JP6015738B2 - 処理装置、処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
被処理基板が高圧流体により処理される処理空間を区画形成し、被処理基板が当該被処理基板の面に沿った方向に搬送される搬入出口と、前記搬入出口を囲むように被処理基板の搬入出方向に向いている外面と、を有する処理容器と、
被処理基板を保持して前記搬入出口を介して前記処理空間に搬入出するための基板ホルダーと、
この基板ホルダーの端部に設けられ、当該基板ホルダーが処理空間に進入したときにその前面が前記外面と対向した状態で接近して前記搬入出口を気密に塞ぐための蓋体と、
前記基板ホルダーに保持された被処理基板を処理容器に対して搬入出させるために前記蓋体を進退させる駆動部と、
前記蓋体が前記処理容器内の圧力により当該処理容器側から後退することを規制するための規制機構と、
前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に前記搬入出口を囲んだ状態で介在するように設けられ、高圧流体に対して耐食性を有する材質により構成された第1のシール部材と、
前記搬入出口から見て前記第1のシール部材よりも外側に離れた位置において、前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に前記搬入出口を囲んだ状態で介在するように設けられた第2のシール部材と、を備え、
前記第1のシール部材は、前記搬入出口を囲むようにリング状に形成された帯状体をU字型に折り曲げて構成された弾性体であって、U字型の開き部分が前記搬入出口側を向くように配置されていることを特徴とする。
被処理基板が高圧流体により処理される処理空間を区画形成し、被処理基板が当該被処理基板の面に沿った方向に搬送される搬入出口と、前記搬入出口を囲むように被処理基板の搬入出方向に向いている外面と、を有する処理容器を用い、
基板ホルダーに被処理基板を保持して前記搬入出口を介して前記処理空間に搬入し、この基板ホルダーの端部に設けられた蓋体の前面が前記外面と対向した状態で接近して前記搬入出口を気密に塞ぐ工程と、
次いで、前記蓋体が前記処理容器内の圧力により当該処理容器側から後退することを規制する工程と、
前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に、高圧流体に対して耐食性を有する材質により構成された第1のシール部材を、前記搬入出口を囲んだ状態で介在させると共に、前記搬入出口から見て前記第1のシール部材よりも外側に離れた位置において、第2のシール部材を前記搬入出口を囲んだ状態で前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に介在させることにより、前記処理容器内と外部とを気密にシールする工程と、
その後、被処理基板に対して高圧流体を用いて処理を行う工程と、を含み、
前記第1のシール部材は、前記搬入出口を囲むようにリング状に形成された帯状体をU字型に折り曲げて構成された弾性体であって、U字型の開き部分が前記搬入出口側を向くように配置されていることを特徴とする。
処理容器内に搬入出領域を介して搬入された被処理基板に対して高圧流体を用いて処理を行う処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記コンピュータプログラムは、前記処理方法を実施するようにステップが組まれていることを特徴とする。
更に、各シール部材11、12は、処理容器1に対して蓋体3が気密に接触する時に摺動しないので、パーティクルの発生を抑えることができる。
そして、超臨界流体を用いることにより、ウエハWの表面に形成されたパターン倒れを抑制できる。
また、既述のオリフィスからなる圧力調整部36に代えて、図17に示すように、窒素ガスを一時的に貯留するための容器(アキュームレータ)71を設けても良い。この容器71と、高圧流体供給路22における高圧流体供給口21側のバルブVとの間には、容器71から供給される窒素ガスの流量を調整するための流量調整部Mが設けられる。そして、図17の装置において既述の処理を行う時には、容器71よりも上流側(高圧流体貯留源23側)のバルブVを開放すると共に容器71よりも下流側(処理領域8側)のバルブVを閉じて、窒素供給源35から容器71内に窒素ガスを供給する。次いで、前記上流側のバルブVを閉じると共に前記下流側のバルブVを開放して、容器71から窒素ガスを差圧緩和領域13に供給する。こうして容器71以外の部位における手順については既述の例と同様に進行して、ウエハWに対する処理が行われる。
