JP5974601B2 - Device manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、デバイスの製造方法に関し、特にウエットプロセスで基板上に機能膜を成膜する方法に関する。   The present invention relates to a device manufacturing method, and more particularly to a method of forming a functional film on a substrate by a wet process.

有機EL表示パネルやTFT基板等のデバイスにおいては、特定の機能を発揮するための機能膜が用いられる。機能膜の例としては、有機EL表示パネルにおける有機発光層や、TFT基板における有機半導体層等が挙げられる。
現在、デバイスの大型化が進み、効率の良い機能膜の成膜方法として、機能性材料を含むインクをインクジェット法等に基づいて塗布するウエットプロセスが提案されている。ウエットプロセスは機能膜を塗り分ける際の位置精度が基板サイズに依存せず、デバイスの大型化への技術的障壁が比較的低いメリットがある。
In a device such as an organic EL display panel or a TFT substrate, a functional film for exhibiting a specific function is used. Examples of the functional film include an organic light emitting layer in an organic EL display panel and an organic semiconductor layer in a TFT substrate.
Currently, devices have been increased in size, and a wet process for applying an ink containing a functional material based on an inkjet method or the like has been proposed as an efficient method for forming a functional film. The wet process has a merit that the positional accuracy when the functional film is separately applied does not depend on the substrate size, and the technical barrier to device enlargement is relatively low.

代表的なインクジェット法のウエットプロセスでは、塗布装置の作業テーブル上に塗布対象基板を載置する。基板表面に対してインクヘッドを一方向に走査し、インクジェットヘッドの複数のノズルから基板表面の所定領域にインクを滴下する(例えば有機EL表示パネルに関する特許文献1を参照)。その後はインクの溶媒を蒸発乾燥させて機能膜を成膜する。   In a typical ink-jet wet process, a substrate to be coated is placed on a work table of a coating apparatus. The ink head is scanned in one direction with respect to the substrate surface, and ink is dropped from a plurality of nozzles of the inkjet head onto a predetermined region of the substrate surface (see, for example, Patent Document 1 relating to an organic EL display panel). Thereafter, the ink solvent is evaporated and dried to form a functional film.

ところで、塗布装置を用いたウエットプロセスで機能膜を基板上に成膜し、デバイスを量産的に製造する場合、連続使用されるインクジェットヘッドのノズルがインクの詰まりや摩耗等の変化を生じ、基板上に滴下されるインクの塗布量が変動して、機能膜をうまく成膜できない場合がある。
また、インクの濃度または粘度等の特性が経時的に変動し、基板上に滴下するインクの塗布量が変動する場合もある。
By the way, when a functional film is formed on a substrate by a wet process using a coating apparatus, and a device is mass-produced, the nozzles of an inkjet head that is continuously used cause changes such as ink clogging and wear, and the substrate In some cases, the amount of ink dropped onto the surface fluctuates and the functional film cannot be formed successfully.
In addition, characteristics such as ink concentration or viscosity may change over time, and the amount of ink applied to the substrate may change.

このため、例えばロット生産単位毎や所定の期間毎に、オペレータは基板上のインク塗布状態をチェックし、必要に合わせてノズルやインクの調整を図ることが求められる。   For this reason, for example, for each lot production unit or for each predetermined period, the operator is required to check the ink application state on the substrate and adjust the nozzles and ink as necessary.

特開2004−253332号公報JP 2004-253332 A 特開2010−182442号公報JP 2010-182442 A 特開2003−282247号公報JP 2003-282247 A

デバイスの製造は、基板への異物の付着や混入を防ぐために真空クラスタの処理室内で実施されることがある。この場合、ウエットプロセスで塗布された乾燥前のインクの塗布状態をチェックしようとすると、処理室の内部を撮影する装置や専用モニタの設置が別途必要となり、コストの上昇を招く可能性がある。
一方、完成後のデバイスの機能膜の膜厚を原子間力顕微鏡(AFM)等を用いて評価し、インクの塗布量を確認するという方法もある。しかしながら、この場合は基板を切断して試料を準備し、顕微鏡の詳細な設定を行う必要があり、検査評価を得るまでに相当の時間や人員、装置が必要となる問題がある。
Device fabrication may be performed in a vacuum cluster processing chamber to prevent foreign matter from adhering to and mixing into the substrate. In this case, if an attempt is made to check the application state of the ink applied by the wet process before drying, an apparatus for photographing the inside of the processing chamber and a dedicated monitor are separately required, which may increase the cost.
On the other hand, there is also a method in which the thickness of the functional film of the completed device is evaluated using an atomic force microscope (AFM) or the like, and the amount of ink applied is confirmed. However, in this case, it is necessary to prepare a sample by cutting the substrate and perform detailed setting of the microscope, and there is a problem that considerable time, personnel, and apparatus are required to obtain inspection evaluation.

本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであって、基板上のインクの塗布状態を比較的低コスト且つ簡便な方法で検査し、検査結果に基づいて良好にインクの塗布量を調整可能なデバイスの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to inspect the application state of ink on a substrate by a relatively low cost and simple method, and to adjust the ink application amount satisfactorily based on the inspection result. It is an object to provide a method for manufacturing a simple device.

上記課題を解決するため、本発明の一態様であるデバイスの製造方法は、容積が異なる複数の溝部が存在する第1領域を有する基板に対し、1以上のノズルを有する塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記各溝部に前記インクを滴下する第1滴下ステップと、前記第1滴下ステップの後、前記基板の前記第1領域を外観検査することにより、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている溝部を検出する外観検査ステップと、前記外観検査ステップでの検出結果に基づき、前記塗布装置より滴下するインク量を調整するインク量調整ステップとを有するものとする。   In order to solve the above problems, a device manufacturing method according to an aspect of the present invention uses a coating apparatus having one or more nozzles for a substrate having a first region where a plurality of grooves having different volumes exist, A first dropping step of dropping the ink into each of the groove portions from any one of the nozzles, and after the first dropping step, the first region of the substrate is visually inspected, whereby the ink among the plurality of groove portions. An appearance inspection step for detecting a groove portion overflowing and an ink amount adjustment step for adjusting the amount of ink dropped from the coating device based on the detection result in the appearance inspection step.

上記本発明の一態様であるデバイスの製造方法において、第1領域の溝部に滴下されるインクを用いて基板上に機能膜を形成する場合、当該インクは同じ塗布装置で滴下することができる。この場合、基板上の第1領域の各溝部に滴下されたインクの塗布状態を外観検査すれば、基板上に機能膜を形成するために滴下されたインクの塗布状態を推測できる。   In the method for manufacturing a device which is one embodiment of the present invention, when a functional film is formed over a substrate using ink dropped in the groove portion of the first region, the ink can be dropped with the same coating apparatus. In this case, if the appearance of the ink applied to each groove in the first region on the substrate is visually inspected, the state of ink applied to form a functional film on the substrate can be estimated.

この外観検査を行えば、インクの乾燥状態に関係なく外部より基板上のインクの塗布状態を検査でき、インクが溢れ出ている最大容積の溝部を検出することで、その検出結果を塗布装置から滴下するインク量の調整に反映できる。このため本発明の一態様のデバイスの製造方法は、比較的低コストで簡便に実施でき、外観検査の検出結果をインク塗布量の調整に反映させて、良好に複数のデバイスを製造することが可能である。   If this appearance inspection is performed, the application state of the ink on the substrate can be inspected from the outside regardless of the ink drying state, and the detection result is detected from the coating device by detecting the maximum volume of the groove where the ink overflows. This can be reflected in the adjustment of the amount of ink dropped. For this reason, the device manufacturing method of one embodiment of the present invention can be easily implemented at a relatively low cost, and a plurality of devices can be manufactured satisfactorily by reflecting the detection result of the appearance inspection in the adjustment of the ink application amount. Is possible.

有機EL表示パネル10の構成を示す正面図と部分断面図である。FIG. 2 is a front view and a partial cross-sectional view showing a configuration of an organic EL display panel 10. 塗布装置1000の機能ブロック図である。It is a functional block diagram of the coating device 1000. 塗布装置1000の作業テーブル周辺の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure around the work table of the coating device 1000. FIG. インクジェットヘッド301Rの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the inkjet head 301R. 有機EL表示パネル10の製造プロセスを示すステップ図である。3 is a step diagram showing a manufacturing process of the organic EL display panel 10. FIG. 有機EL表示パネル10の製造プロセスを示す断面図である。4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the organic EL display panel 10. FIG. ウエットプロセスにおける塗布対象基板10Xの様子を示す正面図である。It is a front view which shows the mode of the application | coating target board | substrate 10X in a wet process. インク量調整処理を考慮したパネル量産プロセスのステップ図である。It is a step figure of the panel mass production process in consideration of the ink amount adjustment processing. 外観検査で検出される溝部の位置の推移を示す断面図である。It is sectional drawing which shows transition of the position of the groove part detected by an external appearance test | inspection. データプロット管理の例を示すチャート図である。It is a chart figure which shows the example of data plot management.

<発明の態様>
本発明の一態様に係るデバイスの製造方法は、容積が異なる複数の溝部が存在する第1領域を有する基板に対し、1以上のノズルを有する塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記各溝部に前記インクを滴下する第1滴下ステップと、前記第1滴下ステップの後、前記基板の前記第1領域を外観検査することにより、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている溝部を検出する外観検査ステップと、前記外観検査ステップでの検出結果に基づき、前記塗布装置より滴下するインク量を調整するインク量調整ステップとを有するものとする。
<Aspect of the Invention>
The method for manufacturing a device according to one aspect of the present invention uses a coating apparatus having one or more nozzles for a substrate having a first region in which a plurality of grooves having different volumes is present, and each of the nozzles is used for each of the nozzles. After the first dropping step for dropping the ink into the groove portion and after the first dropping step, the groove portion in which the ink overflows is formed among the plurality of groove portions by visual inspection of the first region of the substrate. An appearance inspection step to detect, and an ink amount adjustment step to adjust the amount of ink dropped from the coating apparatus based on the detection result in the appearance inspection step.

ここで本発明の別の態様として、前記第1滴下ステップでは、前記各溝部に前記インクを均等量で滴下することもできる。
また本発明の別の態様として、前記インク量調整ステップでは、前記基板に滴下する1滴当たりのインク量を調整することもできる。
また本発明の別の態様として、前記インク量調整ステップでは、前記基板に滴下するインクの液滴数を調整することもできる。
Here, as another aspect of the present invention, in the first dropping step, the ink can be dropped into each groove portion in an equal amount.
As another aspect of the present invention, in the ink amount adjustment step, the amount of ink per droplet dropped on the substrate can be adjusted.
As another aspect of the present invention, in the ink amount adjusting step, the number of ink droplets dropped on the substrate can be adjusted.

また、本発明の別の態様として、前記外観検査ステップで、前記検出した前記溝部が一定範囲外の容積である場合に、前記インク量調整ステップを実施することもできる。
また本発明の別の態様として、前記インク量調整ステップでは、前記ノズルの整備または交換、或いはインク特性の調整の少なくともいずれかを実施する
また本発明の別の態様として、前記ノズルの整備は、パージ処理、フラッシング処理、ワイピング処理のいずれかとすることもできる。
As another aspect of the present invention, the ink amount adjustment step may be performed when the detected groove portion has a volume outside a certain range in the appearance inspection step.
As another aspect of the present invention, in the ink amount adjustment step, at least one of maintenance or replacement of the nozzle or adjustment of ink characteristics is performed. As another aspect of the present invention, the maintenance of the nozzle includes: Any one of a purge process, a flushing process, and a wiping process may be used.

また本発明の別の態様として、前記複数の溝部は、互いに深さが同じで幅が異なる形状とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第1滴下ステップでは、前記各溝部の内部に複数の液滴を滴下することもできる。
また本発明の別の態様として、前記基板は、前記第1領域以外の領域であって機能膜が形成される第2領域を有し、前記外観検査ステップ前に、前記ノズルのいずれかより前記第2領域に機能膜材料を含むインクを滴下する第2滴下ステップを有することもできる。
As another aspect of the present invention, the plurality of groove portions may have shapes having the same depth and different widths.
As another aspect of the present invention, in the first dropping step, a plurality of droplets can be dropped inside each groove.
As another aspect of the present invention, the substrate has a second region that is a region other than the first region and on which a functional film is formed, and before the appearance inspection step, A second dropping step of dropping ink containing the functional film material in the second region can also be provided.

