JP7265466B2 - レジスト除去システムおよびレジスト除去方法 - Google Patents
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Description
基板を保持して回転させる回転保持部と、
前記基板表面に微小気泡含有液を供給可能な微小気泡発生ノズルであって、揺動ノズルを含む微小気泡発生ノズルと、
前記揺動ノズルを前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動させるノズル揺動部と、
前記回転保持部による前記基板の回転と前記ノズル揺動部による前記揺動ノズルの揺動とを制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記微小気泡発生ノズルから前記基板表面に微小気泡含有液を供給する際に、前記揺動ノズルを揺動させずに、前記基板の回転速度を第1回転速度にし、次いで、前記揺動ノズルを揺動させながら、前記基板の回転速度を前記第1回転速度より速い第2回転速度まで上げる。
回転される基板表面に微小気泡含有液を供給する微小気泡発生ノズルと、
前記基板表面のレジストを検出するセンサと、
前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を停止した状態で、前記センサの検出結果に基いて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断し、除去未完の場合には、前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を再開する制御部と、
を備える。
基板を保持して回転させる回転保持部と、
前記基板表面に微小気泡含有液を供給可能な微小気泡発生ノズルであって、揺動ノズルを含む微小気泡発生ノズルと、
前記揺動ノズルを前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動させるノズル揺動部と、
前記回転保持部による前記基板の回転と前記ノズル揺動部による前記揺動ノズルの揺動とを制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記微小気泡発生ノズルから前記基板表面に微小気泡含有液を供給する際に、前記揺動ノズルを揺動させずに、前記基板の回転速度を第1回転速度にし、次いで、前記揺動ノズルを揺動させながら、前記基板の回転速度を前記第1回転速度より速い第2回転速度まで上げる。
前記制御部は、前記揺動ノズルを前記基板表面の中心部と対向する位置から周縁部と対向する位置へと揺動させるときに、前記揺動ノズルの揺動速度を徐々に遅くし、前記揺動ノズルを前記基板表面の周縁部と対向する位置から中心部と対向する位置へと揺動させるときに、前記揺動ノズルの揺動速度を徐々に速くする。
前記制御部は、前記揺動ノズルを揺動させるときに、前記基板の回転方向を予め定められた時間毎に逆転させる。
基板を保持して回転させる回転保持部と、
前記基板表面に微小気泡含有液を供給可能な微小気泡発生ノズルであって、揺動ノズルを含む微小気泡発生ノズルと、
前記揺動ノズルを前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動させるノズル揺動部と、
前記回転保持部による前記基板の回転と前記ノズル揺動部による前記揺動ノズルの揺動とを制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記微小気泡発生ノズルから前記基板表面に微小気泡含有液を供給する際に、前記揺動ノズルを揺動させながら、前記基板の回転方向を予め定められた時間毎に逆転させる。
前記微小気泡発生ノズルに液体を供給する液体供給部と、
前記液体供給部から前記微小気泡発生ノズルへと供給される液体を加熱するヒーターと、
をさらに備える。
前記基板の裏面に温水を供給して前記基板を加熱する基板加熱部
をさらに備える。
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の周縁部と対向する位置に固定された固定ノズルをさらに含む。
前記基板表面のレジストを検出するセンサ
をさらに備え、
前記制御部は、前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を停止した状態で、前記センサの検出結果に基いて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断し、除去未完の場合には、前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を再開する。
前記センサは、色判別センサ、膜厚センサ、距離センサ、画像センサのうちの少なくとも1つを含む。
前記センサは、前記基板表面の周縁部のレジストを検出する。
前記基板表面に乾燥ガスを供給するガスノズル
をさらに備える。
前記ガスノズルは、前記基板表面の周縁部に向けて前記乾燥ガスを供給する。
回転される基板表面に微小気泡発生ノズルから微小気泡含有液を供給し、前記基板表面からレジストを除去する方法であって、
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動可能な揺動ノズルを有し、
前記微小気泡発生ノズルから前記基板表面に微小気泡含有液を供給する際に、前記揺動ノズルを揺動させずに、前記基板の回転速度を第1回転速度にし、次いで、前記揺動ノズルを揺動させながら、前記基板の回転速度を前記第1回転速度より速い第2回転速度まで上げる。
回転される基板表面に微小気泡発生ノズルから微小気泡含有液を供給し、前記基板表面からレジストを除去する方法であって、
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動可能な揺動ノズルを有し、
前記微小気泡発生ノズルから前記基板表面に微小気泡含有液を供給する際に、前記揺動ノズルを揺動させながら、前記基板の回転方法を予め定められた時間毎に逆転させる。
回転される基板表面に微小気泡含有液を供給する微小気泡発生ノズルと、
前記基板表面のレジストを検出するセンサと、
前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を停止した状態で、前記センサの検出結果に基いて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断し、除去未完の場合には、前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を再開する制御部と、