更に、処理容器1と蓋体3との間において、第2のシール部材12を囲むように、図示しない第3のシール部材を設けると共に、第2のシール部材12と第3のシール部材との間に差圧緩和用流体を供給し、処理容器1の内部領域側から差圧緩和領域13、第2のシール部材12と第3のシール部材との間の領域及び大気雰囲気の順番で圧力が低くなるようにしても良い。
また、以上の各例では、ロックプレート26やロック部材45などの規制機構により処理容器1側からの蓋体3の後退を規制したが、この規制機構としては、これらロックプレート26及びロック部材45に代えて、スライダー48を進退させる駆動部49に例えば油圧式のシリンダーを組み合わせて設けておき、このシリンダーによりスライダー48を処理容器1側に押圧し続けるようにしても良い。
また、処理装置において行う処理としては、既述の乾燥処理以外にも、例えばウエハWの表面からのレジスト膜の除去(溶解)処理などであっても良い。
1 処理容器
2 搬入出口
3 蓋体
4 ウエハホルダー
8 処理領域
11 第1のシール部材
12 第2のシール部材
13 差圧緩和領域
Claims (3)
- 被処理基板が高圧流体により処理される処理空間を区画形成し、被処理基板が当該被処理基板の面に沿った方向に搬送される搬入出口と、前記搬入出口を囲むように被処理基板の搬入出方向に向いている外面と、を有する処理容器と、
被処理基板を保持して前記搬入出口を介して前記処理空間に搬入出するための基板ホルダーと、
この基板ホルダーの端部に設けられ、当該基板ホルダーが処理空間に進入したときにその前面が前記外面と対向した状態で接近して前記搬入出口を気密に塞ぐための蓋体と、
前記基板ホルダーに保持された被処理基板を処理容器に対して搬入出させるために前記蓋体を進退させる駆動部と、
前記蓋体が前記処理容器内の圧力により当該処理容器側から後退することを規制するための規制機構と、
前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に前記搬入出口を囲んだ状態で介在するように設けられ、高圧流体に対して耐食性を有する材質により構成された第1のシール部材と、
前記搬入出口から見て前記第1のシール部材よりも外側に離れた位置において、前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に前記搬入出口を囲んだ状態で介在するように設けられた第2のシール部材と、を備え、
前記第1のシール部材は、前記搬入出口を囲むようにリング状に形成された帯状体をU字型に折り曲げて構成された弾性体であって、U字型の開き部分が前記搬入出口側を向くように配置されていることを特徴とする処理装置。 - 被処理基板が高圧流体により処理される処理空間を区画形成し、被処理基板が当該被処理基板の面に沿った方向に搬送される搬入出口と、前記搬入出口を囲むように被処理基板の搬入出方向に向いている外面と、を有する処理容器を用い、
基板ホルダーに被処理基板を保持して前記搬入出口を介して前記処理空間に搬入し、この基板ホルダーの端部に設けられた蓋体の前面が前記外面と対向した状態で接近して前記搬入出口を気密に塞ぐ工程と、
次いで、前記蓋体が前記処理容器内の圧力により当該処理容器側から後退することを規制する工程と、
前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に、高圧流体に対して耐食性を有する材質により構成された第1のシール部材を、前記搬入出口を囲んだ状態で介在させると共に、前記搬入出口から見て前記第1のシール部材よりも外側に離れた位置において、第2のシール部材を前記搬入出口を囲んだ状態で前記蓋体の前面と前記処理容器の前記外面との間に介在させることにより、前記処理容器内と外部とを気密にシールする工程と、
その後、被処理基板に対して高圧流体を用いて処理を行う工程と、を含み、
前記第1のシール部材は、前記搬入出口を囲むようにリング状に形成された帯状体をU字型に折り曲げて構成された弾性体であって、U字型の開き部分が前記搬入出口側を向くように配置されていることを特徴とする処理方法。 - 処理容器内に搬入出領域を介して搬入された被処理基板に対して高圧流体を用いて処理を行う処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記コンピュータプログラムは、請求項2記載の処理方法を実施するようにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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JP2014238132A JP6015738B2 (ja) | 2014-11-25 | 2014-11-25 | 処理装置、処理方法及び記憶媒体 |
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