また本発明の別の態様として、前記外観検査ステップは、前記第1領域及び前記第2領域に滴下した前記インクの乾燥後に行うこともできる。
また本発明の別の態様として、前記外観検査ステップでは、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を検出することもできる。
また本発明の別の態様として、前記外観検査ステップ後に、当該外観検査ステップにおいて検出した、前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を記録する溝部記録ステップを経ることもできる。
As another aspect of the present invention, the appearance inspection step can be performed after drying the ink dropped on the first region and the second region.
As another aspect of the present invention, in the appearance inspection step, it is possible to detect a groove portion having a maximum volume in which the ink overflows among the plurality of groove portions.
As another aspect of the present invention, after the appearance inspection step, a groove recording step for recording the maximum volume of the groove overflowing with the ink detected in the appearance inspection step can be performed.

また、本発明の一態様は、複数のデバイスを順次製造する方法であって、前記デバイス中の少なくとも任意の一のデバイスの製造プロセスが、上記した本発明のいずれかの態様における前記第1及び第2滴下ステップと、前記外観検査ステップと、前記インク量調整ステップとを有するデバイスの製造方法とする。
また、本発明の一態様は、上記デバイスの製造方法を繰り返し実施し、前記各インク量調整ステップの後に、当該各インク量調整ステップの実行記録を累積的に行う調整記録ステップを有するデバイスの製造方法とする。
One embodiment of the present invention is a method of sequentially manufacturing a plurality of devices, wherein the manufacturing process of at least one arbitrary device in the devices includes the first and the second embodiments according to any one of the embodiments of the present invention described above. A device manufacturing method includes a second dropping step, the appearance inspection step, and the ink amount adjustment step.
According to another aspect of the present invention, there is provided a device having an adjustment recording step in which the device manufacturing method is repeatedly performed, and after each ink amount adjustment step, execution recording of each ink amount adjustment step is cumulatively performed. The method.

また、本発明の一態様は、前記累積的に記録した実行記録を用いるデバイスの製造方法であって、前記塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記機能膜材料を含むインクを複数の前記基板の前記第2領域に順次滴下し、前記インクを乾燥させることにより、前記各基板上に前記機能膜を成膜する成膜ステップと、先行する実行記録の後、これに連続する次の実行記録までの間に製造された前記基板数に、前記成膜ステップで前記機能膜を成膜した基板数が到達した場合、前記塗布装置より滴下するインク量を調整する整備ステップを実施するものとする。   One embodiment of the present invention is a device manufacturing method using the cumulatively recorded execution record, wherein the coating apparatus is used, and a plurality of inks containing the functional film material is provided from any of the nozzles. A film forming step of forming the functional film on each substrate by sequentially dropping the ink onto the second region of the substrate and drying the ink, and a subsequent execution following the preceding execution record When the number of substrates on which the functional film is formed in the film formation step reaches the number of substrates manufactured until recording, a maintenance step is performed to adjust the amount of ink dropped from the coating device. To do.

また本発明の一態様における有機EL表示パネルの製造方法は、基板の第2領域の上方に、複数の第1電極を形成する第1ステップと、前記各第1電極の上方において、互いに交差する2方向に複数の開口部を存在させ、且つ、前記基板の第1領域に容積が異なる複数の溝部を存在させるように隔壁を形成する第2ステップと、前記各開口部に対し、1以上のノズルを有する塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより有機発光材料を含むインクを滴下する第3ステップと、前記各溝部に対し、前記ノズルのいずれかより前記インクを滴下する第4ステップと、前記第3ステップ及び前記第4ステップを実施した後、前記基板の上方に第2電極を形成する第5ステップと、前記第1領域の前記各溝部に滴下されたインクの塗布状態を前記基板上から外観検査し、インクが溢れ出ている溝部を検出する第6ステップと、前記第6ステップでの検出結果に基づき、前記塗布装置より滴下するインク量を調整する第7ステップとを有するものとする。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the first step of forming a plurality of first electrodes above the second region of the substrate intersects with each other above the first electrodes. A second step of forming a partition so as to have a plurality of openings in two directions and a plurality of grooves having different volumes in the first region of the substrate; and one or more for each of the openings A third step of dropping an ink containing an organic light emitting material from any of the nozzles using a coating apparatus having a nozzle; a fourth step of dropping the ink from any of the nozzles to each of the grooves; After performing the third step and the fourth step, a fifth step of forming a second electrode above the substrate, and an application state of the ink dropped in the grooves in the first region are shown in the substrate. And a sixth step of detecting a groove portion where ink overflows and a seventh step of adjusting the amount of ink dropped from the coating device based on the detection result in the sixth step. To do.

ここで本発明の別の態様として、前記第7ステップでは、前記各溝部に前記インクを均等量で滴下することもできる。
また本発明の別の態様として、前記第7ステップでは、前記基板に滴下する1滴当たりのインク量を調整することもできる。
また本発明の別の態様として、前記第7ステップでは、前記基板に滴下するインクの液滴数を調整することもできる。
Here, as another aspect of the present invention, in the seventh step, the ink can be dropped into each groove portion in an equal amount.
As another aspect of the present invention, in the seventh step, the amount of ink per droplet dropped on the substrate can be adjusted.
As another aspect of the present invention, in the seventh step, the number of ink droplets dropped on the substrate can be adjusted.

また本発明の別の態様として、前記第6ステップで、前記検出した前記溝部が一定範囲外の容積である場合に、前記第7ステップを実施することもできる。
また本発明の別の態様として、前記第6ステップでは、前記ノズルの整備または交換、或いはインク特性の調整の少なくともいずれかを実施することもできる。
また本発明の別の態様として、前記ノズルの整備は、パージ処理、フラッシング処理、ワイピング処理のいずれかとすることもできる。
As another aspect of the present invention, in the sixth step, when the detected groove has a volume outside a certain range, the seventh step can be performed.
As another aspect of the present invention, in the sixth step, at least one of maintenance or replacement of the nozzles and adjustment of ink characteristics can be performed.
As another aspect of the present invention, the maintenance of the nozzle may be any one of a purge process, a flushing process, and a wiping process.

また本発明の別の態様として、前記複数の溝部は、互いに深さが同じで幅が異なる形状とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第4ステップでは、前記各溝部の内部に複数の液滴を滴下することもできる。
また本発明の別の態様として、前記第6ステップは、前記第2領域及び前記第1領域に滴下した前記インクの乾燥後に行うこともできる。
As another aspect of the present invention, the plurality of groove portions may have shapes having the same depth and different widths.
As another aspect of the present invention, in the fourth step, a plurality of droplets can be dropped inside each groove.
As another aspect of the present invention, the sixth step can be performed after drying the ink dropped on the second region and the first region.

また本発明の別の態様として、前記第6ステップでは、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を検出することもできる。
また本発明の別の態様として、前記第6ステップ後に、当該第6ステップにおいて検出した、前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を記録する第8ステップを経ることもできる。
As another aspect of the present invention, in the sixth step, it is also possible to detect a maximum volume groove portion in which the ink overflows among the plurality of groove portions.
As another aspect of the present invention, after the sixth step, an eighth step of recording the maximum volume groove portion in which the ink overflows, which is detected in the sixth step, can be performed.

また、本発明の一態様は、複数の有機EL表示パネルを順次製造する方法であって、前記有機EL表示パネル中の少なくとも任意の一の有機EL表示パネルの製造プロセスが、前記した本発明のいずれかの態様の前記第1〜第7ステップを有することもできる。
また、本発明の別の態様は、前記した本発明の一態様の有機EL表示パネルの製造方法を繰り返し実施し、前記各第7ステップの後に、当該各第7ステップの実行記録を累積的に行う第9ステップを有するものとする。
One embodiment of the present invention is a method for sequentially manufacturing a plurality of organic EL display panels, and the manufacturing process of at least one organic EL display panel in the organic EL display panel is the method of the present invention described above. The first to seventh steps of any aspect may be included.
According to another aspect of the present invention, the organic EL display panel manufacturing method according to one aspect of the present invention described above is repeatedly performed, and after each seventh step, execution records of the seventh steps are cumulatively recorded. It is assumed that the ninth step is performed.

また、本発明の一態様である有機EL表示パネルの製造方法は、前記累積的に記録した実行記録を用いる有機EL表示パネルの製造方法であって、前記塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記有機発光材料を含むインクを複数の前記基板の前記第2領域に順次滴下し、前記インクを乾燥させることにより、前記各基板上に前記有機発光層を成膜する第10ステップと、先行する実行記録の後、これに連続する次の実行記録までの間に製造された基板数に、前記第10ステップで前記有機発光層を成膜した基板数が到達した場合、前記塗布装置より滴下するインク量を調整する第11ステップを実施するものとする。   In addition, a method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention is a method for manufacturing an organic EL display panel using the cumulatively recorded execution record, wherein the coating apparatus is used and any one of the nozzles is used. A tenth step of depositing the organic light-emitting layer on each substrate by sequentially dropping ink containing the organic light-emitting material onto the second regions of the plurality of substrates and drying the ink; When the number of substrates on which the organic light emitting layer has been formed in the tenth step reaches the number of substrates manufactured between the execution record and the next execution record that follows, the droplets are dropped from the coating apparatus. It is assumed that an eleventh step of adjusting the amount of ink to be performed is performed.

また本発明の一態様である有機EL表示パネルは、基板と、前記基板の上方の表示領域において、互いに交差する第1方向及び第2方向に沿って配設された複数の第1電極と、前記基板上の前記各第1電極の位置に対応して開口部を存在させ、且つ前記基板上の第1領域において容積が異なる複数の溝部を存在させるように形成された隔壁と、前記各第1電極の上方において、前記開口部の内部に有機発光材料を含むインクを塗布して形成された各有機発光層と、各有機発光層の上方にわたって形成された第2電極と、前記第2電極の上方より、前記第1領域を外部から視認可能な状態で被覆するように形成された透明な封止層とを有し、前記第1領域の前記各溝部に対応する位置には、前記各溝部の内部に前記インクを滴下してなるインク層がそれぞれ形成され、一定容積以下の前記各溝部に対応する位置の前記インク層が前記溝部より溢れ出ている構成とする。   An organic EL display panel which is one embodiment of the present invention includes a substrate, and a plurality of first electrodes disposed along a first direction and a second direction intersecting each other in a display region above the substrate, Partitions formed to have openings corresponding to the positions of the respective first electrodes on the substrate and to have a plurality of grooves having different volumes in the first region on the substrate; Above each electrode, each organic light emitting layer formed by applying an ink containing an organic light emitting material inside the opening, a second electrode formed above each organic light emitting layer, and the second electrode And a transparent sealing layer formed so as to cover the first region in a state visible from the outside, at positions corresponding to the grooves in the first region, Ink formed by dripping the ink into the groove There are formed respectively, the ink layer at a position corresponding to the respective grooves of less than a certain volume and configuration that overflows from the groove.

ここで本発明の別の態様として、前記複数の溝部は、互いに深さが同じで幅が異なる形状とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記インク層は、前記各溝部に対し、前記インクの複数の液滴を滴下してなる構成とすることもできる。
<実施の形態1>
(有機EL表示パネル10の全体構成)
図1(a)は有機EL表示パネル10の正面図である。図1(b)は、図1(a)の第2領域(発光領域)A1における有機EL表示パネル10の1画素を示す、W1−W2矢視断面図である。図1(c)は、図1(a)の第1領域(TEG領域)A2の構成を示す、W3−W4矢視断面図である。
Here, as another aspect of the present invention, the plurality of groove portions may have the same depth and different widths.
As another aspect of the present invention, the ink layer may be formed by dropping a plurality of droplets of the ink into the grooves.
<Embodiment 1>
(Overall configuration of organic EL display panel 10)
FIG. 1A is a front view of the organic EL display panel 10. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line W1-W2 showing one pixel of the organic EL display panel 10 in the second region (light emitting region) A1 of FIG. FIG. 1C is a cross-sectional view taken along the line W3-W4 showing the configuration of the first region (TEG region) A2 of FIG.

