JP5996647B2 - 4−置換イミダゾールの新規な調製プロセス - Google Patents

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Description

本発明は新規なプロセスに関する。特に本発明は、4−置換イミダゾールコアを有する既知化合物、例えばセレクトープ(Selectope(商標))などの汚損防止製品において活性成分として使用されている場合もあるメデトミジンおよびその派生品の調製における新規なプロセスに関する。また本発明は新規な化合物中間体の生産にも関係する。
メデトミジンへの既知経路の大半は、イミダゾール環が既に形成されている化合物から出発する合成に基づいている。例えば国際特許出願WO2009/053709、欧州特許出願EP1918282、英国特許出願GB2101114および中国特許出願第101921234号は、全て、そのような合成の例を開示している。国際特許出願WO2011/070069には、出発物質の一つが2,3−ジメチル安息香酸である、メデトミジンの調製プロセスが開示されている。そのプロセスシーケンスは数多くの合成ステップ(約7ステップ)を含み、そのうちの一つはイミダゾール環形成反応ステップを伴う。そのイミダゾール環形成反応は特殊なジアミン前駆体を有し、結果として生じる生成物に含まれるイミダゾール環は、ベンジル基(これは除去する必要がある)で置換されており、またカルボニル基(これはアルケンに修飾してから還元する必要がある)のα位にある。
国際公開第2009/053709号 欧州特許出願公開第1918282号明細書 英国特許出願公開第2101114号明細書 中国特許出願公開第101921234号明細書 国際公開第2011/070069号
本発明は、潜在的に不利な、イミダゾール誘導体の出発物質としての使用を回避するものである。
これまでのメデトミジン(など)の合成には他にも欠点がいくつかある。これまでに開示されたプロセスは経済的観点または環境的観点から不利でありうる。また、それらは効率および規模拡大性の観点からも不利でありうる。これらの因子はいずれも工業的規模で行う必要があるプロセスにとっては極めて重要である。
要するに、一定の4−置換イミダゾール誘導体(例えばメデトミジン)の調製については、限られた数のプロセスしか知られていない。それゆえに代替的なおよび/または改良されたプロセスが必要とされている。
本明細書における見かけ上先に公表された文書の掲載またはそれに関する議論は、必ずしも、その文書が技術水準または共通一般知識の一部であるという自認であると解釈してはならない。
本発明の第1の態様では、式Iの化合物

Figure 0005996647

の調製プロセスであって、
(a)ホルムアミジン源、例えばホルムアミジン(またはその塩もしくは誘導体、例えばホルムアミジン酢酸塩、ホルムアミジンハロゲン化水素塩および/またはホルムアミジンスルフィン酸)、またはアンモニウム塩(例:ハロゲン化アンモニウム、例えば塩化アンモニウム)とギ酸との混合物;または
(b)ホルムアミド
の存在下での、式IIの化合物