を備える。
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動される揺動ノズルを含む。
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の周縁部と対向する位置に固定された固定ノズルをさらに含む。
前記センサは、色判別センサ、膜厚センサ、距離センサ、画像センサのうちの少なくとも1つを含む。
前記センサは、前記基板表面の周縁部のレジストを検出する。
前記基板表面に乾燥ガスを供給するガスノズルをさらに備える。
前記ガスノズルは、前記基板表面の周縁部に向けて前記乾燥ガスを供給する。
前記センサは、前記基板表面を撮像して撮像画像を生成する画像センサを含み、
レジストが完全に除去された状態の前記基板表面の撮像画像のカラーチャートが前記制御部のメモリに記憶されており、
前記制御部は、前記画像センサから微小気泡含有液供給後の基板表面の撮像画像を取得し、当該撮像画像のカラーチャートを、メモリに予め記憶されているカラーチャートと比較し、その差分に基づいて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断する。
前記センサは、前記基板表面を撮像して撮像画像を生成する画像センサを含み、
レジストが完全に除去された状態の前記基板表面の撮像画像からピクセルデータが抽出され、当該ピクセルデータのRGB信号に対してマッピングが行われてRGB相対値が決定され、当該RGB相対値が前記制御部のメモリに記憶されており、
前記制御部は、前記画像センサから微小気泡含有液供給後の基板表面の撮像画像を取得し、当該撮像画像からピクセルデータを抽出し、当該ピクセルデータのRGB信号に対してマッピングを行ってRGB相対値を決定し、当該RGB相対値を、メモリに予め記憶されているRGB相対値と比較し、その差分に基づいて、基板表面のレジスト除去状況を判断する。
回転される基板表面に微小気泡含有液を供給するステップと、
前記微小気泡含有液の供給を停止した状態で、前記基板表面のレジストをセンサにより検出するステップと、
前記センサの検出結果に基いて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断し、除去未完の場合には、前記微小気泡含有液の供給を再開するステップと、
を含む。
」)したと判断された場合には(ステップS17:YES)、処理を終了する。
11a 微小気泡発生ノズル(揺動ノズル)
11b 微小気泡発生ノズル(固定ノズル)
12 センサ(第1センサ)
120 センサ(第2センサ)
13 ガスノズル
14 制御部
15 液体供給部
151 ポンプ
152 オゾンガス発生部
153 混合器
154 気液分離器
155 濃度計
156 オゾンガス分解器
16 ノズル揺動部
17a 第1固定治具
17b 第2固定治具
18 回転保持部(回転テーブル)
18a~18d 回転保持部(ローラチャック)
19 ガス供給部
20 回転保持部(回転テーブル)
21a、21b ヒーター
W 基板
Claims (7)
- 回転される基板表面に微小気泡含有液を供給する微小気泡発生ノズルと、
前記基板表面のレジストを検出するセンサと、
前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を停止した状態で、前記センサの検出結果に基いて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断し、除去未完の場合には、前記微小気泡発生ノズルからの前記微小気泡含有液の供給を再開する制御部と、
を備え、
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の中心部と対向する位置と周縁部と対向する位置との間で揺動される揺動ノズルを含み、
前記微小気泡発生ノズルは、前記基板表面の周縁部と対向する位置に固定された固定ノズルをさらに含む、
ことを特徴とするレジスト除去システム。 - 前記センサは、色判別センサ、膜厚センサ、距離センサ、画像センサのうちの少なくとも1つを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のレジスト除去システム。 - 前記センサは、前記基板表面の周縁部のレジストを検出する、
ことを特徴とする請求項1または2に記載のレジスト除去システム。 - 前記基板表面に乾燥ガスを供給するガスノズル
をさらに備えたことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のレジスト除去システム。 - 前記ガスノズルは、前記基板表面の周縁部に向けて前記乾燥ガスを供給する、
ことを特徴とする請求項4に記載のレジスト除去システム。 - 前記センサは、前記基板表面を撮像して撮像画像を生成する画像センサを含み、
レジストが完全に除去された状態の前記基板表面の撮像画像のカラーチャートが前記制御部のメモリに記憶されており、
前記制御部は、前記画像センサから微小気泡含有液供給後の基板表面の撮像画像を取得し、当該撮像画像のカラーチャートを、メモリに予め記憶されているカラーチャートと比較し、その差分に基づいて、前記基板表面のレジスト除去状況を判断する、
ことを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載のレジスト除去システム。 - 前記センサは、前記基板表面を撮像して撮像画像を生成する画像センサを含み、
レジストが完全に除去された状態の前記基板表面の撮像画像からピクセルデータが抽出され、当該ピクセルデータのRGB信号に対してマッピングが行われてRGB相対値が決定され、当該RGB相対値が前記制御部のメモリに記憶されており、
前記制御部は、前記画像センサから微小気泡含有液供給後の基板表面の撮像画像を取得し、当該撮像画像からピクセルデータを抽出し、当該ピクセルデータのRGB信号に対してマッピングを行ってRGB相対値を決定し、当該RGB相対値を、メモリに予め記憶されているRGB相対値と比較し、その差分に基づいて、基板表面のレジスト除去状況を判断する、
ことを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載のレジスト除去システム。
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