図1(a)に示すように、有機EL表示パネル10は、基板中央の発光領域A1と、その周辺に設けられたTEG(評価用素子)領域A2とを有する。TEG領域A2の位置は、発光領域A1の以外の位置であれば特に限定されない。
[発光領域A1の構成]
発光領域A1には図1(b)に示すように、有機EL素子100R、100G、100Bが並設される。有機EL素子100R、100G、100Bは、TFT基板110(以下、単に「基板110」と記載する。)と、その上面に陽極102と、電極被覆層103と、ホール注入層104とを有する。ホール注入層104の上には、さらに同順に積層された有機発光層106R(第1有機発光層)、106G(第2有機発光層)、106B(第3の有機発光層)のいずれかと、電子輸送層107と、陰極108と、封止層109とを有する。
As shown in FIG. 1A, the organic EL display panel 10 includes a light emitting region A1 at the center of the substrate and a TEG (evaluation element) region A2 provided in the periphery thereof. The position of the TEG area A2 is not particularly limited as long as it is a position other than the light emitting area A1.
[Configuration of Light Emitting Area A1]
As shown in FIG. 1B, organic EL elements 100R, 100G, and 100B are juxtaposed in the light emitting region A1. The organic EL elements 100R, 100G, and 100B each include a TFT substrate 110 (hereinafter simply referred to as “substrate 110”), an anode 102, an electrode coating layer 103, and a hole injection layer 104 on the upper surface thereof. On the hole injection layer 104, any one of an organic light emitting layer 106R (first organic light emitting layer), 106G (second organic light emitting layer), 106B (third organic light emitting layer), A transport layer 107, a cathode 108, and a sealing layer 109 are included.

陽極102、電極被覆層103、有機発光層106R、106G、106Bは、有機EL素子100R、100G、100B毎に個別に形成される。ホール注入層104、電子輸送層107、陰極108、発光領域A1の表面全体にわたり一様に形成される。封止層109は、基板110の表面に一様に形成される。有機EL素子100R、100G、100Bは、陽極102を反射陽極材料で構成し、陰極108を透明電極材料で構成し、封止層109を透明材料で構成することで、トップエミッション型としている。   The anode 102, the electrode coating layer 103, and the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B are individually formed for each of the organic EL elements 100R, 100G, and 100B. The hole injection layer 104, the electron transport layer 107, the cathode 108, and the light emitting region A1 are formed uniformly over the entire surface. The sealing layer 109 is uniformly formed on the surface of the substrate 110. The organic EL elements 100R, 100G, and 100B are of a top emission type by forming the anode 102 with a reflective anode material, the cathode 108 with a transparent electrode material, and the sealing layer 109 with a transparent material.

有機EL表示パネル10では、各素子100R、100G、100Bがサブピクセルを構成する。隣接する3つの有機EL素子100R、100G、100Bを1組として1画素(ピクセル)を構成する。
バンク(隔壁)105は、基板110の平面に沿って行列(XY)方向に複数の開口部を存在させるように格子状に形成され、ピクセルバンク構造をなしている。各開口部の位置は有機EL素子100R、100G、100Bの位置に対応する。
In the organic EL display panel 10, each element 100R, 100G, 100B constitutes a subpixel. One pixel (pixel) is formed by combining three adjacent organic EL elements 100R, 100G, and 100B.
The banks (partition walls) 105 are formed in a lattice shape so that a plurality of openings exist in the matrix (XY) direction along the plane of the substrate 110, and have a pixel bank structure. The positions of the openings correspond to the positions of the organic EL elements 100R, 100G, and 100B.

有機発光層106R、106G、106Bは、駆動時に陽極102側から注入されたホールと、陰極108側から注入された電子との再結合される際に励起状態となり、発光を生じる機能を有する。これらの有機発光層106R、106G、106Bは、有機発光材料を含むインクを塗布装置より滴下するウエットプロセスで形成されたものである。
[TEG領域A2の構成]
TEG領域A2では、図1(c)に示すように、基板110上にバンク105と同じ材料を用いてバンク材料層105Aが配設される。バンク材料層105Aの表面には、評価用素子として、互いに容積が異なる複数の溝部101a〜101gが互いに所定間隔で並設される。各溝部101a〜101gは、有機EL表示パネル10を平面視する方向から見ると矩形状の開口部形状を有するが、この形状に限定されず、多角形状や円形状等であってもよい。また、溝部101a〜101g同士は隣接させる必要はなく、適宜離間させて配置できる。各溝部101a〜101gに対応する位置には、有機発光層106Rと同じインクを用い、有機発光層106Rの形成時と同時期のウエットプロセスにより前記塗布装置から均等量のインクを滴下することによって、インク層106a〜106gが形成されている。ある容積以下の溝部に対応するインク層(ここでは溝部101a〜101dに対応するインク層106a〜106d)は、各溝部から溢れた状態で乾燥して固着している。
The organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B have a function of emitting light when excited by being recombined with holes injected from the anode 102 side during driving and electrons injected from the cathode 108 side. These organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B are formed by a wet process in which ink containing an organic light emitting material is dropped from a coating apparatus.
[Configuration of TEG area A2]
In the TEG region A2, as shown in FIG. 1C, a bank material layer 105A is disposed on the substrate 110 using the same material as the bank 105. On the surface of the bank material layer 105A, a plurality of grooves 101a to 101g having different volumes are arranged in parallel at predetermined intervals as evaluation elements. Each of the groove portions 101a to 101g has a rectangular opening shape when viewed from the direction in which the organic EL display panel 10 is viewed in plan, but is not limited to this shape, and may be a polygonal shape or a circular shape. Further, the groove portions 101a to 101g do not need to be adjacent to each other, and can be appropriately separated from each other. By using the same ink as the organic light emitting layer 106R at positions corresponding to the respective groove portions 101a to 101g, by dropping an equal amount of ink from the coating device by a wet process at the same time as the formation of the organic light emitting layer 106R, Ink layers 106a to 106g are formed. The ink layers corresponding to the groove portions of a certain volume or less (here, the ink layers 106a to 106d corresponding to the groove portions 101a to 101d) are dried and fixed while overflowing from the groove portions.

なおTEG領域A2の上方は透明な封止層109で直接覆われている。従って、各溝部に対応して形成されたインク層106a〜106gは、外部から基板表面を顕微鏡等で観察することで容易に視認できる。
ここで有機発光層106Rとインク層106a〜106dとは、同じインクを用いて同じ塗布装置で塗布して形成している。このため、各有機EL表示パネル10における溝部101a〜101gのうち、インクが溢れ出ている最大容積の溝部がどれかを外観検査すれば、有機発光層106Rのインクの塗布状態(例えば膜厚)を間接的に推測できる。図1(c)では、インク層106dが外観検査によって検出される例を示す。
The upper portion of the TEG region A2 is directly covered with a transparent sealing layer 109. Therefore, the ink layers 106a to 106g formed corresponding to each groove can be easily visually recognized by observing the substrate surface from the outside with a microscope or the like.
Here, the organic light emitting layer 106R and the ink layers 106a to 106d are formed by applying the same ink using the same application apparatus. For this reason, if the appearance of which of the groove portions 101a to 101g in each organic EL display panel 10 is the largest volume groove portion where ink is overflowing, the ink application state (for example, film thickness) of the organic light emitting layer 106R is checked. Can be estimated indirectly. FIG. 1C shows an example in which the ink layer 106d is detected by appearance inspection.

また、各ロット単位等で量産された複数の有機EL表示パネル10について、オペレータが順次上記外観検査をすれば、有機発光層106Rのインクの塗布状態の変動傾向を推測することもできる。
(塗布装置1000の全体構成)
次に、有機発光層106R、106G、106Bをウエットプロセスで形成する際に用いる塗布装置1000を説明する。
Further, if the operator sequentially inspects the appearance of the plurality of organic EL display panels 10 that are mass-produced in units of lots or the like, it is also possible to estimate the variation tendency of the ink application state of the organic light emitting layer 106R.
(Overall configuration of coating apparatus 1000)
Next, the coating apparatus 1000 used when forming the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B by a wet process will be described.

図2は、塗布装置1000の機能ブロック図である。塗布装置1000は、作業テーブル20と、インク吐出部30(第1インク吐出部30R、第2インク吐出部30G、第3インク吐出部30B)と、制御装置(PC)25とを備える。製造時に有機EL表示パネル10への異物混入を避けるため、作業テーブル20とインク吐出部30は公知の真空クラスタ内に設置して使用する。
[制御装置25]
制御装置25は、CPU250、記憶手段251(HDD等の大容量記憶手段を含む)、表示手段(ディスプレイ)253、入力手段252で構成される。制御装置25は具体的にはパーソナルコンピュータ(PC)である。
FIG. 2 is a functional block diagram of the coating apparatus 1000. The coating apparatus 1000 includes a work table 20, an ink discharge unit 30 (first ink discharge unit 30 </ b> R, second ink discharge unit 30 </ b> G, third ink discharge unit 30 </ b> B), and a control device (PC) 25. In order to avoid contamination of the organic EL display panel 10 during production, the work table 20 and the ink discharge unit 30 are installed in a known vacuum cluster.
[Control device 25]
The control device 25 includes a CPU 250, a storage unit 251 (including a large capacity storage unit such as an HDD), a display unit (display) 253, and an input unit 252. Specifically, the control device 25 is a personal computer (PC).

記憶手段251には、制御装置25に接続された作業テーブル20及びインク吐出部30を駆動するための制御プログラム等が格納される。塗布装置1000の駆動時には、CPU250は入力手段252を通じてオペレータにより入力された指示と、前記記憶手段251に格納された各制御プログラムに基づいて所定の制御を行う。
[作業テーブル20]
図3に、制御装置25を除く塗布装置1000の構成を示す。
The storage unit 251 stores a work table 20 connected to the control device 25, a control program for driving the ink ejection unit 30, and the like. When the coating apparatus 1000 is driven, the CPU 250 performs predetermined control based on an instruction input by the operator through the input unit 252 and each control program stored in the storage unit 251.
[Work Table 20]
FIG. 3 shows the configuration of the coating apparatus 1000 excluding the control device 25.

作業テーブル20はガントリー式であり、基台20と、基台20上面の四隅に立設されたスタンド201A、201B、202A、202Bと、基台20の中央に塗布対象基板を載置するためのステージSTとを備える。
スタンド201A、201B(202A、202B)には、基台200の長手(Y)方向に沿って、ガイドシャフト203A(203B)が平行に軸支される。ガイドシャフト203A(203B)にはリニアモータ部204、205が挿通される。このうち一対のリニアモータ部204、205上には、ステージSTを跨ぐようにガントリー部210が掛け渡されて搭載される。一対のリニアモータ部204、205はケーブルN1を介し、図2に示すモータ制御部213と接続される。モータ制御部213はリニアモータ部204、205を駆動制御する。一対のリニアモータ部204、205が同方向に等速で駆動されると、ガントリー部210がガイドシャフト203A、203Bの長手(X)方向にスライドする。
The work table 20 is a gantry type, and is used to place a base 20, stands 201 </ b> A, 201 </ b> B, 202 </ b> A, 202 </ b> B erected at the four corners of the upper surface of the base 20, and a substrate to be coated on the center of the base 20. And a stage ST.
A guide shaft 203A (203B) is pivotally supported in parallel along the longitudinal (Y) direction of the base 200 on the stands 201A and 201B (202A and 202B). Linear motor portions 204 and 205 are inserted through the guide shaft 203A (203B). Of these, the gantry unit 210 is mounted on the pair of linear motor units 204 and 205 so as to straddle the stage ST. The pair of linear motor units 204 and 205 are connected to the motor control unit 213 shown in FIG. 2 via the cable N 1 . The motor control unit 213 controls driving of the linear motor units 204 and 205. When the pair of linear motor units 204 and 205 are driven in the same direction at a constant speed, the gantry unit 210 slides in the longitudinal (X) direction of the guide shafts 203A and 203B.

