising: a terminal device that acquires information about the substrate processing apparatus via the group management apparatus;
Storage means for storing information relating to an operator of the terminal device, information relating to display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal device, and information relating to display in the terminal device when the operator of the terminal device has logged out When,
Controls display of information related to the substrate processing in the terminal device based on information related to the operator of the terminal device and information related to display of information related to the substrate processing device in the terminal device stored in the storage means. And a substrate processing system.

[実施形態3]
前記端末装置の操作者がログアウトした時点の前記端末装置における表示に関する情報は、
前記端末装置に表示されていた画面の名前、該画面の位置、該画面のサイズ、及び、該画面が表示されていた前記端末装置のディスプレイのサイズ
である基板処理システム。
[Embodiment 3]
Information relating to the display on the terminal device at the time when the operator of the terminal device logs out,
A substrate processing system comprising: a name of a screen displayed on the terminal device, a position of the screen, a size of the screen, and a display size of the terminal device on which the screen is displayed.

[実施形態4]
ログアウトした前記端末装置の操作者が再度ログインした場合、前記制御手段は、前記端末装置の操作者がログアウトした時点の前記端末装置における表示に関する情報を前記記憶手段から読み出し、読み出した情報に基づいて、前記端末装置における表示を制御する。
[Embodiment 4]
When the logged-out operator of the terminal device logs in again, the control unit reads out information related to display on the terminal device at the time when the operator of the terminal device logged out from the storage unit, and based on the read-out information The display on the terminal device is controlled.

1 基板処理システム
100 基板処理装置
102 ネットワーク
2 群管理装置
3 端末装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing system 100 Substrate processing apparatus 102 Network 2 Group management apparatus 3 Terminal apparatus

Claims (6)

基板処理を実行する基板処理装置と、
前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を取得する管理装置と、
前記管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する複数の端末装置と、
を含む基板処理システムであって、
前記管理装置は、
前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、ログアウトした時点の前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前にログインされた端末装置と再度ログインされた端末装置が異なる場合、前記ログアウトした時点の前記前にログインされた端末装置における表示に関する情報を前記記憶手段から読み出し、読み出した情報に基づいて、前記再度ログインされた端末装置における表示を制御して、前記再度ログインされた端末装置に表示される画面を調整する基板処理システム。
A substrate processing apparatus for performing substrate processing;
A management apparatus for obtaining information on the substrate processing apparatus from the substrate processing apparatus;
A plurality of terminal devices for obtaining information on the substrate processing apparatus via the management device;
A substrate processing system comprising:
The management device
Storage means for storing information relating to an operator of the terminal device and information relating to display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal device;
Stored in the storage means, and information about the operator of the terminal device, based on the information about the display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus at the time of logging out, relating to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus Control means for controlling the display of information,
Wherein, when the terminal device is re-login login to a terminal device before the different read information about the display of the terminal device is logged into the front of the time of the above logout from the storage unit, read the A substrate processing system that controls display on the terminal device re-logged in based on the information and adjusts a screen displayed on the terminal device re-logged in .
複数の端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、ログアウトした時点の前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前にログインされた端末装置と再度ログインされた端末装置が異なる場合、前記ログアウトした時点の前記前にログインされた端末装置における表示に関する情報を前記記憶手段から読み出し、読み出した情報に基づいて、前記再度ログインされた端末装置における表示を制御して、前記再度ログインされた端末装置に表示される画面を調整する管理装置。
Storage means for storing information relating to operators of a plurality of terminal devices and information relating to display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal devices;
Stored in the storage means, and information about the operator of the terminal device, based on the information about the display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus at the time of logging out, relating to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus Control means for controlling the display of information,
Wherein, when the terminal device is re-login login to a terminal device before the different read information about the display of the terminal device is logged into the front of the time of the above logout from the storage unit, read the A management device that controls display on the terminal device that has been logged in again based on information, and adjusts a screen displayed on the terminal device that has been logged in again .
前記管理装置は、前記記憶手段に記憶された、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報が変更された場合、変更内容を保存する保存手段を有する請求項2記載の管理装置。   The management apparatus according to claim 2, wherein the management apparatus includes a storage unit that stores a change content when information related to display of information regarding the substrate processing apparatus in the terminal device stored in the storage unit is changed. 前記端末装置における表示に関する情報は、前記端末装置に表示されていた画面の名前、該画面の位置、該画面のサイズ、及び、該画面が表示されていた前記端末装置のディスプレイのサイズのうち少なくとも一つを有する請求項2記載の管理装置。   The information related to the display on the terminal device includes at least one of the name of the screen displayed on the terminal device, the position of the screen, the size of the screen, and the size of the display of the terminal device on which the screen is displayed. The management apparatus according to claim 2, comprising one. 前記制御手段は、前にログインされた端末装置と再度ログインされた端末装置が異なる場合でも、前記再度ログインされた端末装置に前記前にログインされた端末装置における前記基板処理装置に関する情報を表示させる請求項2記載の管理装置。 Wherein, even if the terminal device is re-login login to a terminal device before the different displays information about the substrate processing apparatus in the terminal apparatus that is logged in before the terminal has been re-login device The management device according to claim 2. 基板処理を実行する基板処理装置と、前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を取得する管理装置と、前記管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する複数の端末装置と、を含む基板処理システムにおける表示方法であって、
前記管理装置は、
前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、ログアウトした時点の前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前にログインされた端末装置と再度ログインされた端末装置が異なる場合、前記ログアウトした時点の前記前にログインされた端末装置における表示に関する情報を前記記憶手段から読み出し、読み出した情報に基づいて、前記再度ログインされた端末装置における表示を制御して、前記再度ログインされた端末装置に表示される画面を調整する基板処理システムにおける表示方法。
A substrate processing apparatus that performs substrate processing; a management apparatus that acquires information about the substrate processing apparatus from the substrate processing apparatus; and a plurality of terminal apparatuses that acquire information about the substrate processing apparatus via the management apparatus; A display method in a substrate processing system comprising:
The management device
Storage means for storing information relating to an operator of the terminal device and information relating to display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal device;
It stored in the storage means, and information about the operator of the terminal device, based on the information about the display of information relating to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus at the time of logging out, relating to the substrate processing apparatus in the terminal apparatus Control means for controlling the display of information,
Wherein, when the terminal device is re-login login to a terminal device before the different read information about the display of the terminal device is logged into the front of the time of the above logout from the storage unit, read the A display method in a substrate processing system , which controls display on the terminal device logged in again based on information and adjusts a screen displayed on the terminal device logged in again .
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