Figure 0005996647

[式中、
は適切な脱離基、例えば適切なハロ基(例:ブロモ)、スルホネート基(例:−OS(O)1−12アルキルまたは−OS(O)アリール/ヘテロアリール、例えば−OS(O)CF、−OS(O)CHまたは−OS(O)PhMe)、オキシ−アシル基(例えば−O−C(O)−C1−12アルキル、例えばアセトキシ)などを表す]
の反応を含むプロセスが、ここに提供され、以下、このプロセスを「本発明のプロセス」という。
本発明のプロセスは(式IIの化合物の)塩、溶媒和物または保護誘導体を使って行うことができ、それによって生産される化合物は(式Iの化合物の)(例えば対応する)塩もしくは溶媒和物、またはその保護誘導体の形態にあってもよいし、そのような形態になくてもよい。
官能基の保護および脱保護は、前述の反応ステップのうち、どのステップの前または後でも行うことができる。
保護基は、当業者に周知の技法に従って、後述するように除去することができる。
保護基の使用は、J.W.F.McOmie編「Protective Groups in Organic Chemistry」Plenum Press(1973)ならびにT.W.GreeneおよびP.G.M.Wutz著「Protective Groups in Organic Synthesis」第3版、Wiley−Interscience(1999)に記述されている。
本明細書に記載するプロセスにおいて使用されるまたは本明細書に記載するプロセスによって生産される化合物(すなわち本発明のプロセスに関与するもの)は互変異性を示しうる。それゆえに、本発明のプロセスは、そのような化合物の、任意の互変異性体型としての、または前記任意の型の混合物としての、使用または生産を包含する。
同様に、本明細書に記載するプロセスにおいて使用されるまたは本明細書に記載するプロセスによって生産される化合物(すなわち本発明のプロセスに関与するもの)は、1つ以上の不斉炭素原子も含有しうるので、エナンチオマーまたはジアステレオ異性体として存在する場合があり、光学活性を示しうる。したがって本発明のプロセスは、そのような化合物の、任意の光学異性体またはジアステレオ異性体型としての、または前記任意の型の混合物としての、使用または生産を包含する。
さらに、本明細書に記載するプロセスにおいて使用されるまたは本明細書に記載するプロセスによって生産される化合物(例えば上に定義した式IIAの化合物)は二重結合を含有しうるので、個々の二重結合に関してE(entgegen)幾何異性体およびZ(zusammen)幾何異性体として存在しうる。そのような異性体およびその混合物は全て、本発明の範囲に包含される。
別段の明示がある場合を除き、本明細書において定義するアルキル基およびアルコキシ(すなわち−O−アルキル)基は直鎖であるか、または十分な数(すなわち最低3つ)の炭素原子が存在するのであれば、分岐鎖および/または環式であることができる。さらに、十分な数(すなわち最低4つ)の炭素原子が存在するのであれば、そのようなアルキル基およびアルコキシ基は、部分環式/非環式であることもできる。また、そのようなアルキル基およびアルコキシ基は飽和であってもよいし、十分な数(すなわち最低2つ)の炭素原子が存在するのであれば、不飽和であってもよい。加えて、アルキル基は、例えばハロ(例:フルオロ)、−CN、およびアルコキシ基のアルキル部分が1つ以上のフルオロ原子で、置換されていてもよいC1−6アルコキシから選択される1つ以上の置換基で、置換されていてもよい(ただし好ましくは無置換である)という場合がある。特に、アルキル基は、場合によっては1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい(または無置換であってもよい)。
別段の明示がある場合を除き、本明細書において定義するアルキレン基は、直鎖であってもよいし、十分な数(すなわち最低2つ)の炭素原子が存在するのであれば、分岐していてもよい。特にアルキレンは直鎖アルキレン基を指す場合がある。加えて、アルキレン基は、例えばハロ(例:フルオロ)、−CN、およびアルコキシ基のアルキル部分が1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよいC1−6アルコキシから選択される1つ以上の置換基で、置換されていてもよい(ただし好ましくは無置換である)という場合がある。特に、アルキレン基は、場合によっては1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい(または無置換であってもよい)。
用語「アリール」は、本明細書において使用する場合、C6−10基を包含する。そのような基は単環式、二環式または三環式であることができ、多環式である場合は、全体的にまたは部分的に芳香族性であることができる。言及することができるC6−10アリール基には、フェニル、ナフチルなどが含まれる。疑義が生じるのを避けるために述べると、アリール基上の置換基の結合点は環系の任意の炭素原子によることができる。用語「ヘテロアリール」は、本明細書において使用する場合、酸素、窒素、および/または硫黄から選択される1つ以上のヘテロ原子を含有する5〜14員ヘテロアリール基を包含する。そのようなヘテロアリール基は1つ、2つまたは3つの環を含むことができ、そのうちの少なくとも1つは芳香族性である。ヘテロアリール基上の置換基は、ヘテロ原子を含めて、環系内の任意の原子上に、適宜、位置することができる。ヘテロアリール基の結合点は、(適宜)ヘテロ原子を含めて、環系内の任意の原子によることができる。加えて、そのようなアリール/ヘテロアリール基もまた、例えばハロ、−CN、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシ(ここで、アルキル/アルコキシ基のアルキル部分は1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で、置換されていてもよい(ただし好ましくは無置換である)。
用語「ハロ」は、本明細書において使用する場合は、フルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードを包含する。
本明細書において使用する用語「ヘテロシクロアルキル」は、少なくとも1つのヘテロ原子(特にO、SおよびNから選択される少なくとも一つの原子)を含有する環状アルキル基を指す。特に、そのような基は単環式であることができる。本明細書におけるそのようなヘテロシクロアルキル基は、例えばハロ、−CN、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシ(ここで、アルキル/アルコキシ基のアルキル部分は1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で、置換されていてもよい(ただし好ましくは無置換である)という場合がある。特に、本明細書におけるヘテロシクロアルキル基は、1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい(または無置換である)。
本発明のプロセスは、好ましくは、ホルムアミジン源(例:ホルムアミジン、またはその塩もしくは誘導体)の存在下で行われる。最も好ましくは、本発明のプロセスは、ホルムアミジン酢酸塩の存在下で行われるが、他の誘導体、例えばホルムアミジンハロゲン化水素塩(例:HCl)などの他の塩、ホルムアミジンスルフィン酸、および/または市販品であってもよい他の塩もしくは誘導体)も考えられる。ホルムアミジン、特にホルムアミジン酢酸塩は、本発明のプロセスが例えば収率および純度の面で改良されるという利点を有しうる。
したがって、言及することができる具体的一実施形態では、本プロセスがホルムアミジン酢酸塩の存在下で行われる。
言及することができる具体的一実施形態では、Lが、適切なハロ基(特にブロモ)を表す。
好ましくは、式IIの化合物と比較して少なくとも1当量、例えば約1.1〜約2.5当量、例えば約1.5当量または 約2当量の、イミダゾール環形成反応を促進する試薬(例:ホルムアミジン酢酸塩)を使用する(というのも、そうでなければ反応が完了するまで進行せず、収率を損ないうるからである)。好ましい当量数は、形成される生成物の効率および潜在的収率を最大にする。
本発明のプロセスは、極性有機溶媒などの適切な溶媒、例えばアルコール系溶媒の存在下で行いうる。最も好ましい溶媒はエタノールおよびIPAである(例:エタノール)。式IIの化合物に対する溶媒の量は、反応を効率よく進行させるのに十分であるべきである。例えば、少なくとも1:1の、式IIの化合物:アルコール系溶媒の(重量)比、好ましくは少なくとも1:2、例えば少なくとも1:3の比を使用する。比は1:10であってもよいが、この比は1:4〜1:6(例:1:4と1:6の間、例えば約1:5)であることが好ましい。より具体的には、比は1:6〜1:7(例:1:6と1:7の間、例えば約1:7)でありうる。これより多量の溶媒は、高い希釈度ゆえに反応速度が低下しうるという欠点を有し、さらにまた環境/経済的欠点も有しうる。
言及することができる具体的一実施形態において、適切な溶媒は、エタノール、イソ−プロピルアルコール(IPA)、またはエタノールもしくはイソ−プロピルアルコールと水との混合物(例えばおよそ等量の混合物)から選択することができる。
より具体的な一実施形態では、適切な溶媒がイソ−プロピルアルコール(IPA)である。特に、1:7の式IIの化合物:IPAの(重量)比を使用することができる。
加えて、本発明のプロセスは(既に存在しうる溶媒(例:アルコール系溶媒)に加えて)非水性電離溶媒の存在下で行うことができる。これに関して、好ましい追加溶媒は液体アンモニアまたはアンモニア水溶液である(例えば25%アンモニア水溶液を使用することができる)。式IIの化合物と比較して、少なくとも1モル当量(例:少なくとも5モル当量、例えば5〜20モル当量(例:5モル当量と20モル当量の間)、好ましくは約10モル当量)の非電離剤を使用する。第一溶媒(例:IPAなどのアルコール系溶媒)と比較した相対的重量で言えば、追加溶媒が25%アンモニア水溶液であると仮定すると、第一溶媒対追加溶媒の比は、1:2〜10:1(例:1:2と10:1の間)、好ましくは1:1〜5:1(例:1:1と5:1の間、例えば約1.5:1または2:1)である。
言及することができる具体的一実施形態では、非水性電離溶媒が液体アンモニアである。言及することができる、さらに具体的な本発明の実施形態では、式IIの化合物と比較して5〜20モル当量の液体アンモニアを使用する(特に式IIの化合物と比較して約6〜約16、例えば約8〜約15(例:約9(例えば約8.9)、約12もしくは13(例えば約12.5)または約14(例えば約14.4)モル当量の液体アンモニア)。
言及することができる具体的一実施形態では、第一溶媒がIPAであり、非水性電離溶媒が液体アンモニアである(すなわち、反応に使用される溶媒は、IPAと液体アンモニアの混合物である)。例えば、反応は、少なくとも90%(例:少なくとも95%、例えば少なくとも99%)がIPAと液体アンモニアとの混合物からなる溶媒中で行うことができる。
より具体的には、相対的重量で言うと、IPA対液体アンモニアの比は6:1〜12:1、例えば約8:1〜約11:1(例:約11:1または約86:10)である。例えば、IPA中の6〜12重量%の液体アンモニア(例:IPA中の約8.3重量%、または特に約10.4重量%の液体アンモニア)である溶媒混合物中で、反応を行うことができる。
本発明のプロセスは、好ましくは、高温で、例えば室温を上回る温度で(例:使用する溶媒系の沸点に応じて、50℃を上回る、例えば80℃を上回る、例えば約120℃を上回る温度で)、ある時間(例:約2時間)にわたって行われるが、温度および反応時間は、反応効率および収率を最大化するために変動させることができる。例えば、溶媒が液体アンモニアとIPAとの混合物(例:IPA中の10.4重量%の液体アンモニア)である場合は、約70〜約90℃(例えば約75〜約85℃、例えば約77〜約83℃)の温度で、反応を行うことができる。言及することができる具体的一実施形態では、本発明のプロセスが、
(a)必要な溶媒の一部または全部(例:IPAと液体アンモニアとの混合物;例えば、反応に使用する全溶媒の少なくとも50%を含む混合物);および
(b)ホルムアミジン源、例えばホルムアミジン(またはその塩もしくは誘導体、例えばホルムアミジン酢酸塩、ホルムアミジンハロゲン化水素塩および/またはホルムアミジンスルフィン酸)、またはアンモニウム塩(例:ハロゲン化アンモニウム、例えば塩化アンモニウム)とギ酸との混合物
を含む予熱混合物に、式IIの化合物を加えるステップを含みうる。
本明細書において使用する用語「予熱」は、式IIの化合物を添加する時点で、高温である、例えば室温を上回る温度(例:使用する溶媒系の沸点と、反応を行う際の具体的圧力とに応じて、50℃を上回る、例えば70℃を上回る温度(例:約70〜約120℃))である混合物を指すと理解されるであろう。例えば、溶媒が液体アンモニアとIPAとの混合物(例:IPA中の10.4重量%の液体アンモニア)である場合、予熱混合物は、約70〜約90℃(例えば約75〜約85℃、例えば約77〜約83℃)の温度であることができる。
本発明のプロセスは、密閉容器中、場合によっては高圧で(すなわち大気圧より高い圧力で)行うことができる。本明細書において使用する用語「密閉容器」は、その内容物(例:反応構成要素)の放出を防ぐ、反応を収容するための任意の手段(例:反応槽)を指しうる。言及することができる具体的な反応槽には、密閉ガラスバイアルおよび密閉鋼鉄容器、例えばPTFEライニング付きのボンベ(すなわちポリテトラフルオロエチレン(PTFE)で裏打ちされた密閉金属容器)が含まれる。特に、本プロセスは、密閉容器中、高温および/または高圧で行うことができる(例:この場合、容器を密閉した後、内容物を加熱して高温にすると、結果として反応が高圧で行われることになる)。
本発明のプロセス後に、式Iの化合物(またはその塩、溶媒和物もしくは他の誘導体)を単離することができる。例えば、溶媒系(例:アンモニアおよびIPA)を除去して(例:好ましくは常圧で、例えば溶媒を沸騰させることによって;ただし溶媒系は減圧下で、例えば減圧下での蒸留によって除去することもできる)、残渣を残すことができる。その残渣は、水と有機溶媒との混合物に取り出してもよいし、もう一つの実施形態として、その残渣を水に加えてもよい(後者の実施形態では、粗生成物を簡単に水層から分離することができ、そのステップにおいて有機溶媒を使用する必要が回避される)。
残渣を水と有機溶媒との混合物に取り出す場合、有機溶媒は、生成物を溶解する任意の非水溶性有機溶媒(例:酢酸エチルなどの極性有機溶媒、または芳香族溶媒などの無極性有機溶媒、例えばトルエン)であることができる。この場合、混合物(残渣、水および有機溶媒)のpHを(例えば炭酸塩基、水酸化物塩基、アルコキシド塩基などを使用することによって、例えば炭酸ナトリウムまたは水酸化ナトリウムを使用することによって)9〜10に調節し、相を分離することができる。次に、生成物が実質的に水相にあるように、有機相を希塩酸で洗浄することができる。次に、有機相を分離してから、(例えば炭酸塩基、水酸化物塩基、アルコキシド塩基などを使用することによって、例えば炭酸ナトリウムまたは水酸化ナトリウムを使用することによって)水相(生成物を含有する)のpHをpH9〜10に調節し、生成物を有機溶媒(例:酢酸エチルなどの極性有機溶媒、または芳香族溶媒などの無極性有機溶媒、例えばトルエン)で再び抽出することができる。水相を分離し、有機相を濃縮すると、所望の生成物を含有する残渣が残る。
式Iの生成物は、本発明のプロセス後に、遊離塩基として単離することができる。例えば遊離塩基は、適切な溶媒(例えば生成物の抽出に使用した有機溶媒)からの結晶化によって得ることができる固体(例えば結晶性固体)として単離することができる。
あるいは、式Iの化合物の所望の生成物を、後処理で得た残渣から、例えば沈殿によって、対応する塩(例:対応する酸塩、例えばハロゲン化水素、例えばHCl)として単離することもできる。有利には、式Iの化合物の塩(例:HCl塩)は固体(またはさらには結晶性)であることができるので、容易に単離することができ、例えば残渣を有機溶媒(例:アセトンなどの極性非プロトン性有機溶媒)に取り出し、ハロゲン化水素(例:濃塩酸、例えば37%HClであってもよい塩酸、またはHClガスを使用してもよい)を加えてpHを(約pH6まで)下げることによって、例えばハロゲン化水素塩の沈殿を促進することができる。生成物をろ過し、さらなる溶媒(例:アセトン)で洗浄することができる。所望であれば、母液から溶媒を蒸留した後に非含水アセトンを添加することによって、さらなる生成物または生成物の第2クロップ(例:式Iの化合物のHCl塩)を単離することができる。ただし、ハロゲン化水素塩形成ステップにおいてHClガスを使用する場合は、生成物の第2クロップ(例:そのHCl塩)の単離は行う必要がない。
式Iの生成物を塩として単離する場合は、その塩を中和することによって、塩を遊離塩基に転化することができる。使用しうる反応条件としては実施例に記載するものが挙げられ(例:まず塩を水に溶解した後、チャコールで処理する)、例えば中和は、塩基(例:水酸化ナトリウムなどの水酸化物)の添加により、例えば高温(例:約55〜60℃)で行うことができ、その後、結果として生じるエマルションを、例えば約40℃まで冷却し、種晶の添加によって結晶化を誘発した後に、遊離塩基を単離することができる。
言及することができる本発明の一定の実施形態では、本発明のプロセス(すなわち本発明の第1の態様)に、以下の陳述の1つ以上が当てはまりうる。
(a)本プロセスは、ホルムアミジン塩酸塩の存在下で行われる。
(b)Lはブロモを表す。
(c)本プロセスは、IPA液体アンモニア混合物、例えば6〜12重量%の、IPA中の液体アンモニアの混合物(例:IPA中の約8.3重量%または特に約10.4重量%の液体アンモニア)である溶媒中で行われる。
(d)本プロセスは約70〜約90℃(例えば約75〜約85℃、例えば約77〜約83℃)の温度で行われる。
(e)本プロセスは、溶媒およびホルムアミジン(またはその塩もしくは誘導体)、塩化アンモニウム/ギ酸などの予熱混合物に式IIの化合物を加えるステップを含み、予熱混合物の温度は、約70〜約90℃(例えば約75〜約85℃、例えば約77〜約83℃)でありうる。
(f)本発明のプロセスは、密閉容器中、場合によっては高圧で行われる。
言及することができる具体的一実施形態では、上記の陳述(c)〜(f)がそれぞれ、本発明のプロセスに当てはまる。より具体的な一実施形態では、上記の陳述(a)〜(f)がそれぞれ、本発明のプロセスに当てはまる。
本発明の第1の態様のプロセスでは、Lはハロ、とりわけブロモを表すことが好ましい。式IIの化合物は新規化合物であるから、本発明の第2の態様では、式IIの化合物が提供される。
言及することができる式IIの具体的化合物には、式IIaの化合物:

Figure 0005996647

が含まれる。
本発明の第3の態様では、式IIの新規化合物を、式IIIの化合物

Figure 0005996647

から調製することができる。
式IIの化合物は、例えば式IIIの化合物を適当な化合物と反応させてL基を導入することによって調製することができる。例えば、Lがハロを表す式IIの化合物を調製する場合は、適当なハロゲン化試薬(ハロゲンイオン源)の存在下での反応。
(最も好ましい式IIの化合物を調製するために)ブロモ基を導入するには、適当な臭素化試薬(すなわち任意の適切な臭化物イオン源)、例えば5,5−ジブロモバルビツール酸を使用することができる。
あるいは、臭素化剤は臭素(すなわちBr)であってもよい。例えば臭素化は、臭素および適切な溶媒、例えば酢酸イソプロピルの存在下で、そして場合によっては、適切な錯生成剤、例えば1,4−ジオキサンの存在下で行うことができる。
式IIの新規化合物の調製は、中間体を経由してもよく、その中間体は式IIIの化合物の誘導体でありうる。そのような中間体は、プロセスにさらなる構成要素を加えることによって形成させることができ、その構成要素は、特に、有機化合物および/または(式IIの化合物の生産に関して)触媒性でありうる。
言及することができる具体的一実施形態において、式IIIの化合物から式IIの新規化合物を調製するためのプロセスは、式IIIaの化合物

HN(R)R IIIa

[式中、
およびRは、どちらも独立して、ハロ、−CNおよびC1−6アルコキシ(後者の基は1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよいC1−6アルキル基を表すか、または
およびRは、全体として、それらがどちらも結合している窒素原子と共に、場合によってはO、SおよびNRから選択される1つまたは2つの追加ヘテロ原子含有基を含有し、かつハロ、−CN、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者2つの基は1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい、5〜7員ヘテロシクロアルキル基を形成し;かつ
は、HまたはC1−6アルキル基を表し、ここで、後者の基は、ハロ、−CNおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者の基は、1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい]
の存在下で行うことができる。
言及することができる式IIIaの具体的化合物には、RおよびRが、全体として、それらがどちらも結合している窒素原子と共に、場合によってはO、SおよびNRから選択される1つまたは2つ(例:1つ)の追加ヘテロ原子含有基(例:1つのO原子)を含有する、5〜7員(例:6員)ヘテロシクロアルキル基を形成するものが含まれる。
言及することができる、さらに具体的な式IIIaの化合物には、モルホリンが含まれる。
式IIIの化合物から式IIの新規化合物を調製するためのプロセスが式IIIaの化合物の添加を伴う場合、その反応が式IIIbの化合物

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、式IIIaの化合物に関して本明細書において定義するとおりである]
を経由して進行しうることは、当業者には理解されるであろう。
したがって、本発明の第4の態様では、式IIIの化合物からの式IIの化合物の調製に関して本明細書に記載する条件下で、式IIの新規化合物を式IIIbの化合物から調製することができる。
言及することができる式IIIbの具体的化合物には、式IIIcの化合物

Figure 0005996647

が含まれる。
特に、本プロセスが式IIIaの化合物の添加を伴い、および/または式IIIbの化合物を経由(またはそこから出発)して進行する場合、反応は、まず、適切な溶媒の存在下で、そして場合によっては反応混合物から水を除去するのに適した条件下で、式IIIの化合物に式IIIaの化合物を添加することを伴いうる(例えば溶媒がトルエンである場合は、式IIIaの化合物の添加後に、いわゆるディーン・スターク条件下で(すなわちディーン・スターク蒸留機器を使って)、反応を溶媒の還流温度まで加熱する)。
より具体的には、本プロセスは、式IIIの化合物に対して過剰の(すなわち1当量を上回る)、例えば約1.1〜約2当量(例:約1.5当量)の、式IIIaの化合物の添加を伴いうる。
あるいは、一定の式IIIaの化合物(モルホリンなど)を適切な溶媒として使用することもできる(例:反応が、反応混合物から水を除去するのに適した条件下、例えばディーン・スターク条件下で行われる場合)。
式IIIbの化合物(例えば式IIIcの化合物)を、類似のプロセス(例:式IIIcの化合物の調製については、式IIIの化合物のトルエン溶液にモルホリンを添加した後、ディーン・スターク条件下で溶媒の還流点まで加熱する)によって調製できることは、当業者には理解されるであろう。
がブロモを表す式IIの化合物への転化のためのプロセス(特に、プロセスが式IIIaの化合物の添加を伴わず、および/または式IIIbの化合物を経由して進行しない場合)については、式IIIの化合物を、5,5−ジブロモバルビツール酸の存在下で、例えば使用した試薬中に少なくとも1当量の臭化物イオンが存在するような形で(例:試薬が2当量のハロゲン化物イオンを与えるのであれば、式IIIの化合物と比較して約0.5当量を使用することができる)、反応させることができる。式IIIの化合物をまず適当な溶媒(例:エーテルなどの極性非プロトン性溶媒、とりわけテトラヒドロフラン(THF))に溶解し、小モル当量のHCl(例:37%HCl)を加えることができる。この混合物をまず(例えば40℃を上回る温度、例えば約60℃、または溶媒の沸点まで)加熱した後、適当なハロゲン化(例:臭素化)試薬(例:5,5−ジブロモバルビツール酸)を加えることができる。好ましくは、(反応を例えばTHF中で行う場合には)温度が沸点未満、すなわち約65℃未満に維持されるように、少しずつ加える。所望の生成物は、例えば後述の実施例で述べるような後処理手順によって単離することができる。
あるいは、式IIIの化合物を、Lがブロモを表す式IIの化合物に転化するためのプロセスの場合(特に、プロセスが式IIIaの化合物の添加を伴い、および/または式IIIbの化合物を経由して(またはそこから出発して)進行する場合)は、反応を、臭素(すなわちBr)および場合によっては適切な溶媒(例えば酢酸エチル)の存在下で行うことができる。特に、そのような反応は、式IIIの化合物に対して少なくとも1当量の臭素(すなわち1当量のBr)、例えばわずかに過剰の臭素(例:約1.01〜約1.05当量、例えば約1.04当量)の存在下で行うことができる。
式IIIの化合物および式IIIbの化合物(例:式IIIcの化合物)は新規化合物でありうる。したがって本発明の第5の態様では、式III、IIIbまたはIIIcの化合物が提供される。
本発明の第6の態様では、式IIIの化合物の調製プロセスであって、式IVの化合物

Figure 0005996647

[式中、Lは:
(i)ハロ(最も好ましくはブロモ);
(ii)式−NXの基(式中、Xは適切な負荷電対イオンを表す);または

(iii)以下の式の構造フラグメント
Figure 0005996647

(式中、RおよびRは、それぞれ独立して、HまたはC1−6アルキルを表すか、あるいは、RおよびRは、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3アルキレンを形成する)
を表す]
と、式Vの化合物(クロトンアルデヒド)

Figure 0005996647

との反応を含むプロセスが提供される。
本明細書において、波線と交わっている結合が、分子の残りの部分への結合点を形成する結合を表すことは、当業者には理解されるであろう。
言及することができる第1の実施形態では、Lがハロ(最も好ましくはブロモ)を表す。
特に、第1の実施形態では、まず、Lがハロを表す式IVの化合物の反応によって、その金属化誘導体を形成させることで、反応が進行しうる。例えば式IVの化合物を、適切なリチウム化剤(例えば有機リチウム試薬、例えばn−ブチルリチウム)と反応させて、LがLiで置き換えられた式IVの化合物の誘導体を形成させることができる。
より具体的には、第1の実施形態において、反応は、まず、式Lがハロを表す式IVの化合物とグリニャール形成試薬との反応で、対応する−Mg−ハロ誘導体(例:対応する−Mg−Br化合物)を形成させることによって進行しうる。例えば、反応はTHFの存在下で行うことができ、式IVの化合物をTHF中のMg(過剰)に加えることができ、このステップは、適切な添加剤、例えばビトライド(水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム)の添加も(場合によっては)含みうる。特にビトライド(トルエン溶液(例:65重量%溶液)として加えることができる)は、式IVの化合物に対して1当量未満(例えば0.1〜0.2当量)である量で加えることができる。
疑義が生じるのを避けるために述べると、本明細書において使用する用語グリニャール形成試薬(グリニャール試薬という場合もある)が、式IVの化合物の対応する−Mg−ハロ誘導体、すなわち構造式:

Figure 0005996647

[式中、Lはハロ(例:ブロモ)を表す]
を有する式IVの化合物の誘導体を形成する能力を有する任意の試薬を指すことは、当業者には理解されるであろう。
言及することができる、さらに具体的な第1の実施形態において、反応は:
(i)まず、Lがハロ(例:ブロモ)を表す式IVの化合物とグリニャール形成試薬との反応により、対応する−Mg−ハロ誘導体を形成することによって進行し(この反応はTHFの存在下で行うことができ、式IVの化合物をTHF中のMg(過剰)に、好ましくは反応温度が溶媒の沸点未満、好ましくは約50℃未満に保たれるような速度で加えることができ;添加が完了した後に、反応を、ある時間にわたって、例えば1時間にわたって、高温で加熱することができ、その後、例えば約−20〜+20℃まで(例:約−15〜−20℃、後述の実施例と同様に約−15〜−20℃の間)、好ましくは約−10〜+10℃、最も好ましくは約−5〜約+5℃(例えば約−5〜+5℃の間)まで冷却することができる);
(ii)次に、MnCl(これは約またはほぼ1:1のモル比で使用され、例えば、モル比は、好ましくは3:2〜2:3、例えば1.5:1と1:1.5の間である)との反応を行って、対応する−MnCl誘導体を形成させ(これはインサイチューで形成させることができ、単離する必要はなく;ここでは、塩化マンガン試薬を、好ましくは、温度が約−20〜+20℃(例:約−15〜−20℃、例えば後述の実施例と同様に約−15〜−20℃の間)、好ましくは約−10〜+10℃、最も好ましくは約−5〜+5℃(例:約−5〜+5℃の間)の範囲に保たれるように、少しずつ加える);
(iii)その後、TMSCl(過剰)を加え(または別の適切な試薬、例えば代替的ハロゲン化シリル)、触媒(例:CuCl;触媒量)を加え、そして次に、式Vの化合物(これはTHF溶液として加える)を、ここでも好ましくは、温度が約−20〜+20℃(例えば約−15〜−20℃、例えば後述の実施例と同様に−15〜−20℃の間)、好ましくは約−10〜+10℃、最も好ましくは約−5〜+5℃(例えば約−5〜+5℃の間)の範囲に維持されるように加え;
(iv)完了したら、所望の生成物を、酸性後処理手順に従って単離することができる。
言及することができる第2の実施形態では:
(a)Lがハロ(最も好ましくはブロモ)または式−NXの基(式中、Xは適切な負荷電対イオン(例えばBF4−)を表す)を表し、および
(b)反応が、適切な触媒(例えば適切なパラジウム(例:Pd(0)またはPd(II))触媒)の存在下で行われる。
特に、第2の実施形態に関して:
がハロ(最も好ましくはブロモ)を表す場合、適切な触媒はPd(0)触媒(例えばビス(トリ−tert−ブチルホスフィン)パラジウム)であることができ、
ここでは、触媒が、式IVの化合物に対して1当量未満(例えば約0.001〜0.01当量、例えば約0.005当量)の量で、
場合によっては、適切な塩基、例えばトリエチルアミン(これは、式IVの化合物に対して1当量を上回る量、例えば約1.1〜約1.5当量(例:約1.3当量)の量で使用することができる)、および適切な溶媒(例えばTHF、または特に2−メチルテトラヒドロフラン)の存在下、
例えば高温、例えば約70〜約90℃(例:約80℃)において使用され;
が式−NXの基を表す場合(特にXがBF4−を表す場合)、適切な触媒はPd(II)触媒(例えば酢酸パラジウム)であることができ、ここでは、触媒が、式IVの化合物に対して1当量未満(例えば約0.01〜0.1当量、例えば約0.05当量)の量で、
場合によっては、適切な溶媒(例えばメタノール)の存在下、
例えば高温、例えば約30〜約40℃(例:約35℃)において使用される。
言及することができる第3の実施形態では、Lが、次式の構造フラグメント