ガントリー部210にはL字型の台座からなる固定部220が配設される。固定部220にはインク吐出部30の本体部302が装着される。
図2に示すように、モータ制御部213は制御装置25内のCPU250に接続される。塗布装置1000の駆動時には、CPU250が記憶手段251に格納された駆動制御プログラムに基づき、モータ制御部213を介してリニアモータ部204、205を駆動制御する。これによってインク吐出部30のインクジェットヘッド301R、301G、301Bと塗布対象基板との相対位置制御がなされる。
The gantry part 210 is provided with a fixing part 220 made of an L-shaped base. The main body 302 of the ink discharge unit 30 is attached to the fixed unit 220.
As shown in FIG. 2, the motor control unit 213 is connected to a CPU 250 in the control device 25. When driving the coating apparatus 1000, the CPU 250 drives and controls the linear motor units 204 and 205 via the motor control unit 213 based on the drive control program stored in the storage unit 251. Thereby, relative position control between the inkjet heads 301R, 301G, and 301B of the ink discharge unit 30 and the application target substrate is performed.

尚、ステージSTの横には、塗布直前にノズルからからインクを滴下させて状態を安定化させるインクパン(皿状容器)IPが配される。
[インク吐出部30]
インク吐出部30(第1インク吐出部30R、第2インク吐出部30G、第3インク吐出部30B)は、塗布装置1000において、RGB色毎に対応するように同様の構成を以て配されている。
An ink pan (dish-like container) IP that stabilizes the state by dripping ink from the nozzles immediately before application is disposed beside the stage ST.
[Ink ejection unit 30]
The ink ejection units 30 (the first ink ejection unit 30R, the second ink ejection unit 30G, and the third ink ejection unit 30B) are arranged with the same configuration in the coating apparatus 1000 so as to correspond to each RGB color.

第1インク吐出部30R、第2インク吐出部30G、第3インク吐出部30Bは、インクジェットヘッド301R、301G、301Bと、これに接続された吐出制御部300R、300G、300Bとを備える。
以下、第1インク吐出部30Rの構成を例に説明する。
インクジェットヘッド301Rは図4の断面図に示すように、圧電素子3010Rと、液室3020Rと、ノズル3030Rと、振動板3040Rとを有する。
The first ink discharge unit 30R, the second ink discharge unit 30G, and the third ink discharge unit 30B include inkjet heads 301R, 301G, and 301B, and discharge control units 300R, 300G, and 300B connected thereto.
Hereinafter, the configuration of the first ink discharge unit 30R will be described as an example.
As shown in the cross-sectional view of FIG. 4, the inkjet head 301R includes a piezoelectric element 3010R, a liquid chamber 3020R, a nozzle 3030R, and a vibration plate 3040R.

圧電素子3010Rはピエゾ素子であり、例えばチタン酸ジルコン酸鉛等からなる板状の圧電体3013を一対の電極3011、3012で挟設した積層体である。圧電素子3010Rは振動板3040Rの上に積層されて配される。
液室3020Rは、ノズル3030Rから滴下する直前のインクを貯留する空間である。液室3020R内のインクは、図3に示すようにインクジェットヘッド301Rに接続された輸液チューブN2によって外部から供給される。
The piezoelectric element 3010R is a piezoelectric element, for example, a laminated body in which a plate-like piezoelectric body 3013 made of lead zirconate titanate or the like is sandwiched between a pair of electrodes 3011 and 3012. The piezoelectric element 3010R is stacked and disposed on the vibration plate 3040R.
The liquid chamber 3020R is a space for storing ink immediately before dripping from the nozzle 3030R. The ink in the liquid chamber 3020R is supplied from the outside through an infusion tube N 2 connected to the inkjet head 301R as shown in FIG.

ノズル3030Rは極細ノズルであって、液室3020Rとともに筐体3050Rを放電加工して形成される。ノズル3030Rは上流側において液室3020Rと連通するように形成される。
振動板3040Rは、ステンレスやニッケルからなる薄板であり、液室3020Rの上部に配される。圧電素子3010Rの変形とともに変形することで、液室3020Rの体積が可逆的に減少又は復元可能に調節される。
The nozzle 3030R is an ultrafine nozzle, and is formed by subjecting the housing 3050R to electrical discharge machining together with the liquid chamber 3020R. The nozzle 3030R is formed to communicate with the liquid chamber 3020R on the upstream side.
The vibration plate 3040R is a thin plate made of stainless steel or nickel, and is disposed on the liquid chamber 3020R. By deforming together with the deformation of the piezoelectric element 3010R, the volume of the liquid chamber 3020R is adjusted to be reversibly reduced or restored.

インクジェットヘッド301Rは、上記した3010R〜3040Rの構成要素からなるインク吐出機構部304Rを複数備えている。インク吐出機構部304Rは、インクジェットヘッド301Rの長手方向に沿って一定間隔毎に複数(例えば数千個)にわたり単列をなして形成される。
吐出制御部300Rは、各圧電素子3010Rを個別に駆動するための駆動回路を備える。装置1000の駆動時には各圧電素子3010Rに対し、例えば数百Hzの周波数の波形電圧を印加することで圧電素子3010Rを変形させる。この変形に伴って振動板3040Rが振動し、液室3020Rの体積が減少または復元される。液室3020Rの体積減少時にノズル3030Rからインクが滴下される。電圧波形としては、例えば矩形パルス電圧を含む波形を利用できる。吐出制御部300Rから各圧電素子3010Rへの電圧印加のタイミングは、吐出制御部300Rから延長された通信ケーブルN3を介し、CPU250が記憶手段251に格納された所定の制御プログラムに基づいて吐出制御部300Rに指示することで調整される。
The inkjet head 301R is provided with a plurality of ink ejection mechanism portions 304R composed of the components 3010R to 3040R described above. The ink discharge mechanism 304R is formed in a single row over a plurality (for example, several thousand) at regular intervals along the longitudinal direction of the inkjet head 301R.
The discharge controller 300R includes a drive circuit for individually driving each piezoelectric element 3010R. When the device 1000 is driven, the piezoelectric element 3010R is deformed by applying a waveform voltage having a frequency of, for example, several hundred Hz to each piezoelectric element 3010R. With this deformation, the diaphragm 3040R vibrates, and the volume of the liquid chamber 3020R is reduced or restored. Ink is dropped from the nozzle 3030R when the volume of the liquid chamber 3020R is decreased. As the voltage waveform, for example, a waveform including a rectangular pulse voltage can be used. The timing of voltage application from the discharge control unit 300R to each piezoelectric element 3010R is controlled by the CPU 250 based on a predetermined control program stored in the storage unit 251 via the communication cable N 3 extended from the discharge control unit 300R. Adjustment is performed by instructing the unit 300R.

尚、図3の構成例では、3つの吐出制御部300R、300G、300Bは本体部302を筐体として収納され、固定部220に固定される。インクジェットヘッド301R、301G、301Bは一例として一体的に構成され、本体部302から垂下される。
また、作業テーブル20のステージSTに対するインクジェットヘッド301Rの角度を調節することで、塗布対象基板に対するノズル3030Rの相対的なピッチを調整できる。
In the configuration example of FIG. 3, the three discharge control units 300 </ b> R, 300 </ b> G, and 300 </ b> B are housed with the main body 302 as a housing and are fixed to the fixing unit 220. The inkjet heads 301 </ b> R, 301 </ b> G, and 301 </ b> B are integrally configured as an example and are suspended from the main body 302.
Further, by adjusting the angle of the inkjet head 301R with respect to the stage ST of the work table 20, the relative pitch of the nozzles 3030R with respect to the application target substrate can be adjusted.

また、インクジェットヘッド301Rのノズル3030Rの配列は上記した1列に限定されない。例えばノズル3030Rを複数列にわたって形成したり、複数列で且つ千鳥状にノズル3030Rを形成して、ノズル3030R同士のピッチを狭く調節することもできる。
(有機EL表示パネル10の基本的な製造プロセス)
次に、有機EL表示パネル10の基本的な製造プロセスを、図5の製造ステップ図、図6のパネル断面図、図7のウエットプロセス時の様子を示す図を用いて例示する。
Further, the arrangement of the nozzles 3030R of the inkjet head 301R is not limited to the above-described one row. For example, the nozzles 3030R can be formed over a plurality of rows, or the nozzles 3030R can be formed in a plurality of rows and in a staggered manner, and the pitch between the nozzles 3030R can be adjusted narrowly.
(Basic manufacturing process of organic EL display panel 10)
Next, a basic manufacturing process of the organic EL display panel 10 will be illustrated with reference to the manufacturing step diagram of FIG. 5, the panel cross-sectional view of FIG. 6, and the state of the wet process of FIG.

まず、オペレータが基板110を準備し(図5のS1)、基板110を不図示の真空クラスタ内に載置する。そして、基板110の上面に対し、真空蒸着法等を用いて陽極102、電極被覆層103、ホール注入層104を順次形成する(図5のS2、S3、S4、図6(a))。
続いて基板110の上面に、フォトリソグラフィ法に基づいてバンク105及びバンク材料層105Aを形成する。具体的には、まず基板110上に感光性レジスト層を配設する。感光性レジスト層の上に、基板上の発光領域A1の各開口部101R、101G、101Bの位置に対応する窓部と、TEG領域A2の溝部101a〜101gの位置に対応する窓部とを有するパターンマスクを配置する。この状態で紫外線照射を行い、未硬化の樹脂層を現像処理で除去することで、所定形状の開口部101R、101G、101B及び溝部101a〜101gを存在させるようにバンク105及びバンク材料層105Aを形成する(図5のS5)。パターンマスクについては、各開口部101R、101G、101Bが、Y方向を長辺、X方向を短辺とする形状を有し、且つ、各溝部101a〜101gが互いの容積を段階的に異ならせる形状となるように、窓部の形状を調整しておく。
First, the operator prepares the substrate 110 (S1 in FIG. 5), and places the substrate 110 in a vacuum cluster (not shown). Then, the anode 102, the electrode coating layer 103, and the hole injection layer 104 are sequentially formed on the upper surface of the substrate 110 by using a vacuum deposition method or the like (S2, S3, S4 in FIG. 5, FIG. 6A).
Subsequently, a bank 105 and a bank material layer 105A are formed on the upper surface of the substrate 110 based on a photolithography method. Specifically, a photosensitive resist layer is first disposed on the substrate 110. On the photosensitive resist layer, there are windows corresponding to the positions of the openings 101R, 101G, 101B of the light emitting area A1 on the substrate, and windows corresponding to the positions of the grooves 101a to 101g of the TEG area A2. Place a pattern mask. By irradiating with ultraviolet rays in this state and removing the uncured resin layer by development processing, the bank 105 and the bank material layer 105A are formed so that the openings 101R, 101G, and 101B and the grooves 101a to 101g having predetermined shapes exist. Form (S5 in FIG. 5). As for the pattern mask, each of the openings 101R, 101G, and 101B has a shape in which the Y direction is a long side and the X direction is a short side, and the grooves 101a to 101g have different volumes in stages. The shape of the window part is adjusted so as to obtain the shape.

