JP5995881B2 - 基板洗浄方法、基板洗浄装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
Claims (12)
- 基板を回転させつつ、前記基板よりも上方に位置する液ノズルから前記基板の表面の中央部に洗浄液を吐出する第1の工程と、
前記第1の工程の後に、前記基板の上方に位置するガスノズルから前記基板の前記表面の中央部に乾燥ガスを吐出させ、前記基板の前記表面の中央部に乾燥領域を形成する第2の工程と、
前記第2の工程の後に、前記基板を回転させ且つ前記液ノズルを前記基板の中央側から周縁側に向けて移動させつつ前記液ノズルから前記基板の前記表面に洗浄液を吐出する第3の工程と、
前記基板の前記表面において洗浄液の供給位置から外側にかけて拡がるウエット領域と、前記乾燥領域との間に生ずる中間領域の幅を取得する第4の工程と、
前記中間領域の前記幅が所定のしきい値を超えたときに、前記中間領域の幅が前記しきい値以下となるよう、前記基板の処理に供する処理パラメータを変更する第5の工程とを含む、基板洗浄方法。 - 前記第5の工程では、変更対象の前記処理パラメータとして、前記ガスノズルから吐出される乾燥ガスの流量、前記液ノズルの移動速度、前記基板の回転数、及び前記ガスノズルと前記基板の前記表面との距離のうち少なくとも一つを含む、請求項1に記載の基板洗浄方法。
- 前記第3の工程では、前記ガスノズルが前記液ノズルよりも前記基板の中央側に位置した状態を維持しながら、前記ガスノズルを前記基板の中央側から周縁側に向けて移動させつつ前記ガスノズルから前記基板の前記表面に乾燥ガスを吐出し、
前記第5の工程では、変更対象の前記処理パラメータとして、前記ガスノズルから吐出される乾燥ガスの流量、前記ガスノズルの移動速度、前記液ノズルの移動速度、前記基板の回転数、及び前記ガスノズルと前記基板の前記表面との距離のうち少なくとも一つを含む、請求項1に記載の基板洗浄方法。 - 前記しきい値は、5mm〜15mmの範囲内から設定された値である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 前記第3の工程では、前記基板を回転させ且つ前記液ノズルを前記基板の中央側から周縁側に向けて移動させつつ前記液ノズルから前記基板の前記表面に洗浄液を吐出すると共に、前記中間領域と前記乾燥領域との境界部分を含む撮像画像を取得し、
前記第4の工程は、
前記液ノズルの位置に基づいて前記中間領域の外縁を特定する第1のサブステップと、
前記撮像画像を構成する画素の輝度値の変化量に基づいて、前記中間領域の内縁を特定する第2のサブステップと、
前記第1及び第2のサブステップで特定された前記中間領域の外縁と内縁との直線距離により前記中間領域の前記幅を決定する第3のサブステップとを含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。 - 基板を回転させる回転駆動部と、
前記基板よりも上方に位置すると共に前記基板の表面に洗浄液を吐出する液ノズルと、
前記基板よりも上方に位置すると共に前記基板の前記表面に乾燥ガスを吐出するガスノズルと、
前記基板よりも上方に位置すると共に前記基板の前記表面を撮像する撮像部と、
前記回転駆動部、前記液ノズル、前記ガスノズル及び前記撮像部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記回転駆動部及び前記液ノズルを制御して、回転中の前記基板の前記表面の中央部に前記液ノズルから洗浄液を吐出させる、第1の制御と、
前記第1の制御の後に、前記ガスノズルを制御して、前記ガスノズルから前記基板の前記表面の中央部に乾燥ガスを吐出させ、前記基板の前記表面の中央部に乾燥領域を形成する第2の制御と、
前記第2の制御の後に、前記回転駆動部、前記液ノズル及び前記撮像部を制御して、前記液ノズルを前記基板の中央側から周縁側に向けて移動させつつ回転中の前記基板の前記表面に前記液ノズルから洗浄液を吐出させると共に、前記撮像部により前記基板の前記表面の撮像画像を取得する第3の制御と、
前記基板の前記表面において洗浄液の供給位置から外側にかけて拡がるウエット領域と、前記乾燥領域との間に生ずる中間領域の幅を、前記撮像画像を用いて決定する第4の制御と、
前記中間領域の前記幅が所定のしきい値を超えたときに、前記中間領域の幅が前記しきい値以下となるよう、前記基板の処理に供する処理パラメータを変更する第5の制御と
を実行する、基板洗浄装置。 - 前記制御部は、前記第5の制御において、変更対象の前記処理パラメータとして、前記ガスノズルから吐出される乾燥ガスの流量、前記液ノズルの移動速度、前記基板の回転数、及び前記ガスノズルと前記基板の前記表面との距離のうち少なくとも一つを含む、請求項6に記載の基板洗浄装置。
- 前記第3の制御では、前記ガスノズルを制御して、前記ガスノズルが前記液ノズルよりも前記基板の中央側に位置した状態を維持しながら、前記ガスノズルを前記基板の中央側から周縁側に向けて移動させつつ回転中の前記基板の前記表面に前記ガスノズルから乾燥ガスを吐出させ、
前記第5の制御では、変更対象の前記処理パラメータとして、前記ガスノズルから吐出される乾燥ガスの流量、前記ガスノズルの移動速度、前記液ノズルの移動速度、前記基板の回転数、及び前記ガスノズルと前記基板の前記表面との距離のうち少なくとも一つを含む、請求項6に記載の基板洗浄装置。 - 前記しきい値は、5mm〜15mmの範囲内から設定された値である、請求項6〜8のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御部は、前記第4の制御において、
前記液ノズルの位置に基づいて前記中間領域の外縁を特定する第1の処理と、
前記中間領域と前記乾燥領域との境界部分を含む前記撮像画像を構成する画素の輝度値の変化量に基づいて、前記中間領域の内縁を特定する第2の処理と、
前記第1及び第2の処理で特定された前記中間領域の外縁と内縁との直線距離により前記中間領域の前記幅を決定する第3の処理と
を実行する、請求項6〜9のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板の前記表面に沿って前記撮像部を移動させる駆動部をさらに備え、
前記制御部は、前記第3の制御において前記駆動部を制御して、前記基板の回転に伴い移動する前記境界部分に追従するように前記撮像部を移動させる、請求項10に記載の基板洗浄装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板洗浄方法を基板洗浄装置に実行させるためのプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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