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、HまたはC1−6(例:C1−3)アルキルを表すか、あるいは
およびRは、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3アルキレンを形成する]
を表す。
特に、Lは、RおよびRが、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3(例:C)アルキレン、例えば
(i)4つのメチル基で置換されたCアルキレン;
(ii)無置換Cアルキレン;および/または
(iii)無置換(直鎖)Cアルキレン
を形成する、上式の構造フラグメントを表しうる。
したがって、第3の実施形態では、式IIIの化合物の調製プロセスであって、式IVaの化合物

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、HまたはC1−6(例:C1−3)アルキルを表すか、あるいは
およびRは、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3アルキレンを形成する]
と、式Vの化合物との反応を含むプロセスが提供される。
第4の実施形態では、
(i)Lがハロを表す式IVの化合物からの式IVaの化合物の調製、そして次に
(ii)式IVaの化合物と式Vの化合物との反応
を含む、式IIIの化合物の調製プロセスも提供される。
したがって、式IVaの化合物を、Lがハロを表す式IVの化合物から調製するためのプロセスも提供される。
特に、言及することができる式IVaの化合物には、RおよびRが、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3(例:C)アルキレン、例えば:
(i)4つのメチル基で置換されたCアルキレン;
(ii)無置換Cアルキレン;および/または
(iii)無置換(直鎖)Cアルキレン
を形成するものが含まれる。
したがって、言及することができる具体的な式IVaの化合物には、式IVbの化合物

Figure 0005996647

が含まれる。
式IVaの化合物は、Lがハロ(例:ブロモ)を表す対応する式IVの化合物またはその対応する金属化誘導体(第1の実施形態において説明したプロセスによって得ることができる)と適切なボレートとの反応、そして場合によっては、それに続く、適切なアルコールまたはジオール(すなわち2つのOH基を含有するアルキル化合物)との反応によって、生産することができる。
特に、式IVaの化合物は、式IVの化合物の対応する−Mg−ハロ誘導体(例えば対応する−Mg−Br誘導体)(第1の実施形態において説明したプロセスによって得ることができる)とトリメチルボレートとの反応、そして場合によっては、それに続く、適切なジオール、例えばピナコール(この場合は、RおよびRが4つのメチル基で置換されたCアルキレンを形成する)、またはより具体的には、エチレングリコール(この場合は、RおよびRが無置換Cアルキレンを形成する)もしくはプロピレングリコール(この場合は、RおよびRが無置換Cアルキレンを形成する)との反応によって、生産することができる。
例えば、式IVaの化合物は、式IVの化合物の−Mg−ハロ誘導体の生産後に得られた反応混合物を、適切な溶媒(例:−Mg−ハロ誘導体の生産に使用した溶媒と同じ溶媒(例:THF))中のトリメチルボレートの溶液に添加するか、またはその逆を行うことによって、調製することができる(例えばこの場合、添加は低温で、例えば約−25℃で、および/または添加中は温度を約−10℃〜約−30℃(例:約−20℃)に維持しながら行われる)。
より具体的には、本プロセスは、
(a)式IVの化合物に対して過剰の(すなわち1当量を上回る)、例えば約1.5〜約2.5当量(例:約2当量)のトリメチルボレート;および/または
(b)場合によっては、過剰の(すなわち1当量を上回る)、例えば少なくとも10当量(例:約11当量)の、適切なアルコールまたはジオール(例:エチレングリコールなどの適切なジオール)
の添加を伴いうる。
−Mg−ハロ誘導体の生産後に得られた反応混合物をトリメチルボレートの溶液に添加(またはその逆を)してから、温度を約20〜30℃に調節し、過剰の溶媒/試薬(例えば反応溶媒(例:THF)、過剰のトリメチルボレートおよび/または反応中に生成したメタノール)を全て、反応混合物から蒸留によって除去することができ、その蒸留プロセスはさらに、ジオール、例えばエチレングリコール(この場合は蒸留温度を約40℃を上回る温度に上げる)、および/またはトルエン(この場合は蒸留温度を約110℃を上回る温度に上げる)の添加、さらなる時間(例えば少なくとも8時間)にわたる追加溶媒における還流、反応混合物のろ過(例:モレキュラーシーブ、例えば4オングストロームモレキュラーシーブによる)、および溶媒混合物のジオール(例えばエチレングリコール)画分の除去(この最終ステップは、さらなるエチレングリコールの添加とそれに続く除去とによって、1回以上繰り返すことができる)を含んでもよい。
特に、式IVaの化合物からの(またはその合成を経由する)式IIIの化合物の調製は、適切な触媒、例えばビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(例:RおよびRが、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3(例:C)アルキレンを形成する場合)または酢酸パラジウム(例:RおよびRがどちらもHを表す場合)の存在下での式IVaの化合物と式Vの化合物との反応を伴いうる。
より具体的には、式IVaの化合物からの(またはその合成を経由する)式IIIの化合物の調製は、適切な触媒、例えばビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレートの存在下、そして場合によっては、適切な塩基、例えば炭酸水素ナトリウムの存在下、および適切な溶媒、例えばメタノールおよび水の存在下での、式IVaの化合物と式Vの化合物との反応を含みうる。
例えば、式IVaの化合物からの(またはその合成を経由する)式IIIの化合物の調製は、ほぼ室温(例:約25℃)における、場合によっては不活性雰囲気(例えば窒素雰囲気)下での、適切な溶媒(例えばメタノールと水との混合物)中の式IVaの化合物、式Vの化合物および適切な塩基(例:炭酸水素ナトリウム)の溶液への、触媒(例:ビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート)の添加と、それに続く、高温(例:室温を上回る温度、例えばここでは、ある時間にわたって、例えば約1〜4時間にわたって、(必要に応じて加熱または冷却を使って)温度が約40℃に維持される)での反応とを伴いうる。
式IVaの化合物と式Vの化合物との反応後、ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)およびトリエタノールアミンの添加、減圧下で加熱することによる追加溶媒の除去、さらなるトルエンおよびトリエタノールアミン水溶液の添加、高温への(例:室温を上回る温度、例えば約70℃への、ある時間にわたる、例えば約15分間にわたる)加熱、次に、減圧下での蒸留による反応混合物の水性部分の除去(最後の2ステップは、さらなるトリエタノールアミン水溶液の添加後に、1回以上繰り返すことができる)および残留溶媒(例:トルエン)の除去を含む後処理手順によって、式IIIの化合物を得ることができる。
言及することができる具体的一実施形態では、式IVaの化合物の合成を経由する式IVの化合物の反応による式IIIの化合物の調製が、
(a)式IVの化合物とグリニャール試薬との反応による、対応する−Mg−ハロ誘導体の形成(この反応はTHFの存在下で行うことができ、式IVの化合物を、THF中のMg(過剰)に、好ましくは反応温度が溶媒の沸点未満、好ましくは約50℃未満に維持されるような速度で加えることができる;添加の完了後に、反応をある期間にわたって、例えば1時間にわたって、高温に加熱してから、例えば約20〜40℃(例:後述の実施例と同様に約25〜約30℃の間)まで冷却することができる;
(b)適切な溶媒(例えばTHF)の存在下、低温(例えば約−20〜−30℃の間(例:約−25℃まで))における、式IVの化合物の−Mg−ハロ誘導体とトリメチルボレートとの反応(特に、この反応では、式IVの化合物に対して過剰の、例えば約2当量のトリメチルボレートを使用しうる)による、式IVaの化合物の形成(この反応は、−Mg−ハロ誘導体の生産後に得られた反応混合物を、適切な溶媒(例:−Mg−ハロ誘導体の生産に使用したものと同じ溶媒(例:THF))中のトリメチルボレートの溶液に添加すること、またはその逆によって行うことができる(例えば、ここでは添加を、低温で、例えば約−25℃で、および/または添加中は温度を約−20℃以下に維持しながら行う);そしてここでは、場合によっては、−Mg−ハロ誘導体の生産後に得られた反応混合物をトリメチルボレートの溶液に添加(またはその逆を)した後に、温度を約20〜30℃に調節し、過剰の溶媒/試薬(例えば反応溶媒(例:THF)、過剰のトリメチルボレートおよび/または反応中に生成したメタノール)を全て、反応混合物から蒸留によって除去することができ、その蒸留プロセスはさらに、さらなる溶媒、例えばエチレングリコール(この場合は蒸留温度を約40℃を上回る温度に上げる)、および/またはトルエン(この場合は蒸留温度を約110℃を上回る温度に上げる)の添加、さらなる時間(例えば少なくとも8時間)にわたる追加溶媒における還流、反応混合物のろ過(例:モレキュラーシーブ、例えば4オングストロームモレキュラーシーブによる)、および溶媒混合物のエチレングリコール画分の除去(この最終ステップは、さらなるエチレングリコールの添加とそれに続く除去とによって、1回以上繰り返すことができる)を含んでもよい;
(c)適切な触媒、例えばビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレートの存在下、そして場合によっては、適切な塩基、例えば炭酸水素ナトリウムの存在下、および適切な溶媒、例えばメタノールおよび水の存在下での、式IVaの化合物と式Vの化合物との反応(この反応は、触媒(例:ビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート)を、適切な溶媒(例えばメタノールと水との混合物)中の式IVaの化合物、式Vの化合物および適切な塩基(例:炭酸水素ナトリウム)の溶液に、約25℃において、場合によっては不活性雰囲気(例えば窒素雰囲気)下で添加した後、高温(例えば室温を上回る温度、例えば約40℃で、ある時間にわたって、例えば約1〜4時間にわたって)で反応させることによって進行しうる;例えば、ここでは、式IVaの化合物と式Vの化合物との反応後に、ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)およびトリエタノールアミンの添加、減圧下で加熱することによる追加溶媒の除去、さらなるトルエンおよびトリエタノールアミン水溶液の添加、高温への(例:室温を上回る温度、例えば約70℃への、ある時間にわたる、例えば約15分にわたる)加熱、次に、反応混合物の水性部分の除去(最後の2ステップは、さらなるトリエタノールアミン水溶液の添加後に、1回以上繰り返すことができる)および減圧下での蒸留による残留溶媒(例:トルエン)の除去を含む後処理手順によって、式IIIの化合物を得ることができる)
によって進行する。
言及することができるさらなる実施形態では、IVaの化合物の反応による式IIIの化合物の調製が、上記ステップ(c)で述べたように進行する。
一定の式IVaの化合物は新規化合物でありうる。したがって、本発明の第7の態様では、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−6(例:C1−3)アルキルを表すか、あるいはRおよびRが全体としてC2−3(例:C)アルキレンを形成する、式IVaの化合物が提供される。
具体的一実施形態では、RおよびRが、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3(例:C)アルキレン、例えば:
(i)4つのメチル基で置換されたCアルキレン;
(ii)無置換Cアルキレン;および/または
(iii)無置換(直鎖)Cアルキレン
を形成する、式IVaの化合物が提供される。
より具体的な一実施形態では、式IVbの化合物が提供される。
本発明の第8の態様では、式IIの化合物の調製プロセスであって、適切な触媒の存在下での式IVの化合物