次に、真空クラスタ内の処理室において、基板110上の各開口部101R、101G、101B及び溝部101a〜101gに対し、ウエットプロセスに基づき、塗布装置1000を用いて有機発光材料を含むインク液滴をそれぞれ滴下する(図5のS6)。ここで図7(a)は、塗布対象基板10Xに対して装置1000のインクジェットヘッド301RをX方向に走査し(いわゆる横打ち)、番号n1、n5〜n11、n15〜n21の各ノズル3030Rを用い、基板10X上の発光領域A1においてX方向に並列された2行のエリアMに位置する各開口部101Rにインク液滴を滴下させる様子を示す。バンク105のY方向ピッチを考慮して、番号n2、n3、n4、n12、n13、n14、n22のノズル3030Rは使用しない。インク液滴は、各開口部101R内の中心線Y1に沿って所定ピッチの位置に滴下する。 Next, in the processing chamber in the vacuum cluster, ink droplets containing an organic light emitting material are applied to each of the openings 101R, 101G, and 101B and the grooves 101a to 101g on the substrate 110 using a coating apparatus 1000 based on a wet process. Are respectively dropped (S6 in FIG. 5). Here, FIG. 7 (a) scans the inkjet target 301R of the apparatus 1000 in the X direction with respect to the substrate 10X to be coated (so-called horizontal strike), and the numbers n 1 , n 5 to n 11 , n 15 to n 21 . A state is shown in which each nozzle 3030R is used to drop an ink droplet into each opening 101R located in two rows of areas M arranged in parallel in the X direction in the light emitting region A1 on the substrate 10X. Considering the Y-direction pitch of the bank 105, the nozzle 3030R number n 2, n 3, n 4 , n 12, n 13, n 14, n 22 is not used. Ink drop is dropped to the position of a predetermined pitch along the center line Y 1 in the openings 101R.

図7(a)の例では、各開口部101R内に合計7個のノズル3030Rを対応させてインク液滴を複数滴下する例を示しているが、当然ながら使用ノズル数はこれ以外であってもよい。図7(a)では、短辺と長辺を有する長尺状の開口部101Rに対し、インクジェットヘッド301Rを行(X)方向に走査する、いわゆる横打ちを行う場合を示している。   In the example of FIG. 7A, an example is shown in which a plurality of ink droplets are dropped in association with a total of seven nozzles 3030R in each opening 101R, but naturally the number of nozzles used is other than this. Also good. FIG. 7A shows a case of performing so-called side-to-side scanning, in which the inkjet head 301R is scanned in the row (X) direction with respect to a long opening 101R having a short side and a long side.

また、図7(b)には、基板10X上のTEG領域A2においてX方向に並列された溝部101a〜101gに、インクジェットヘッド301Rのノズル番号n30〜n35の各ノズル3030Rより、赤色のインク液滴を均等量で滴下する様子を示す。図7(c)には、各溝部101a〜101gに対応する位置にインクを滴下し、インク溜まり部1060a〜1060gが形成された様子を示す。溝部101a〜101gへのインク塗布方法は各開口部101R、101G、101Bへのインク塗布方法と同様で実施できる。各溝部101a〜101gにインクを滴下した後、図7(c)の断面図に示すように、容積が小さい溝部(ここでは溝部101a〜101d)のインク溜まり部1060a〜1060dは周辺に若干溢れ出した状態となる。 Further, in FIG. 7 (b), in parallel with the groove 101a~101g in the X direction TEG region A2 on the substrate 10X, from the respective nozzles 3030R of the nozzle number n 30 ~n 35 of the ink jet head 301R, the red ink A mode that a droplet is dripped by equal quantity is shown. FIG. 7C shows a state in which ink is dropped at positions corresponding to the respective groove portions 101a to 101g to form ink reservoir portions 1060a to 1060g. The ink application method to the grooves 101a to 101g can be performed in the same manner as the ink application method to the openings 101R, 101G, and 101B. After the ink is dropped into the grooves 101a to 101g, the ink reservoirs 1060a to 1060d of the grooves having a small volume (here, the grooves 101a to 101d) slightly overflow to the periphery as shown in the sectional view of FIG. It will be in the state.

ウエットプロセスにより、インクを全ての開口部101R、101G、101B及び溝部101a〜101gに塗布した後は、ベーキング処理を実施するか、或いは室温状態で一定時間載置することにより、一括して各インクの溶媒を蒸発乾燥させる。これにより各有機発光層106R、106G、106Bが形成される(図6(a))。また、インク溜まり部1060a〜1060gも乾燥され、溝部101a〜101d内及びその周辺にインク層106a〜106gとなって残留する。   After the ink is applied to all the openings 101R, 101G, and 101B and the grooves 101a to 101g by the wet process, each ink is collectively collected by performing baking treatment or placing it at room temperature for a certain period of time. The solvent is evaporated to dryness. Thereby, the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B are formed (FIG. 6A). Further, the ink reservoirs 1060a to 1060g are also dried and remain as ink layers 106a to 106g in and around the grooves 101a to 101d.

その後、真空クラスタ内で陰極108の上面に封止層109を形成する(図5のS9)。
封止層109を形成した後のパネルは真空クラスタ内から搬出され、有機EL表示パネル10が得られる。
その後、真空クラスタ内で陰極108の上面に封止層109を形成する(図5のS9)。
Thereafter, the sealing layer 109 is formed on the upper surface of the cathode 108 in the vacuum cluster (S9 in FIG. 5).
The panel after forming the sealing layer 109 is carried out of the vacuum cluster, and the organic EL display panel 10 is obtained.
Thereafter, the sealing layer 109 is formed on the upper surface of the cathode 108 in the vacuum cluster (S9 in FIG. 5).

封止層109を形成した後のパネルは真空クラスタ内から搬出され、有機EL表示パネル10が得られる。
[有機EL表示パネル10の量産プロセス]
次に、実施の形態1の主たる特徴の一つである、複数の有機EL表示パネル10を順次製造する量産プロセス(以下、単に「量産プロセス」と称する。)について述べる。
The panel after forming the sealing layer 109 is carried out of the vacuum cluster, and the organic EL display panel 10 is obtained.
[Mass production process of organic EL display panel 10]
Next, a mass production process (hereinafter simply referred to as “mass production process”) for sequentially manufacturing a plurality of organic EL display panels 10, which is one of the main features of the first embodiment, will be described.

図8は、実施の形態1の量産プロセスを示す図である。
実施の形態1の量産プロセスは、順次製造した複数の有機EL表示パネル10の中から、オペレータが任意の1の有機EL表示パネル10を抜き取って外観検査S101を行い、その検出結果に基づいて、必要な場合に応じてインク量調整処理S102を実施する。その後、検出結果等について、データプロット管理S103を行う。以下、図8に基づいて量産プロセスを順に説明する。
(パネル量産S100)
まず、オペレータは上記した有機EL表示パネル10の基本的な製造方法に基づき、任意の複数(例えばロット単位等)の有機EL表示パネル10を製造する(S100)。製造した各有機ELパネル10は、真空クラスタから大気中に搬出してもよい。
(外観検査S101)
次に、オペレータは上記製造した複数の有機EL表示パネル10の中から、任意のパネル10をランダムに抜き取り、有機発光層106R、106G、106Bがウエットプロセスで適切に形成されているかを以下の方法で間接的に検査する。このときオペレータが抜き取る有機EL表示パネル10は一枚でよい。
FIG. 8 is a diagram illustrating a mass production process according to the first embodiment.
In the mass production process of the first embodiment, the operator pulls out one arbitrary organic EL display panel 10 from a plurality of sequentially manufactured organic EL display panels 10, and performs an appearance inspection S101. Based on the detection result, The ink amount adjustment process S102 is performed as necessary. Thereafter, the data plot management S103 is performed for the detection result and the like. Hereinafter, the mass production process will be described in order based on FIG.
(Panel mass production S100)
First, the operator manufactures a plurality of organic EL display panels 10 (for example, lot units) based on the above-described basic manufacturing method of the organic EL display panel 10 (S100). Each manufactured organic EL panel 10 may be carried out from the vacuum cluster to the atmosphere.
(Appearance inspection S101)
Next, the operator randomly extracts an arbitrary panel 10 from the plurality of organic EL display panels 10 manufactured as described above, and determines whether the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B are appropriately formed by a wet process as follows. Indirect inspection with. At this time, only one organic EL display panel 10 may be extracted by the operator.

ここで、発光領域A1の有機発光層106Rと、TEG領域A2の溝部101a〜101gに対応して形成されたインク層106a〜106gは、同じ塗布装置1000を用いたウエットプロセスにおいて、同時期に同基板110上に形成されたものである。従って、溝部101a〜101gに対応するインク層106a〜106gの塗布状態をチェックすれば、有機発光層106Rを形成するために滴下したインクの量(及び成膜後の膜厚)を推測することが可能である。   Here, the organic light emitting layer 106R in the light emitting region A1 and the ink layers 106a to 106g formed corresponding to the groove portions 101a to 101g in the TEG region A2 are the same in the wet process using the same coating apparatus 1000 at the same time. It is formed on the substrate 110. Therefore, if the application state of the ink layers 106a to 106g corresponding to the groove portions 101a to 101g is checked, the amount of ink dropped to form the organic light emitting layer 106R (and the film thickness after film formation) can be estimated. Is possible.

そこでオペレータは、顕微鏡等を用いて基板110上に形成されたTEG領域A2の内部を外観検査する(S101)。この外観検査では、透明な封止層109を通してTEG領域A2の内部を基板110の上面から良好に観察できる。具体的な検査として、オペレータはTEG領域A2の内部でインクが溢れ出ている最大容積の溝部を検出する。
この外観検査S101によれば、有機発光層106Rを形成するウエットプロセスにおいて、インクの塗布状態を調べるために従来のように真空クラスタ内に大掛かりな撮影装置を載置したり、専用モニタを用いて確認しなくても良い。また、真空クラスタからパネルを抜き取り、切断して有機発光層106Rの膜厚をAFMで確認するといった煩雑な手間も掛からない。よって、低コストで簡便に有機発光材料を含むインクの塗布状態を確認することができる。
Therefore, the operator inspects the inside of the TEG region A2 formed on the substrate 110 using a microscope or the like (S101). In this appearance inspection, the inside of the TEG region A2 can be satisfactorily observed from the upper surface of the substrate 110 through the transparent sealing layer 109. As a specific inspection, the operator detects the maximum volume of the groove where the ink overflows inside the TEG area A2.
According to this appearance inspection S101, in a wet process for forming the organic light emitting layer 106R, a large-scale imaging device is placed in a vacuum cluster as in the past in order to check the ink application state, or a dedicated monitor is used. There is no need to check. In addition, it does not take the trouble of taking out the panel from the vacuum cluster, cutting it, and confirming the film thickness of the organic light emitting layer 106R by AFM. Therefore, the application state of the ink containing the organic light emitting material can be confirmed easily at low cost.

なお、外観検査S101においてオペレータが検出できるインクの変動量は、およそ溝部101a〜101g間の容積差分の量であるが、各溝部101a〜101gの容積差を例えば数%刻みで細かく段階的に設定することによって、ある程度の小さなインク量の変動であっても検出することが可能である。
(インク量調整処理S102)
外観検査S101において、インクが溢れ出ている最大容積の溝部が、予め検査の合格基準として定められた特定範囲外の容積の溝部であることをオペレータが検出したとする。この場合、オペレータは有機発光層106Rに滴下されたインクの量が規定範囲外にあることを推測できる。
The amount of ink fluctuation that can be detected by the operator in the appearance inspection S101 is approximately the amount of volume difference between the groove portions 101a to 101g, but the volume difference between the groove portions 101a to 101g is set finely in steps of, for example, several percent. By doing so, it is possible to detect even a small variation in the amount of ink.
(Ink amount adjustment processing S102)
In the appearance inspection S101, it is assumed that the operator detects that the groove having the maximum volume overflowing with ink is a groove having a volume outside a specific range that is determined in advance as an acceptance criterion for the inspection. In this case, the operator can infer that the amount of ink dropped on the organic light emitting layer 106R is outside the specified range.

従ってオペレータは、この場合、次のロット単位の有機EL表示パネル10の製造に先立ち、有機発光層106Rの形成のために塗布装置1000より滴下する1滴当たりのインク量が設定通りの量になるように、インク量調整処理を実施する(S102)。
このインク量調整処理S102では、ノズル3030Rの整備またはインクの調整の少なくともいずれかを実施することによって、ノズル3030Rから滴下する1滴当たりのインク量が設定通りの量になるように調整する。
Therefore, in this case, prior to the manufacture of the organic EL display panel 10 in the next lot unit, the operator drops the ink amount per droplet dropped from the coating apparatus 1000 to form the organic light emitting layer 106R. In this way, the ink amount adjustment process is performed (S102).
In this ink amount adjustment process S102, at least one of maintenance of the nozzle 3030R and ink adjustment is performed, so that the ink amount per droplet dropped from the nozzle 3030R is adjusted to a set amount.

ノズル3030Rの整備方法としては、例えば各ノズル3030Rに対して、公知のパージ処理、フラッシング処理、ワイピング処理のいずれかを実施することが挙げられる。または吐出制御部300R〜300Bから各圧電素子3010Rへの印加電圧値を数%程度ずつ上昇させ、滴下するインク量を増やす処理が挙げられる。或いはインクジェットヘッド301Rが寿命を迎えている場合には、ヘッド交換を行うこともできる。   As a maintenance method of the nozzle 3030R, for example, any one of a known purge process, flushing process, and wiping process may be performed on each nozzle 3030R. Or the process which raises the applied voltage value to each piezoelectric element 3010R from the discharge control parts 300R-300B about several percent, and increases the amount of ink dripped is mentioned. Alternatively, when the inkjet head 301R has reached the end of its life, it is possible to replace the head.

一方、インクの調整方法としては、インク濃度、インク粘度、インク組成の少なくともいずれかを調整する方法が挙げられる。
なお、外観検査S101においてオペレータが基板110を観察した際、基板110の表面に対するインクの接触角が安定しておらず、基板110の表面の撥水性も変動していると思われる場合があり得る。この場合、オペレータはインク量調整処理S102におけるノズル3030Rの整備或いはインクの調整に加え、さらに例えば基板110上のバンク105の表面にUV照射を行うことで、表面の濡れ性を調整することもできる。
(データプロット管理S103)
上記のように、オペレータが外観検査S101及び必要に応じてインク量調整処理S102を実施したら、次にオペレータは外観検査S101で検出した、インクが溢れ出ている最大容積の溝部を外観検査S101の検査カウント数p(ここではロット単位毎に外観検査S101を行う場合を例示するため、検査カウント数はロットカウント数と同一値となる。)と関連付け、図10のようにチャートにプロットして記録する(S103)。
On the other hand, the ink adjustment method includes a method of adjusting at least one of ink density, ink viscosity, and ink composition.
Note that when the operator observes the substrate 110 in the appearance inspection S101, the contact angle of the ink with respect to the surface of the substrate 110 may not be stable, and the water repellency of the surface of the substrate 110 may vary. . In this case, the operator can adjust the surface wettability by performing UV irradiation on the surface of the bank 105 on the substrate 110, for example, in addition to the maintenance of the nozzle 3030R or the ink adjustment in the ink amount adjustment processing S102. .
(Data plot management S103)
As described above, when the operator performs the appearance inspection S101 and the ink amount adjustment processing S102 as necessary, the operator next detects the maximum volume groove in the appearance inspection S101 detected by the appearance inspection S101. Corresponding to the inspection count number p (here, in order to illustrate the case where the appearance inspection S101 is performed for each lot, the inspection count number is the same value as the lot count number), and plotted and recorded on the chart as shown in FIG. (S103).

ここで図10は、インクが溢れ出ている最大容積の溝部を、検査カウント数p1〜p15毎にデータプロットして累積記録したチャート例を示す。
このチャートでは、外観検査S101で予め検査の合格基準とする特定範囲を、有機EL表示パネル10の製品規格において許容される「規格範囲」としている。具体的にはインクが溢れ出ている最大容積の溝部がNo.3〜No.6(101c〜101f)の範囲としている。すなわち、外観検査S101にて検出した、インクが溢れ出ている最大容積の溝部が、図中の2本の一点鎖線の間に示す「規格範囲」の中に収まっていれば、有機EL表示パネル10の機能膜(ここでは有機発光層106R)の膜厚が許容範囲にあると判断できる。
Here, FIG. 10 shows an example of a chart in which the groove of the maximum volume overflowing with ink is plotted and recorded for each inspection count number p1 to p15.
In this chart, a specific range that is used as an acceptance criterion in advance in the appearance inspection S101 is a “standard range” that is allowed in the product standard of the organic EL display panel 10. Specifically, the maximum volume groove where ink overflows is No. 3-No. 6 (101c to 101f). In other words, if the maximum volume of the groove overflowing the ink detected in the appearance inspection S101 is within the “standard range” shown between the two dashed lines in the figure, the organic EL display panel It can be determined that the thickness of the ten functional films (here, the organic light emitting layer 106R) is within an allowable range.

例えば図9(b)のように、外観検査S101でオペレータが検出した溝部がNo.2の溝部101bであれば、オペレータはインク量調整処理S102を実施した後、チャート中の当該検査カウント数に対応したプロット位置に検出した溝部を記録する。尚、インク量調整処理S102を実行した場合、オペレータは、インク量調整処理S102を実行した旨(調整処理実行記録)も併せてチャートに累積記録する。調整処理実行記録は、例えば検出した溝部をチャートに記入する際、記入する記号をその他のプロットの記号と区別することで行える。図10の例では、検査カウント数p6、p12で記入した記号(黒丸表記)を、その他の検査カウント数で記入した記号(白丸表記)と区別し、検査カウント数p6、p12でインク量調整処理S102を実施したことを記録している。   For example, as shown in FIG. 9B, the groove detected by the operator in the appearance inspection S101 is No. In the case of the second groove portion 101b, the operator records the detected groove portion at the plot position corresponding to the inspection count number in the chart after performing the ink amount adjustment processing S102. When the ink amount adjustment process S102 is executed, the operator also records in the chart that the ink amount adjustment process S102 has been executed (adjustment process execution record). The adjustment process execution record can be performed by, for example, distinguishing the symbol to be entered from the symbols of other plots when the detected groove portion is entered in the chart. In the example of FIG. 10, the symbols entered with the inspection count numbers p6 and p12 (black circle notation) are distinguished from the symbols entered with the other inspection count numbers (white circle notation), and the ink amount adjustment processing is performed with the inspection count numbers p6 and p12. It records that S102 was executed.

尚、図9(a)の断面図に示すように、インクが溢れ出ている最大容積の溝部がNo.3の溝部101cであり、No.2(101b)、No.1(101a)、No.7(101g)のいずれの溝部にも該当しないことをオペレータが外観検査S101で検出した場合、インク量調整処理S102は不要である。オペレータはインク量調処理S102を省略し、外観検査S101の結果をチャート中に累積記録してデータプロット管理するだけでよい(S103)。   Incidentally, as shown in the cross-sectional view of FIG. No. 3 groove portion 101c. 2 (101b), no. 1 (101a), No. 1 7 (101g), if the operator detects in the appearance inspection S101 that it does not correspond to any of the grooves, the ink amount adjustment processing S102 is unnecessary. The operator only needs to omit the ink amount adjustment processing S102 and manage the data plot by accumulating the results of the appearance inspection S101 in the chart (S103).

このように、オペレータが外観検査S101毎に検出したインクが溢れ出ている最大容積の溝部を、各検査カウント数と関連づけてチャートに累積記録することで、オペレータがチャート中のプロット位置の推移を見れば、外観検査S101で検出される溝部の長期的な変動の傾向を把握することができる。インクが溢れ出ている最大容積の溝部の変動は、有機発光層106Rの膜厚の変動と共通していると考えられるため、検出される溝部の変動傾向を把握することによって、オペレータはあとどれ位の数の有機EL表示パネル10を製造すれば、有機発光層106Rの膜厚が許容範囲を超えてインク量調整処理S102が必要になるかを推測することができる。   In this way, the maximum volume of the groove that overflows the ink detected for each appearance inspection S101 by the operator is accumulated and recorded on the chart in association with each inspection count, so that the operator can change the plot position in the chart. If it sees, the tendency of the long-term fluctuation | variation of the groove part detected by external appearance inspection S101 can be grasped | ascertained. Since it is considered that the fluctuation of the maximum volume of the groove where ink overflows is common with the fluctuation of the film thickness of the organic light emitting layer 106R, the operator can determine which of the remaining fluctuations by grasping the variation tendency of the detected groove. If a number of organic EL display panels 10 are manufactured, it can be estimated whether the thickness of the organic light emitting layer 106R exceeds the allowable range and the ink amount adjustment processing S102 is necessary.

以上の各ステップを経ることで、量産プロセスが終了する。オペレータはこの量産プロセスS100〜S103を、任意の複数(ロット単位等)の有機EL表示パネル10を製造する際に繰り返し実施する。
[獲得した累積記録の活用]
上記方法に基づき、累積記録がなされたチャートをオペレータが見れば、チャート中の調整実行記録の位置によりインク量調整処理S102を実行したタイミングと、連続する調整実行記録間に存在する外観検査カウント数を把握できる。ロット単位等の一定枚数のパネル10を製造する毎に規則的に外観検査S101を行う場合、外観検査カウント数に基づいて、生産した有機EL表示パネル10の累積枚数を算出できる。
Through the above steps, the mass production process is completed. The operator repeatedly performs the mass production processes S100 to S103 when manufacturing a plurality of organic EL display panels 10 (such as lot units).
[Utilization of accumulated records acquired]
Based on the above method, if the operator views the chart on which the cumulative recording has been performed, the timing at which the ink amount adjustment processing S102 is executed according to the position of the adjustment execution record in the chart and the appearance inspection count number existing between successive adjustment execution records Can be grasped. When the appearance inspection S101 is regularly performed every time a certain number of panels 10 such as a lot are manufactured, the cumulative number of produced organic EL display panels 10 can be calculated based on the appearance inspection count.

ここで長期的には、量産プロセスにおいてインク量調整処理S102を実行するタイミングは、ほぼ一定になると考えられる。図10では、この一定期間を「調整処理実行周期T」として示している。
よってオペレータがチャート中の任意の位置において、先行する調整実行記録と、これに連続する次の調整実行記録までの外観検査カウント数を確認すれば、現在のパネル量産体制において、何枚の有機EL表示パネル10を製造する毎にインク量調整処理を実施すべきかについて、およその見当をつけることが可能である。
Here, in the long term, the timing of executing the ink amount adjustment processing S102 in the mass production process is considered to be substantially constant. In FIG. 10, this fixed period is shown as “adjustment process execution cycle T”.
Therefore, if the operator confirms the preceding adjustment execution record at the arbitrary position in the chart and the appearance inspection count number up to the next subsequent adjustment execution record, in the current panel mass production system, how many organic EL It is possible to give an approximate idea as to whether the ink amount adjustment processing should be performed every time the display panel 10 is manufactured.

従ってオペレータが前記チャートを獲得した後は、外観検査S101を行わなくても、順次製造した有機EL表示パネルの累積枚数が、チャートの中の任意の位置で先行する調整実行記録を行った後、次の調整実行記録を行うまでに製造した有機EL表示パネルの枚数に到達したときにインク量調整処理を実施するようにすれば、許容範囲の膜厚の有機発光層106Rを持つ有機EL表示パネル10を安定して成膜することができる。   Therefore, after the operator has acquired the chart, the cumulative number of organic EL display panels manufactured in order without performing the appearance inspection S101 has been recorded in advance as an adjustment execution record at an arbitrary position in the chart. If the ink amount adjustment process is performed when the number of organic EL display panels manufactured before the next adjustment execution recording is reached, an organic EL display panel having an organic light emitting layer 106R having a film thickness within an allowable range. 10 can be stably formed.