Figure 0005996647

[式中、Lは式−NXを表し、ここでXはハロを表す]
と式Vの化合物(クロトンアルデヒド)

Figure 0005996647

との反応を含むプロセスが提供される。
具体的一実施形態において、適切な触媒は銅塩(例えば塩化銅)であることができる。
より具体的な一実施形態では、Lがクロロを表す式IIの化合物の調製プロセスであって、
(a)XがClを表し;かつ
(b)適切な触媒が銅塩(例えば塩化銅)であり、触媒が、式IVの化合物に対して1当量未満(例えば約0.01当量と0.1当量の間、例えば約0.06当量)の量で使用され、
場合によっては、反応が、適切な酸、例えばHCl(これは、約0.6当量と約1.5当量の間にある量(例:約0.9当量)で使用することができる)および適切な溶媒(例えば水)の存在下で、例えば低温、例えば約0〜約10℃(例:約0〜約5℃)で行われる
プロセスが提供される。
が式−NXの基を表す場合、関連する反応がまず、対応するアミン基を保持する化合物から−NX基を形成するステップを含みうることは、当業者には理解されるであろう。例えば、XがClを表す場合、反応は、対応するアニリン(すなわち2,3−ジメチルアニリン)を適切なジアゾニウム形成試薬、例えば亜硝酸ナトリウムと、当業者に知られている条件下で、例えば適切な溶媒(例えば水)中、適切な酸(例えば酢酸とHClの混合物)の存在下で反応させるステップを含みうる。
疑義が生じるのを避けるために述べると、単一の(例:多段階)プロセスを得るために、本明細書に記載するプロセスの1つ以上を組み合わせうることは、特に考えられる。例えば、
・本発明の第1の態様のプロセス(すなわち本発明のプロセス)に使用される式IIの化合物が、本発明の第3または第4の態様(またはその任意の実施形態)に記載するプロセスを使って調製することができること;および/または
・本発明の第3の態様のプロセスに使用される(または本発明の第4の態様のプロセスにおいて使用される式IIIaの化合物を調製するために使用される)式IIIの化合物が、本発明の第6の態様(またはその任意の実施形態)に記載するプロセスを使って調製することができること
は、特に考えられる。
上述のプロセスにおいて、中間体化合物の官能基は、保護基で保護されていてもよく、または保護される必要がありうることは、当業者には理解されるであろう。
官能基の保護および脱保護は、前述の反応ステップのうち、どのステップの前または後でも行うことができる。
保護基は、当業者に周知の技法に従って、後述するように除去することができる。
保護基の使用は、J.W.F.McOmie編「Protective Groups in Organic Chemistry」Plenum Press(1973)ならびにT.W.GreeneおよびP.G.M.Wutz著「Protective Groups in Organic Synthesis」第3版、Wiley−Interscience(1999)に記述されている。
本発明のプロセスは、任意の中間体生成物の分離(例:単離)を伴ってまたは伴わずに行うことができる。
本明細書に記載するプロセスは、バッチプロセスとして稼働するか、または連続プロセスとして稼働することができ、任意の規模で実行することができる。
言及することができる本発明の一定の実施形態には、以下の番号付きパラグラフに定義するものが含まれる。
パラグラフ1.式Iの化合物

Figure 0005996647

の調製プロセスであって、
(a)ホルムアミジン源、例えばホルムアミジン(またはその塩もしくは誘導体、例えばホルムアミジン酢酸塩、ホルムアミジンハロゲン化水素塩および/またはホルムアミジンスルフィン酸)、またはアンモニウム塩(例:ハロゲン化アンモニウム、例えば塩化アンモニウム)とギ酸との混合物;または
(b)ホルムアミド
の存在下での、式IIの化合物

Figure 0005996647

[式中、Lは適切な脱離基、例えば適切なハロ基、スルホネート基、オキシ−アシル基などを表す]
の反応を含むプロセス。
パラグラフ2.Lがブロモを表す、パラグラフ1に記載のプロセス。
パラグラフ3.ホルムアミジン酢酸塩の存在下で行われる、パラグラフ1またはパラグラフ2に記載のプロセス。
パラグラフ4.IPA液体アンモニア混合物、例えば6〜12重量%の、液体アンモニアとIPAとの混合物(例:IPA中の約8.3重量%、または特に約10.4重量%の液体アンモニア)である溶媒中で行われる、パラグラフ1〜3のいずれか一つに記載のプロセス。
パラグラフ5.約70〜90℃(例えば75〜約85℃、例えば約77〜約83℃)の温度で行われる、パラグラフ1〜4のいずれか一つに記載のプロセス。
パラグラフ6.溶媒とホルムアミジン源との予熱混合物に式IIの化合物を加えるステップを含み、予熱混合物は約70〜90℃(例えば75〜約85℃、例えば約77〜約83℃)の温度であることができる、パラグラフ1〜5のいずれか一つに記載のプロセス。
パラグラフ7.密閉容器中、場合によっては高圧で行われる、パラグラフ1〜6のいずれか一つに記載のプロセス。
パラグラフ8.式IIaの化合物:

Figure 0005996647

パラグラフ9.Lがブロモを表す(パラグラフ8に記載の)式IIの化合物の調製プロセスであって、式IIIの化合物

Figure 0005996647

の臭素化を含むプロセス。
パラグラフ10.臭素化が5,5−ジブロモバルビツール酸の存在下で行われる、パラグラフ9に記載のプロセス。
パラグラフ11.反応が、式IIIaの化合物

HN(R)R IIIa

[式中、
およびRは、どちらも独立して、ハロ、−CNおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者の基は、1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよいC1−6アルキル基を表すか、または
およびRは、全体として、それらがどちらも結合している窒素原子と共に、場合によってはO、SおよびNRから選択される1つまたは2つの追加ヘテロ原子含有基を含有し、かつハロ、−CN、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者2つの基は1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい、5員または6員ヘテロシクロアルキル基を形成し;かつ
は、HまたはC1−6アルキル基を表し、ここで、後者の基は、ハロ、−CNおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者の基は、1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい]
の存在下で行われる、パラグラフ9に記載のプロセス。
パラグラフ12.(a)式IIIaの化合物がモルホリンであり;および/または
(b)反応が臭素の存在下で行われる、
パラグラフ11に記載のプロセス。
パラグラフ13.反応が、式IIIbの化合物

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、式IIIaの化合物に関して本明細書において定義するとおりである]
を経由して進行する、パラグラフ9または11に記載のプロセス。
パラグラフ14.Lがブロモを表す(パラグラフ8に記載の)式IIの化合物の調製プロセスであって、式IIIbの化合物

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、式IIIaの化合物に関して本明細書において定義するとおりである]
の臭素化を含むプロセス。
パラグラフ15.(a)式IIIbの化合物が式IIIcの化合物

Figure 0005996647

であり;および/または
(b)反応が臭素の存在下で行われる、
パラグラフ13または14に記載のプロセス。
パラグラフ16.パラグラフ9に定義する式IIIの化合物、またはパラグラフ13〜15のいずれか一つに定義する式IIIbもしくはIIIcの化合物。
パラグラフ17.パラグラフ5に定義する式IIIの化合物の調製プロセスであって、
式IVの化合物

Figure 0005996647

[式中、L
(i)ハロ(最も好ましくはブロモ);
(ii)式−NXの基(式中、Xは適切な負荷電対イオン(例えばBF4−)を表す);または
(iii)以下の式の構造フラグメント

Figure 0005996647

(式中、RおよびRは、それぞれ独立して、HまたはC1−6アルキルを表すか、あるいは、RおよびRは、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3アルキレンを形成する)
を表す]
の式Vの化合物(クロトンアルデヒド)

Figure 0005996647

との反応を含むプロセス。
パラグラフ18.Lがハロ(特にブロモ)を表す、パラグラフ17に記載のプロセス。
パラグラフ19.式IVaの化合物

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、HまたはC1−6(例:C1−3)アルキルを表すか、あるいは
およびRが、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3アルキレンを形成する]
の式Vの化合物との反応を含む、パラグラフ17または18に記載のプロセス。
パラグラフ20.反応が、
(a)対応する−Mg−ハロ誘導体を形成する、Lがハロ(例:ブロモ)を表す式IVの化合物のグリニャール形成試薬との反応;
(b)式IVaの化合物を形成する、式IVの化合物の−Mg−ハロ誘導体の反応(例えば、適切な溶媒(例えばTHF)および場合によっては適切なアルコールまたはジオールの存在下、低温(例えば約−20〜−30℃(例:約−25℃まで))におけるトリメチルボレートとの反応(特に、この場合、反応は、式IVの化合物に対して過剰の、例えば約2当量のトリメチルボレートを使用しうる));および
(c)適切な触媒の存在下(例えばビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレートの存在下、そして場合によっては適切な塩基、例えば炭酸水素ナトリウムの存在下、および適切な溶媒、例えばメタノールおよび水の存在下)での、式IVaの化合物と式Vの化合物との反応
を含む、パラグラフ17〜19に記載のプロセス。
パラグラフ21.反応が
(a)対応する−Mg−ハロ誘導体を形成する、(パラグラフ19に定義する)式IVaの化合物のグリニャール形成試薬との反応;
(b)式IVaの化合物を形成する、式IVの化合物の−Mg−ハロ誘導体の反応(例えば、適切な溶媒(例えばTHF)および場合によっては適切なアルコールまたはジオールの存在下、低温(例えば、約−20〜−30℃(例:約−25℃まで))における、トリメチルボレートとの反応(特に、この場合、反応は、式IVの化合物に対して過剰の、例えば約2当量のトリメチルボレートを使用しうる));および
(c)適切な触媒の存在下(例えばビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレートの存在下、そして場合によっては適切な塩基、例えば炭酸水素ナトリウムの存在下、および適切な溶媒、例えばメタノールおよび水の存在下)での、式IVaの化合物の式Vの化合物との反応
を含む、パラグラフ17または19に記載のプロセス。
パラグラフ22.式IVaの化合物が式IVbの化合物