なお、より細やかなインク量調整処理を実行するため、例えば累積記録がなされたチャートにおいて、オペレータは最短の調整処理実行周期Tに合わせたタイミングでインク量調整処理を実行するようにしてもよい。この場合、インク量調整処理の実施回数は増えるが、一層、膜厚の有機発光層106Rを持つ有機EL表示パネル10を安定して製造できる。
(有機EL表示パネル10の各構成材料)
次に、有機EL表示パネル10を製造する場合の各構成要素の具体的材料を例示する。
[基板110の材料]
基板110は有機EL表示パネル10のベース部分であり、実施の形態2で示す絶縁性の基板本体の上に、TFT配線部(不図示)を形成して構成する。このため基板本体1011の材料としては、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料等が挙げられる。一方、TFT配線部は、有機EL素子100R、100G、100Bをアクティブマトリクス駆動方式で駆動するための配線(駆動TFT及びスイッチングTFT等の薄膜トランジスタ、電源線、信号線を含む配線)を有するように形成する。このため、金属材料及び絶縁材料等を用いる。尚、TFT配線部の表面には、不図示の層間絶縁膜(平坦化膜等)を形成するが、層間絶縁膜は絶縁材料を用いて形成できる。
[陽極102の材料]
陽極102の材料としては、アルミニウム、銀、クロム、ニッケル及びこれらの合金、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)からなる群より選ばれる少なくとも一つの材料が挙げられる。
In order to execute a finer ink amount adjustment process, for example, in a chart in which cumulative recording has been performed, the operator may execute the ink amount adjustment process at a timing that matches the shortest adjustment process execution cycle T. In this case, the number of executions of the ink amount adjustment process is increased, but the organic EL display panel 10 having the organic light emitting layer 106R having a film thickness can be stably manufactured.
(Each component material of the organic EL display panel 10)
Next, specific materials of each component when the organic EL display panel 10 is manufactured will be exemplified.
[Material of Substrate 110]
The substrate 110 is a base portion of the organic EL display panel 10 and is configured by forming a TFT wiring portion (not shown) on the insulating substrate body shown in the second embodiment. For this reason, examples of the material of the substrate body 1011 include alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, boric acid glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, and polyethylene. Insulating materials such as polyester, silicone resin, or alumina. On the other hand, the TFT wiring portion is formed so as to have wiring (wiring including a thin film transistor such as a driving TFT and a switching TFT, a power supply line, and a signal line) for driving the organic EL elements 100R, 100G, and 100B by an active matrix driving method. To do. For this reason, a metal material, an insulating material, or the like is used. Note that an interlayer insulating film (not shown) such as a planarization film is formed on the surface of the TFT wiring portion, but the interlayer insulating film can be formed using an insulating material.
[Material of anode 102]
Examples of the material of the anode 102 include at least one material selected from the group consisting of aluminum, silver, chromium, nickel, and alloys thereof, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO).

尚、陽極102の表面には公知の透明電極材料を用いて透明導電膜を設けることもできる。透明導電膜の材料としては、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛(IZO)が挙げられる。
[電極被覆層103の材料]
電極被覆層103の材料は、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)が挙げられる。
[ホール注入層104の材料]
ホール注入層104の材料としては、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物材料を例示できる。
A transparent conductive film can be provided on the surface of the anode 102 using a known transparent electrode material. Examples of the material for the transparent conductive film include indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).
[Material of electrode coating layer 103]
Examples of the material of the electrode coating layer 103 include ITO (indium tin oxide).
[Material of hole injection layer 104]
Examples of the material of the hole injection layer 104 include oxide materials such as silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr), vanadium (V), tungsten (W), nickel (Ni), and iridium (Ir). Can be illustrated.

尚、ホール注入層104の材料は、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)なども挙げられる。
尚、ホール注入層104と有機発光層106R、106G、106Bの間にホール輸送層を形成してもよい。
[バンク105の材料]
バンク105の材料は特に限定されないが、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)が好適である。製造時にエッチング処理およびベーク処理などが施されるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などを生じない耐性の高い材料であることが好ましい。また表面に撥水性を持たせるため、フッ素処理を施すこともできる。
[有機発光層106R、106G、106Bの材料]
具体的な発光性の有機材料としては、例えば、特開平5−163488号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質を挙げることができる。
[電子輸送層107の材料]
電子輸送層107の材料としては、陰極108から注入された電子を効率よく有機発光層106R、106G、106Bへ輸送する機能を有する材料を用いる。例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、あるいはこれらの組み合わせで形成することが好ましい。
[陰極108の材料]
陰極(第2電極)108の材料としては、例えば、ITO、IZO(酸化インジウム亜鉛)などが挙げられる。トップエミッション型の有機EL表示パネル10の場合においては、光透過性の材料が好ましい。光透過性については、透過率が80[%]以上とすることが好ましい。
[封止層109の材料]
封止層109の材料としては、有機発光層106などが水分や空気に晒されるのを抑制する機能を有する材料を用いる。例えば、SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)などの材料が挙げられる。トップエミッション型の有機EL表示パネル10では、光透過性材料が好ましい。
<その他の事項>
上記実施の形態では、オペレータが外観検査S101を実施する際、インクの塗布状態の変動の原因までを詳細に特定することは困難である。しかしながら外観検査S101を行うことで、少なくともインクの塗布状態が特定範囲外まで変動した設備状態のまま、次のロットでウエットプロセスを実施してしまう問題を回避できる。このため、ウエットプロセスで生じる問題を早期に検出し、規格範囲に適合する有機EL表示パネル10を歩留まり良く製造できるという利点がある。
Examples of the material for the hole injection layer 104 include PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid).
A hole transport layer may be formed between the hole injection layer 104 and the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B.
[Material of bank 105]
The material of the bank 105 is not particularly limited, but an insulating organic material (for example, an acrylic resin, a polyimide resin, a novolac type phenol resin, or the like) is preferable. Since an etching process, a baking process, etc. are performed at the time of manufacture, it is preferable that it is a highly resistant material which does not produce an excessive deformation | transformation and a quality change with respect to those processes. Moreover, in order to give the surface water repellency, fluorine treatment can also be performed.
[Materials of organic light emitting layers 106R, 106G, 106B]
Specific examples of the light-emitting organic material include, for example, oxinoid compounds, perylene compounds, coumarin compounds, azacoumarin compounds, oxazole compounds, oxadiazole compounds, perinone compounds, pyrrolopyrrole compounds described in JP-A-5-163488, Naphthalene compounds, anthracene compounds, fluorene compounds, fluoranthene compounds, tetracene compounds, pyrene compounds, coronene compounds, quinolone compounds and azaquinolone compounds, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, rhodamine compounds, chrysene compounds, phenanthrene compounds, cyclopentadiene compounds, stilbene compounds, diphenyl Quinone compounds, styryl compounds, butadiene compounds, dicyanomethylenepyran compounds, dicyanomethylenethiopyran compounds, fluoresceins Compounds, pyrylium compounds, thiapyrylium compounds, serenapyrylium compounds, telluropyrylium compounds, aromatic ardadiene compounds, oligophenylene compounds, thioxanthene compounds, anthracene compounds, cyanine compounds, acridine compounds, 8-hydroxyquinoline compound metal complexes, 2- Fluorescent materials such as metal complexes of bipyridine compounds, complexes of Schiff salts with Group III metals, oxine metal complexes, and rare earth complexes can be given.
[Material of Electron Transport Layer 107]
As a material of the electron transport layer 107, a material having a function of efficiently transporting electrons injected from the cathode 108 to the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B is used. For example, it is preferable to form with barium, phthalocyanine, lithium fluoride, or a combination thereof.
[Material of cathode 108]
Examples of the material of the cathode (second electrode) 108 include ITO and IZO (indium zinc oxide). In the case of the top emission type organic EL display panel 10, a light transmissive material is preferable. About light transmittance, it is preferable that the transmittance | permeability shall be 80 [%] or more.
[Material of Sealing Layer 109]
As a material of the sealing layer 109, a material having a function of suppressing exposure of the organic light emitting layer 106 and the like to moisture and air is used. Examples thereof include materials such as SiN (silicon nitride) and SiON (silicon oxynitride). In the top emission type organic EL display panel 10, a light transmissive material is preferable.
<Other matters>
In the above embodiment, it is difficult for the operator to specify in detail the cause of the variation in the ink application state when performing the appearance inspection S101. However, by performing the appearance inspection S101, it is possible to avoid the problem that the wet process is performed in the next lot with at least the equipment state in which the ink application state fluctuates outside the specific range. For this reason, there is an advantage that a problem occurring in the wet process can be detected at an early stage, and the organic EL display panel 10 conforming to the standard range can be manufactured with a high yield.

本発明のデバイスの製造方法を有機EL表示パネルの製造方法に適用する場合は、当然ながら有機発光層の製造のみならず、正孔注入層や正孔輸送層等、ウエットプロセスにて材料を塗布する工程を持つ、その他の機能膜の製造にも適用することが可能である。
実施の形態1では、TEG領域A2の各溝部に有機発光層106Rの形成に用いる赤色インクを滴下したが、有機発光層106Gの形成に用いる緑色インク、または有機発光層106Bの形成に用いる青色のインクを滴下してもよい。或いは、RGB各色に対応する3つのTEG領域A2を設け、各領域内の溝部に個別の色のインクを滴下してもよい。このように各色のTEG領域A2に対してインクを塗布すれば、外観検査の結果に応じ、インクジェットヘッド30R、30G、30Bに対して個別にインク量調整処理を実行でき、より細やかなインク量調整処理を実現できる。この場合、色毎のTEG領域A2の外観結果について、チャートを用いたデータプロット管理(図10)を実施することが望ましい。
When the device manufacturing method of the present invention is applied to a method for manufacturing an organic EL display panel, it is a matter of course that not only the organic light emitting layer is manufactured, but also materials such as a hole injection layer and a hole transport layer are applied by a wet process. It is also possible to apply to the production of other functional films having the process of:
In Embodiment 1, the red ink used for forming the organic light emitting layer 106R is dropped into each groove portion of the TEG region A2, but the green ink used for forming the organic light emitting layer 106G or the blue ink used for forming the organic light emitting layer 106B is used. Ink may be dropped. Alternatively, three TEG regions A2 corresponding to the respective RGB colors may be provided, and inks of individual colors may be dropped on the grooves in each region. If ink is applied to the TEG region A2 of each color in this way, the ink amount adjustment processing can be individually performed on the inkjet heads 30R, 30G, and 30B according to the result of the appearance inspection, and finer ink amount adjustment is performed. Processing can be realized. In this case, it is desirable to perform data plot management (FIG. 10) using a chart for the appearance result of the TEG area A2 for each color.

本発明のデバイスの製造方法においては、有機EL表示パネル10に発光領域A1のみを形成し、外観検査のモニター用基板にTEG領域A2のみを形成することもできる。しかしながら、基板毎の機能膜の塗布状態を細かく把握する観点からは、同一の基板上に発光領域A1とTEG領域A2とを併せて形成し、同時期にウエットプロセスを実施することが望ましいと考えられる。   In the device manufacturing method of the present invention, only the light emitting region A1 can be formed on the organic EL display panel 10, and only the TEG region A2 can be formed on the monitor substrate for visual inspection. However, from the viewpoint of finely grasping the application state of the functional film for each substrate, it is desirable to form the light emitting region A1 and the TEG region A2 together on the same substrate and to perform the wet process at the same time. It is done.

上記した製造プロセスでは真空クラスタを使用したが、これは必須ではなく、省略することもできる。
有機EL表示パネル10では、有機発光層106R、106G、106Bの下方に陽極102、有機発光層106R、106G、106Bの上方に陰極108を配設したが、本発明はこの構成に限定されない。例えば陽極102と陰極108の位置を逆に配設することもできる。陽極102と陰極108の位置を逆に配設する構成でトップエミッション型とする場合、陰極108を反射電極層とし、陽極102を透明電極層とする必要がある。
In the manufacturing process described above, a vacuum cluster is used, but this is not essential and can be omitted.
In the organic EL display panel 10, the anode 102 is disposed below the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B, and the cathode 108 is disposed above the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, the positions of the anode 102 and the cathode 108 can be reversed. In the case of a top emission type in which the positions of the anode 102 and the cathode 108 are reversed, it is necessary to use the cathode 108 as a reflective electrode layer and the anode 102 as a transparent electrode layer.

また上記実施の形態1では、RGB各発光色に対応する各有機発光層106R、106G、106Bを形成したが、有機EL表示パネル10上にはRGB以外の組み合わせの各色や、単色発光型の有機発光層を形成してもよい。
実施の形態1では、インク吐出部30をX方向に走査する、いわゆる横打ちを行う例を示したが、ステージSTに対して塗布対象基板10Xを直角に回転させて配置することにより、インク吐出部30を開口部101R、101G、101Bの長手方向に走査する、縦打ちを行ってもよい。
In the first embodiment, each of the organic light emitting layers 106R, 106G, and 106B corresponding to each of the RGB emission colors is formed. However, on the organic EL display panel 10, each color of a combination other than RGB or a single color emission type organic A light emitting layer may be formed.
In the first embodiment, an example in which the so-called horizontal strike is performed in which the ink ejection unit 30 is scanned in the X direction is shown. However, the ink ejection is performed by rotating the coating target substrate 10X at a right angle with respect to the stage ST. You may perform the vertical strike which scans the part 30 to the longitudinal direction of opening part 101R, 101G, 101B.