Figure 0005996647

である、パラグラフ17、19または20に記載のプロセス。
パラグラフ23.式IVaの化合物

Figure 0005996647

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−6(例:C1−3)アルキルを表すか、あるいは
およびRが、全体として、C2−3(例:C)アルキレンを形成する]
または(パラグラフ22に定義する)式IVbの化合物。
パラグラフ24.式IIの化合物の調製プロセスであって、
適切な触媒(例:銅塩、例えば塩化銅)の存在下での、Lが式−NXの基を表し、かつXがハロを表す式IVの化合物

Figure 0005996647

の式Vの化合物(クロトンアルデヒド)

Figure 0005996647

との反応を含むプロセス。
パラグラフ25.プロセスにおいて使用される式IIの化合物が、パラグラフ9〜15のいずれか一つに記載するプロセスを使って調製される、パラグラフ1〜7のいずれか一つに記載のプロセス。
パラグラフ26.プロセスにおいて使用される式IIIの化合物が、パラグラフ17〜22のいずれか一つに記載するプロセスを使って調製される、パラグラフ9〜15のいずれか一つに記載のプロセスまたはパラグラフ25に記載のプロセス。
パラグラフ27.パラグラフ1〜7(例:パラグラフ1〜3)のいずれか一つに記載の式Iの化合物を調製した後に、そうして形成された式Iの化合物(またはその塩)を、製剤の一部を形成する成分と結びつけるプロセスを含むことを特徴とする、パラグラフ1に定義する式Iの化合物またはその塩を含む製剤の調製プロセス。
一般に、本明細書に記載するプロセスは以下の利点を1つ以上有しうる。
・従来技術に開示されているプロセスと比較して、使用する試薬および/または溶媒が少なく、および/または必要とする反応ステップ(例えば明確に異なる/別個の反応ステップ)が少ない方法で、式Iの化合物を生産することができる。
・望ましくない副生成物(望ましくない副反応の結果)、例えば毒性であるか、その他の点で取り扱いが危険、例えば爆発性でありうる副生成物の生成量を少なくしうる。
・本プロセスは、従来技術において記載されているものより、経済的または高効率でもありうる。
・式Iの化合物を、従来技術において開示されている手順と比較して、より高い収率、より高い純度、より高い選択性、より短い時間で、より好都合な(すなわち取り扱いやすい)形態で、より好都合な(すなわち取り扱いやすい)前駆体から、より少ない費用で、および/またはより少ない材料(試薬および溶媒を含む)の使用および/または消耗で、生産することができる。
・特に、ホルムアミジン、特にホルムアミジン酢酸塩の使用は、本発明のプロセスが、例えば収率および純度の面で改良されるという利点を有しうる。
・本発明のプロセスには環境上の恩恵がいくつか存在しうる。
・式IIおよび式IIIの新規化合物を高い収率および/または高度の位置選択性で生産することができるので、とりわけ式Iの化合物の生産に関して恩恵が得られる。
以下の実施例は本明細書に記載する本発明のプロセスの単なる具体例にすぎない。
使用した全ての装置、試薬および溶媒は、標準的な実験室用の装置、例えばガラス器具、加熱機器およびHPLC機器であった。
実施例1

Figure 0005996647
ステップ1
1.6LのTHF中の131g、5.39molのマグネシウムに、100g、0.54molの2,3−ジメチルブロモベンゼンを、10%THF溶液として加える。反応が始まったら、900g、4.86molの2,3−ジメチルブロモベンゼンを10%THF溶液として、温度が50℃未満に保たれるような速度で加える。添加の完了後に、温度を1時間にわたって60〜65℃に上げてから、−15〜−20℃まで冷却する。温度を−15〜−20℃に保ちながら658g、5.23molの塩化マンガンを少しずつ加える。その結果生じたスラリーに、1118g、10.29molの塩化トリメチルシリルおよび16g、0.16molのCuClを加え、次に、423mlのTHFに溶解した366g、5.22molのクロトンアルデヒドを、約2時間かけて、−15〜−20℃でゆっくり加える。その混合物を室温まで加熱し、2Lのヘプタン類で希釈した後、2Lの水を加えることによってクエンチ/加水分解する。水相を分離し、155mlの37%塩酸を含有する2Lの水と共にヘプタン相を2時間撹拌することにより、残存するシリルエノールエーテルを加水分解する。水相の分離後に、100mgのトリエタノールアミンおよび300mgのBHTを加え、溶媒を減圧下でストリッピングする。残留粘稠油状物を減圧下で蒸留することで、457g、2.59mol、48%の中間体1を得る。
ステップ2
945.8g、5.37molの中間体1を3880gのTHFに溶解する。31.2g、0.32molの37%塩酸を加え、その混合物を60℃に加熱する。温度を65℃未満に保ちながら、767.6g、2.69molの5,5−ジブロモバルビツール酸を少しずつ加える。次に、その混合物を60〜65℃で30分間撹拌する。THFを減圧下でストリッピングした後、2980gのトルエンを加える。次に、残留THFを減圧下で蒸留する。トルエン相を各3.2Lの水で3回洗浄し、次に1.6Lの3%トリエタノールアミン水溶液で洗浄し、最後に1.6Lの水で洗浄する。トルエン相に200mgのトリエタノールアミンおよび200mgのBHTを加える。トルエンを減圧下で留去すると、1150g、4.51mol、84%の中間体2が残る。
ステップ3
SS耐圧反応器に1154g、4.53molの中間体2、939g、9.02molのホルムアミジン酢酸塩、5280gのエタノールを加え、最後に3050g、44.9molの25%アンモニア水溶液を加える。その混合物を120℃で2時間加熱する。エタノールおよびアンモニアを大気圧でストリッピングし、残渣を1200mlの水および700mlの酢酸エチルに溶解する。炭酸ナトリウムでpHを9〜10に調節し、水相を分離する。希塩酸で3回連続して洗浄することにより、生成物を水に抽出する。酸性水相のpHを炭酸ナトリウムで9〜10に調節し、500mlの酢酸エチルに生成物を抽出する。水相を分離し、酢酸エチルを減圧下で除去する。残留油状物を4Lのアセトンに溶解し、pH6になるまで37%塩酸を加えることにより、生成物をHCl塩として沈殿させる。ろ過とアセトンによる洗浄とにより、366gのメデトミジン×HClを得る。母液から溶媒を蒸留し、非含水アセトンを加えることにより、生成物の第二クロップ96gが単離された。合計462g、1.95mol、43%の純粋なメデトミジン×HClが単離された。
メデトミジン遊離塩の遊離および単離
783g、3.31molのメデトミジン×HClを2.5Lの水に溶解する。40gのチャコールを加え、その混合物を70℃で30分間撹拌する。チャコールをろ過し、0.5Lの水で洗浄する。合わせたろ液および洗浄液を3.1Lのアセトンおよび0.2Lの水で希釈する。温度を55〜60℃に調節し、水0.54L中の132g、3.3molの水酸化ナトリウムの溶液を約1時間かけて加える。その結果生じたエマルションを約40℃まで冷却し、種晶の添加によって結晶化を誘発する。スラリーを0℃まで冷却し、ろ過し、ろ過ケーキを各400mlの水で3回洗浄する。減圧下で乾燥することにより、590g、2.95mol、89%のメデトミジン遊離塩基を得た。
実施例2
本明細書において言及する生成物、例えば本明細書に開示する手順(例えば上記実施例1に掲載するもの)によって得られる生成物は、適切な最終製品に、例えば最終生成物メデトミジンの合成の場合であれば、セレクトープ(Selectope(商標))などの汚損防止剤に、標準的な処方を使って製剤化することができる。例えば最終製剤化製品を調製するためにメデトミジン遊離塩基を有機溶媒に溶解することができる。
実施例3
ステップ1:1

Figure 0005996647

117gのクロチルアルコール(3当量)を、71gのトリエチルアミン(1.3当量)を含有する400mlのアセトニトリルに溶解する。その溶液を減圧/窒素パージサイクルによって注意深く脱気してから、80℃まで加熱する。もう一つの容器において、100mlの2−MeTHF中に100gの2,3−ジメチルブロモベンゼン(1当量)の溶液を調製する。その溶液を減圧/窒素パージサイクルによって注意深く脱気してから、(ビス(トリ−tert−ブチルホスフィン)パラジウム(0))(0.005当量)を加える。この混合物を、前記クロチルアルコール溶液に、温度を約80℃に保ちながら35分かけて滴下する。反応を室温まで冷却し、308mlの1%塩酸を加えることによってクエンチしてから、生成物を300mlのMTBEに抽出する。MTBE相をさらに各120gの16%NaCl溶液で2回洗浄する。MTBE相をセライトでろ過した後、揮発物を減圧下で蒸発させると、暗黄色油状物が残る。
上記の実験からの油状物を100mlのエタノールに溶解し、全ての3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールが転化されるまで(HPLC)、ジラール試薬Tを少しずつ加える。全ての3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールを転化するには0.5当量のジラール試薬Tが必要だった。300mlの水、25gのNaClおよび300mlのMTBEを加えた。水相を分離し、各150mlのMTBEで3回洗浄した。水相のpHを36%HClでおよそ1に調節し、200mlのMTBEおよび36mlの30%ホルムアルデヒド水溶液を加え、その混合物を、物質が完全に転化されて3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールに戻るまで(HPLC)、45℃で撹拌した。水相を分離し、MTBE相を、15gのNaClを含有する100mlの水で3回洗浄した。揮発物を減圧下で蒸発させると、40.8gのほとんど無色の油状物が残った。クロマトグラフィー純度(HPLC)95%、収率43%。
ステップ1:2〜1:5

Figure 0005996647

Synlett.,2009,6,973−977から採用した一般手順
ステップ1:2
2,3−ジメチルアニリンからのジアゾニウムテトラフルオロボレートは比較的安定であり、例えばジメチルホルムアミドおよびジメチルアセトアミドにおけるクロチルアルコールまたはそのTHP誘導体との反応に使用することができる。このプロセスを酢酸パラジウムの存在下、0〜40℃で行うことにより、3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールを主生成物として形成させた。それでもなお、数種類の副生成物の形成が、生成物の単離および精製を複雑にする。THP保護クロチルアルコールを使用することにより、いくつかの副生成物の形成は抑制されたが、反応混合物における標的アルデヒドの含有量は増加しなかった。
ステップ1:3
クロチルアルコール(0.4mL;5mmol)をジメチルホルムアミド(2mL)に溶解した。溶液を氷浴で冷却した。2,3−ジメチルアニリン(2.0g;3mmol)からのジアゾニウムテトラフルオロボレートおよび酢酸パラジウム(0.012g;0.05mmol)を加えた。溶液を1〜8℃で2時間撹拌して暗褐色混合物を得た。GC分析(面積%):3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール42%;その他58%。
ステップ1:4
クロチルアルコール(0.4mL;mol)をジメチルアセトアミド(2mL)に溶解した。溶液を氷浴で冷却した。2,3−ジメチルアニリン(2.0g;3mmol)からのジアゾニウムテトラフルオロボレートおよび酢酸パラジウム(0.012g;0.05mmol)を加えた。溶液を1〜8℃で4時間撹拌して暗褐色混合物を得た。GC分析(面積%):3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール24%;その他76%。
ステップ1:5
5mol%Pd(OAc)2の存在下での、THP保護(Z)−2−ブテン−1,4−ジオールの、2,4−ジメチルアニリンからのジアゾニウムテトラフルオロボレートとの反応は、対応するγ−ラクトールエーテルを68%の収率でもたらすと報告されている(Synlett,2009,6,973−977)。この手順を反復したところ、非常に近い保持時間と同じ質量とを有する2つの主要化合物を含有する粗生成物が得られた(GC−MSでは予想どおりM=206;GC面積%:35%および18%;明らかにジアステレオマー)。しかしメトキシ−キシレン(M=136;GC面積%:6%)および他の副生成物も形成された。しかし、2,3−ジメチルアニリンからのジアゾニウム塩を使って上記の実験を行ったところ、主生成物(GC面積%:47%)としてのメトキシ−キシレン(M=136)と、ヘック−マツダ(Heck−Matsuda)反応およびそれに続く環化によって形成したと思われる少量の異性体化合物(M=206;GC面積%:15%および8%)とを含有する混合物を与えた。
ステップ1:6

Figure 0005996647

ドイツ国特許DE2016809から採用した一般手順
12.1gの2,3−ジメチルアニリン(1.0当量)を28mlの酢酸に溶解する。溶液が形成される。次に、7.0gの水と24.7gの37%HCl(3.2当量)との混合物を加える。発熱を伴って結晶−スラリーが形成される。<5°まで冷却してから、温度を0°〜5°に保ちながら、水15ml中の7.5gのNaNO2(1.1当量)を少しずつ(結晶−スラリーの表面下に)加える。淡赤色のジアゾニウム塩溶液が形成される。次に、0.5gのCaO(0.09当量)、5.1gのクロトンアルデヒド(0.7当量)および12mlのアセトンの混合物を、7.1gの37%HCl(0.9当量)中の0.6gのCuCl(0.06当量)の溶液と交互に、0°〜5°で加える。緩やかな窒素の発生を伴って緑黄色溶液が形成される。0°〜5°で約5時間後に、冷却を終了し、反応混合物を室温に到達させる。
結果:GC−MSによる分析は、所望の2−クロロ−3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールが有意に形成されていないことを示した。その代わりに、主生成物は、3−クロロ−1,2−ジメチルベンゼン、2,3−ジメチルフェノールおよび2,3−ジメチルフェニルアセテートであった。
ステップ2

Figure 0005996647
ステップ2:1
3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール(5.1g;GC面積% 95%)を酢酸イソプロピル(10mL)に溶解した。溶液を氷浴で1℃まで冷却した。酢酸イソプロピル(10mL)/ジオキサン(5mL)混合物中の臭素(1.75mL)の溶液を、混合物の温度を5℃未満に保ちながら、130分間で少しずつ加えた。酢酸イソプロピル(15mL)を追加した。撹拌を1時間続けた。水(10mL)を加えた。相を分離した。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液(10mL×2)で洗浄した。無色の濁った有機溶液を得た;(33.6g);GC(面積%):0.7% 3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール;94.5% 2−ブロモ−3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール;4.8% その他。NMRアッセイ:18.40%の2−ブロモ−3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール;収率計算値:90%。
ステップ2:2
3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール(11.5g;GC面積% 88.7%)を酢酸イソプロピル(40mL)に溶解した。溶液を氷浴で1℃まで冷却した。48%臭化水素酸(0.2mL)を加えた。臭素(3.2mL)の酢酸イソプロピル(30mL)溶液を、混合物の温度を5℃未満に保ちながら、少し(1mL)ずつ、100分間で加えた。撹拌を1.5時間続けた。酢酸イソプロピル(5mL)中の臭素(0.3mL)を30分間で追加した。撹拌を30分間続けた。水(10mL)を加えた。相を分離した。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液(20mL×2)で洗浄した。ほとんど無色の濁った有機溶液が得られた;(78.2g);GC(面積%):0.6% 3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール;90.5% 2−ブロモ−3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール;8.9% その他。NMRアッセイ:17.2% 2−ブロモ−3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール;収率計算値:91.7%。
実施例4

Figure 0005996647

Figure 0005996647

Figure 0005996647
ステップ1:1
1−ブロモ−2,3−ジメチルベンゼン(74g、0.40mol)を反応槽に投入し、THF(204mL)に溶解する。減圧(100mbar)を適用することによって不活性にし、雰囲気を窒素に変える。削り屑状マグネシウム(9.73g、0.40mol)およびTHF(201mL)を第2の反応槽に投入する。削り屑状マグネシウムが反応器の中で渦を巻くような高速で撹拌する。この混合物に、前記1−ブロモ−2,3−ジメチルベンゼン/THF溶液のおよそ10%を投入する。反応を開始させるためにビトライド(15mg)を投入する。残りの1−ブロモ−2,3−ジメチルベンゼン/THF溶液を、50℃でおよそ1時間の間に投入する。次に反応を少なくとも1時間は撹拌する。溶液を25〜30℃まで冷却する。上で調製したグリニャール試薬溶液を、THF(223mL)中のトリメチルボレート(90mL、0.80mol)の冷(−25℃)混合物に加える。グリニャール試薬溶液を温度が−20℃を超えないような速度で加える。ボレートエステルは、投入中に沈殿し始めるであろう。良好な混合が得られるように撹拌速度を調節する。温度を20〜30℃に調節し、THF、過剰のトリメチルボレート、および反応中に形成されるメタノールを、減圧下で留去する。その混合物にエチレングリコール(247mL、4.4mol)を投入し、実質上全ての固形物が溶解するまで、40℃を上回る温度で撹拌する。残存する揮発性構成要素を除去するために減圧下で蒸留を続ける。トルエン(222mL)を加え、反応器内の温度が110℃を超える温度に到達するまで、蒸留を大気温度で続ける。この温度で少なくとも15分間は還流する。留去されたトルエンとほぼ同じ体積のトルエンを投入することによって補填する。次に反応を少なくとも8時間は還流する。凝縮液は4オングストロームモレキュラーシーブ(18g)を充填したフィルターでろ過されてから、再び反応に入る。
温度を95〜100℃に調節し、15分間分離させる。下側のエチレングリコール相を分割する。上側の相を15〜30分間静置し、可能であれば下側のグリコール相のさらなる画分を分割する。エチレングリコール(82g、1.3mol)を加え、その混合物を95〜100℃で15分間撹拌する。相の良好な混合が得られるように、撹拌速度を調節する。次に相を15分間分離させる。下側のエチレングリコール相を捨てる。上側の相を15〜30分間静置し、可能であれば下側のグリコール相のさらなる画分を分割する。エチレングリコール(82g、1.3mol)をもう一度加え、その混合物を95〜100℃で15分間撹拌する。次に相を15分間分離させる。下側のエチレングリコール相を捨てる。上側の相を15〜30分間静置し、可能であれば下側のグリコール相のさらなる画分を分割する。
溶液を60℃未満に冷却し、メタノール(148mL)を投入し、トルエンおよびメタノールを65℃における共沸蒸留によって留去する。投入したメタノールは全て留去する必要がある。反応を25℃まで冷却し、新鮮なメタノール(341mL)を投入する。
THF(78mL)、水(52mL)に溶解した炭酸水素ナトリウム(0.24g)、およびクロトンアルデヒド(40g、0.57mol)を、25℃で反応混合物に投入する。減圧を適用することによって不活性にし、雰囲気を窒素に変える。この減圧(100mbar)/窒素サイクルを少なくとも4回行う。
その混合物に25℃でビス(アセトニトリル)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(0.11g)を投入する。温度を40℃に調節し、1〜4時間撹拌する。
BHT(74mg)およびトリエタノールアミン(74mg)を加え、凝縮液が減少するまで、溶媒を減圧下で留去する。トルエン(185mL)およびトリエタノールアミン(3mL)の水(74mL)溶液を投入する。温度を70℃に調節し、少なくとも15分間は撹拌してから、相を15分間分離させる。下側の水相を捨てる。新たに水(74mL)中のトリエタノールアミン(3mL)を投入する。温度を70℃に調節し、15分間撹拌してから、相を70℃で15分間分離させ、下側の水相を捨てる。
残留体積が250mLに達するまでトルエンを減圧下で留去する。生成物(3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナール)溶液をろ過する。トリエタノールアミン(7mg))を投入する。
生成物溶液は、これ以上精製することなく、対応する3−(2,3−ジメチルフェニル)−2−ブロモブタナールの調製に使用することができる。
ステップ1:2
677gの2−(2,3−ジメチルフェニル)−1,3,2−ジオキサボロラン、7512gのメタノール、935gのテトラヒドロフラン、3.3gの炭酸水素ナトリウム、700gの水、および533gのクロトンアルデヒドを投入する。その溶液を3サイクル脱気し、温度を20℃に調節する。保護用の不活性窒素雰囲気を適用し、1.5gのRh−141([Rh(COD)(MeCN)]BF)触媒を投入する。反応は発熱性であり、温度は約20〜25℃上昇する。温度を40℃に調節し、完全な転化に到達するように、反応混合物を4〜8時間撹拌する。1gのBHTおよび1gのトリエタノールアミンを加え、溶媒を減圧下、60℃で留去する。2500mlのトルエンを投入し、温度を50℃に調節する。トルエン層を1000mlの水および50gのトリエタノールアミンで洗浄し、70℃で水層を分離し、分割し、捨てる。トルエン層を1000mlの水および50gのトリエタノールアミンで洗浄し、70℃で水層を分離し、分割し、捨てる。溶媒を減圧下、80℃で留去することにより、657gの黄色油状物を得る。クロマトグラフィー純度(GC)96.4%、収率69%。
ステップ2
トルエン(82.2g、0.28mol)中の3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールにトルエン(93mL)およびモルホリン(36mL、0.42mol)を加える。その混合物を、形成された水を除去するためにディーン・スタークトラップを装着して、加熱還流する。理論量の水が除去され、それ以上の水が留去されなくなったら、残留体積が110mLに達するまで溶媒を留去する。
第2の反応槽に臭素(15mL、0.29mol)および酢酸エチル(566mL)を加え、その混合物を−10℃未満に冷却する。この臭素溶液に、上で調製したエナミン溶液を、温度が−10℃未満に保たれる速度で加える。少なくとも10分間は撹拌した後、水(185mL)を加えて反応をクエンチし、次に温度を25℃まで上げる。必要であれば塩酸を加えることによってpHを4未満に調節する。相を10分間分離させるように撹拌。下側の相を捨てる。炭酸水素ナトリウム(7.6g)およびチオ硫酸ナトリウム7.5g)の水(132mL)溶液を加え、その混合物を10分間撹拌してから、相を10分間分離させる。下側の相を捨てる。水(153mL)を加え、その混合物を10分間撹拌してから撹拌を停止し、相を分離させる。下側の相を捨てる。BHT(0.1g)およびトリエタノールアミン(0.1g)を投入する。溶媒を残留体積が93mLになるまで減圧下で留去する。62.8gの2−ブロモ−3−(2,3−ジメチルフェニル)ブタナールを含有する粗生成物溶液を収集する。1−ブロモ−2,3−ジメチルベンゼンからの総収率は61%である。
ステップ3:1
反応はPTFEライニング付きのボンベで行った。ブロモアルデヒド(3.4g;NMRアッセイによれば2.5g、9.8mmolのブロモアルデヒドを含有する)および2.04g(19.6mmol)のホルムアミジン酢酸塩を、アンモニア(8.3%;118mmol)を含有する30mLのイソプロパノールと混合した。その混合物を77〜80℃の油浴で2時間加熱した。21℃まで冷却した後、GC分析により、74.8面積%のメデトミジンおよび約11〜12%の高沸点副生成物(ピラジン類を含む)が示された。
反応混合物をロータベーパーで濃縮した。その残渣(10.7g)に15mLのトルエン、15mLの水および1mLの30%水酸化ナトリウムを加えた。その混合物を30℃に温め、相を分離した。下側の水相(pH11〜12)を捨てた。トルエン相をNMRでアッセイしたところ、メデトミジンの収率は70%であった。
ステップ3:2
ホルムアミジン酢酸塩(0.25g)を、2−プロパノール中の10.4%w/wアンモニア溶液3mLと混合した。その混合物を油浴(77℃)に浸漬した。ホルムアミジン酢酸塩は約70℃で溶解し、無色の溶液を与えた。
ブロモアルデヒド(BB−A−12−2K;0.42g、0.31gのブロモアルデヒドを含有すると計算された)を77〜80℃において20分間でマイクロシリンジを使って加えた。撹拌を76〜81℃のバス温で2時間続けた。
粗生成物のGC分析により、84.5%のメデトミジンおよび3.7%の高沸点副生成物が示された。
ステップ3:3
ホルムアミジン酢酸塩(28.5g;0.27mol)を、2−プロパノール中の10.4%アンモニア溶液(260mL;1.24molのNH)と混合した。混合物を83℃(油浴97℃)に加熱した。ブロモアルデヒド(BB−A−17−3K、51g、0.137mol)を42分間で反応器にポンプ注入した。90〜91℃で2時間の後反応。
反応器を室温まで冷却した。GC面積%分析では混合物が80%メデトミジンと3.2%副生物とを含有していた。
反応混合物(305.5g)を112.8gに濃縮した。その濃縮液に150mLのトルエン、100mLの水および18mLの30%NaOHを加えた。混合物を50〜55℃で10分間撹拌し、相を分離した。トルエン相をNMRでアッセイしたところ、メデトミジンの収率は81%であった。
ステップ3:4
ホルムアミジン酢酸塩(21g;0.20mol)を、2−プロパノール中の10.4%アンモニア溶液(250mL;1.2molのNH)と混合した。混合物を油浴で80℃(油浴97℃)に加熱した。ブロモアルデヒド(BB−A−17−3K、50g;0.134mol)を、85〜89℃において、40分間で、反応器にポンプ注入した。2時間の後反応後に、混合物を室温まで冷却した。GC面積%分析では、混合物が80%のメデトミジンと3.2%の副生成物とを含んでいた。
単離は、ステップ3:3(すぐ上)で述べたとおりに行った。
トルエン相をNMRでアッセイしたところ、メデトミジンの収率は82.8%であった。
略号
BHT:ブチル化ヒドロキシトルエン
eq:当量
h:時間
HPLC:高速液体クロマトグラフィー
IPA:イソプロピルアルコール
MTBE:メチル−tert−ブチル エーテル
NMR:核磁気共鳴
PTFE:ポリテトラフルオロエチレン
THF:テトラヒドロフラン

Claims (12)

  1. 式Iの化合物
    Figure 0005996647
    の調製プロセスであって、
    (a)ホルムアミジン源;または
    (b)ホルムアミド
    の存在下での、式IIの化合物
    Figure 0005996647
    [式中、Lは脱離基を表す]
    の反応を含むプロセス。
  2. (a)前記プロセスが、ホルムアミジン、ホルムアミジン酢酸塩、ホルムアミジンハロゲン化水素塩、ホルムアミジンスルフィン酸、または塩化アンモニウムとギ酸との混合物の存在下で行われ;および/または
    (b)Lがハロ基、スルホネート基、またはオキシ−アシル基を表す、
    請求項1に記載のプロセス。
  3. (i)前記プロセスがホルムアミジン酢酸塩の存在下で行われ;および/または
    (ii)Lがブロモを表す、
    請求項1または請求項2に記載のプロセス。
  4. 式IIaの化合物:
    Figure 0005996647
  5. 請求項4に定義する式IIaの化合物の調製プロセスをさらに含み前記式IIaの化合物の調製は、式IIIの化合物
    Figure 0005996647
    の臭素化を含む、請求項1に記載のプロセス
  6. 前記臭素化が5,5−ジブロモバルビツール酸の存在下で行われる、請求項5に記載のプロセス。
  7. 前記式IIaの化合物の調製が、式IIIaの化合物

    HN(R)R IIIa

    [式中、
    およびRは、どちらも独立して、ハロ、−CNおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者の基は、1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよいC1−6アルキル基を表すか、または
    およびRは、全体として、それらがどちらも結合している窒素原子と共に、場合によってはO、SおよびNRから選択される1つまたは2つの追加ヘテロ原子含有基を含有し、かつハロ、−CN、C1−6アルキルおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者2つの基は1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい、5員または6員ヘテロシクロアルキル基を形成し;かつ
    は、HまたはC1−6アルキル基を表し、ここで、後者の基は、ハロ、−CNおよびC1−6アルコキシ(ここで、後者の基は、1つ以上のフルオロ原子で置換されていてもよい)から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよい]
    の存在下で行われる、請求項5に記載のプロセス。
  8. (a)式IIIaの化合物がモルホリンであり;および/または
    (b)前記反応が臭素の存在下で行われる、
    請求項7に記載のプロセス。
  9. 請求項5に定義する式IIIの化合物。
  10. IIIの化合物の調製プロセスをさらに含み前記式IIIの化合物の調製は、式IVの化合物
    Figure 0005996647
    [式中、Lは、
    (i)ハロ;または
    ii)以下の式の構造フラグメント
    Figure 0005996647
    (式中、RおよびRは、それぞれ独立して、HまたはC1−6アルキルを表すか、あるいは、RおよびRは、全体として、1つ以上のメチルで置換されていてもよいC2−3アルキレンを形成する)
    を表す]
    の式Vの化合物(クロトンアルデヒド)
    Figure 0005996647
    との反応を含む、請求項5に記載のプロセス
  11. 式IIIの化合物の調製プロセスは、式IVbの化合物
    Figure 0005996647
    の反応を含む、請求項10に記載のプロセス。
  12. 請求項1から3のいずれか一項に記載するように式Iの化合物を調製し、次に、そうして形成された式Iの化合物(またはその塩)を、製剤の一部を形成する成分と結びつけるプロセスを含むことを特徴とする、請求項1に定義する式Iの化合物またはその塩を含む製剤の調製プロセス。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103588711B (zh) * 2013-11-27 2015-04-08 天津炜捷制药有限公司 一种美托咪定中间体的制备方法
GB201501593D0 (en) * 2015-01-30 2015-03-18 Cambrex Karlskoga Ab New compounds and processes
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WO2024047144A1 (en) 2022-09-01 2024-03-07 I-Tech Ab Composition protecting wood against marine woodborers
CN115745893A (zh) * 2022-11-16 2023-03-07 西安近代化学研究所 一种合成2-氰基-5-芳基-1h-咪唑类化合物的方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2016809C3 (de) 1969-04-10 1974-05-16 S.A. Prb, Bruessel Verfahren zur Herstellung von Arylierungsprodukten olefinisch ungesättigter Verbindungen
GB2101114B (en) * 1981-07-10 1985-05-22 Farmos Group Ltd Substituted imidazole derivatives and their preparation and use
EA005532B1 (ru) * 2000-08-17 2005-04-28 Пфайзер Инк. Замещенные имидазолы в качестве ингибиторов активированной формы активируемого тромбином ингибитора фибринолиза (tafia)
EP1918282A1 (en) 2006-11-06 2008-05-07 "Joint Stock Company Grindeks" Method for preparing medetomidine and its salts
BRPI0811264A2 (pt) * 2007-05-24 2014-11-04 Eldrug S A Compostos
GB2453982B (en) * 2007-10-24 2009-09-16 Norbrook Lab Ltd Chemical process for the preparation of Medetomidine
CN101921234B (zh) 2009-06-12 2012-05-30 中国中化股份有限公司 一种制备美托咪啶的方法
WO2011070069A1 (en) * 2009-12-09 2011-06-16 I-Tech Ab Process for preparation of medetomidine

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