また実施の形態1では、複数の溝に均等量のインクを滴下する例を示したが、本発明はこれに限定されず、例えば溝部101a〜101dにはインク液滴を10滴分滴下し、溝部101e〜101gにはインク液滴を5滴分滴下するなど、溝部に滴下するインクの量を変化させることもできる。
また実施の形態1では、インク量調整ステップにおいて、1滴あたりのインク量を調整するものとしたが、これに限定されず、滴下するインク量の全体量を調整したり、滴下するインクの液滴数を調整することも可能である。
In the first embodiment, an example in which an equal amount of ink is dropped into a plurality of grooves has been described. However, the present invention is not limited to this, and for example, 10 drops of ink droplets are dropped into the grooves 101a to 101d. It is also possible to change the amount of ink dropped into the groove portions, such as dropping five ink droplets into the groove portions 101e to 101g.
In the first embodiment, the ink amount per droplet is adjusted in the ink amount adjusting step. However, the present invention is not limited to this, and the total amount of ink to be dropped is adjusted, or the liquid of the dropped ink is used. It is also possible to adjust the number of drops.

本発明は、例えば家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等として用いられる有機EL表示パネルの製造方等に好適に利用可能である。   The present invention can be suitably used for, for example, a method of manufacturing an organic EL display panel used as a home or public facility, or various display devices for business use, television devices, displays for portable electronic devices, and the like.

A1 第2領域(発光領域)
A2 第1領域(TEG領域)
IP インクパン
ST ステージ
10 有機EL表示パネル
10X 塗布対象基板
20 作業テーブル
25 制御部
30(30R、30G、30B) インク吐出部
100R、100G、100B 有機EL素子
110 TFT基板
101R、101G、101B 開口部
101a〜101g 溝部
102 陽極(第1電極)
103、103B 電極被覆層
104 ホール注入層
105 バンク(隔壁)
105A バンク材料層
106R、106G、106B 有機発光層
106a〜106d インク層
107 電子注入層
108 陰極(第2電極)
109 封止層
204、205 リニアモータ部
210 ガントリー部
213 モータ制御部
220 固定部
250 CPU
251 記憶手段
252 入力手段
253 表示手段
300R、300G、300B 吐出制御部
301R、301G、301B インクジェットヘッド
1000 塗布装置(インクジェット装置)
1060a〜1060g インク溜まり部
3010R 圧電素子
3030R、3030G、3030B ノズル
A1 second area (light emitting area)
A2 1st area (TEG area)
IP ink pan ST stage 10 organic EL display panel 10X substrate to be coated 20 work table 25 control unit 30 (30R, 30G, 30B) ink discharge unit 100R, 100G, 100B organic EL element 110 TFT substrate 101R, 101G, 101B opening 101a 101 g Groove 102 Anode (first electrode)
103, 103B Electrode coating layer 104 Hole injection layer 105 Bank (partition)
105A Bank material layer 106R, 106G, 106B Organic light emitting layer 106a-106d Ink layer 107 Electron injection layer 108 Cathode (second electrode)
109 Sealing layer 204, 205 Linear motor part 210 Gantry part 213 Motor control part 220 Fixed part 250 CPU
251 Storage unit 252 Input unit 253 Display unit 300R, 300G, 300B Discharge control unit 301R, 301G, 301B Inkjet head 1000 Coating device (inkjet device)
1060a to 1060g Ink reservoir 3010R Piezoelectric element 3030R, 3030G, 3030B Nozzle

Claims (33)

容積が異なる複数の溝部が存在する第1領域を有する基板に対し、1以上のノズルを有する塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記各溝部にンクを滴下する第1滴下ステップと、
前記第1滴下ステップの後、前記基板の前記第1領域を外観検査することにより、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている溝部を検出する外観検査ステップと、
前記外観検査ステップでの検出結果に基づき、前記塗布装置より滴下するインク量を調整するインク量調整ステップとを有する
有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
To the substrate having a first region where there are a plurality of grooves volume are different, and the first dropping step of using a coating apparatus having one or more nozzles, dropping the i ink to the respective grooves from one of the nozzles,
After the first dripping step, an appearance inspection step of detecting a groove portion in which the ink overflows among the plurality of groove portions by visually inspecting the first region of the substrate;
An ink amount adjusting step for adjusting the amount of ink dropped from the coating device based on the detection result in the appearance inspection step.
A method for producing an organic light emitting layer in an organic EL display panel .
前記第1滴下ステップでは、前記各溝部に前記インクを均等量で滴下する
請求項1に記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for manufacturing an organic light emitting layer in the organic EL display panel according to claim 1, wherein in the first dropping step, the ink is dropped into each groove portion in an equal amount.
前記インク量調整ステップでは、前記基板に滴下する1滴当たりのインク量を調整する
請求項1または2に記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for producing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 1, wherein in the ink amount adjustment step, an ink amount per droplet dropped on the substrate is adjusted.
前記インク量調整ステップでは、前記基板に滴下するインクの液滴数を調整する
請求項1または2に記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for producing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 1, wherein in the ink amount adjustment step, the number of ink droplets dropped on the substrate is adjusted.
前記外観検査ステップで、前記検出した前記溝部が一定範囲外の容積である場合に、前記インク量調整ステップを実施する
請求項1〜4のいずれかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
5. The organic light emitting layer in the organic EL display panel according to claim 1, wherein the ink amount adjustment step is performed when the detected groove portion has a volume outside a certain range in the appearance inspection step. Production method.
前記インク量調整ステップでは、前記ノズルの整備または交換、或いはインク特性の調整の少なくともいずれかを実施する
請求項1〜5のいずれかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for manufacturing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 1, wherein at least one of maintenance or replacement of the nozzles and adjustment of ink characteristics is performed in the ink amount adjustment step.
前記ノズルの整備は、パージ処理、フラッシング処理、ワイピング処理のいずれかである
請求項6に記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for producing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 6, wherein the maintenance of the nozzle is any one of a purge process, a flushing process, and a wiping process.
前記複数の溝部は、互いに深さが同じで幅が異なる形状である
請求項1〜7のいずれかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for manufacturing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 1, wherein the plurality of groove portions have the same depth and different widths.
前記第1滴下ステップでは、前記各溝部の内部に複数の液滴を滴下する
請求項1〜8のいずれかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for manufacturing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 1, wherein in the first dropping step, a plurality of droplets are dropped inside each groove.
前記基板は、前記第1領域以外の領域であって機能膜が形成される第2領域を有し、
前記外観検査ステップ前に、前記ノズルのいずれかより前記第2領域に機能膜材料を含むインクを滴下する第2滴下ステップを有する
請求項1〜9のいずれかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The substrate has a second region other than the first region and in which a functional film is formed,
The organic in the organic EL display panel according to claim 1, further comprising a second dropping step of dropping ink containing a functional film material into the second region from any of the nozzles before the appearance inspection step. Manufacturing method of light emitting layer .
前記外観検査ステップは、前記第2領域及び前記第1領域に滴下した前記インクの乾燥後に行う
請求項10に記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method of manufacturing an organic light emitting layer in the organic EL display panel according to claim 10, wherein the appearance inspection step is performed after drying the ink dropped on the second region and the first region.
前記外観検査ステップでは、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を検出する
請求項1〜11のいずれかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
The method for manufacturing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 1, wherein in the appearance inspection step, a groove having a maximum volume in which the ink overflows is detected among the plurality of grooves.
前記外観検査ステップ後に、当該外観検査ステップにおいて検出した、前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を記録する溝部記録ステップを経る
請求項12に記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
13. The method for producing an organic light emitting layer in an organic EL display panel according to claim 12, wherein after the appearance inspection step, a groove recording step for recording the maximum volume groove in which the ink overflows is detected in the appearance inspection step. .
記各インク量調整ステップの後に、当該各インク量調整ステップの実行記録を累積的に行う調整記録ステップを有する
請求項10〜13の何れかに記載の有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
After the previous SL each ink amount adjusting step, with an adjustment recording step of executing recording of each of the ink amount adjusting step cumulatively
The manufacturing method of the organic light emitting layer in the organic electroluminescence display panel in any one of Claims 10-13 .
請求項14に記載の前記累積的に記録した実行記録を用いる有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法であって、
前記塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記機能膜材料を含むインクを複数の前記基板の前記第2領域に順次滴下し、前記インクを乾燥させることにより、前記各基板上に前記機能膜を成膜する成膜ステップと、
先行する実行記録の後、これに連続する次の実行記録までの間に製造された前記基板数に、前記成膜ステップで前記機能膜を成膜した基板数が到達した場合、
前記塗布装置より滴下するインク量を調整する整備ステップを実施する
有機EL表示パネルにおける有機発光層の製造方法。
A method for manufacturing an organic light emitting layer in an organic EL display panel using the cumulatively recorded execution record according to claim 14 ,
Using the coating device, ink containing the functional film material is sequentially dropped onto the second regions of the plurality of substrates from any of the nozzles, and the ink is dried, whereby the functional film is formed on each substrate. A film forming step for forming a film;
When the number of substrates on which the functional film is formed in the film forming step reaches the number of substrates manufactured between the previous execution record and the next continuous execution record,
A maintenance step for adjusting the amount of ink dropped from the coating device is performed.
A method for producing an organic light emitting layer in an organic EL display panel .
基板の第2領域の上方に、複数の第1電極を形成する第1ステップと、
前記各第1電極の上方において、互いに交差する2方向に複数の開口部を存在させ、且つ、前記基板の第1領域に容積が異なる複数の溝部を存在させるように隔壁を形成する第2ステップと、
前記各開口部に対し、1以上のノズルを有する塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより有機発光材料を含むインクを滴下する第3ステップと、
前記各溝部に対し、前記ノズルのいずれかより前記インクを滴下する第4ステップと、
前記第3ステップ及び前記第4ステップを実施した後、前記基板の上方に第2電極を形成する第5ステップと、
前記第1領域の前記各溝部に滴下されたインクの塗布状態を前記基板上から外観検査し、インクが溢れ出ている溝部を検出する第6ステップと、
前記第6ステップでの検出結果に基づき、前記塗布装置より滴下するインク量を調整する第7ステップとを有する
有機EL表示パネルの製造方法。
A first step of forming a plurality of first electrodes above a second region of the substrate;
A second step of forming a partition so as to have a plurality of openings in two directions intersecting each other above each first electrode and to have a plurality of grooves having different volumes in the first region of the substrate. When,
A third step of dropping an ink containing an organic light-emitting material from any of the nozzles using a coating apparatus having one or more nozzles for each opening;
A fourth step of dropping the ink from any of the nozzles to each groove;
A fifth step of forming a second electrode over the substrate after performing the third step and the fourth step;
A sixth step of inspecting the appearance of application of the ink dropped on each groove in the first region from the substrate and detecting a groove overflowing with ink;
And a seventh step of adjusting the amount of ink dropped from the coating apparatus based on the detection result in the sixth step.
前記第7ステップでは、前記各溝部に前記インクを均等量で滴下する
請求項16に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 16 , wherein in the seventh step, the ink is dropped into each groove portion in an equal amount.
前記第7ステップでは、前記基板に滴下する1滴当たりのインク量を調整する
請求項16または17に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
18. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 16 , wherein, in the seventh step, the amount of ink per droplet dropped on the substrate is adjusted.
前記第7ステップでは、前記基板に滴下するインクの液滴数を調整する
請求項16または17に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 16 , wherein in the seventh step, the number of ink droplets dropped on the substrate is adjusted.
前記第6ステップで、前記検出した前記溝部が一定範囲外の容積である場合に、前記第7ステップを実施する
請求項16〜19のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 16 , wherein, in the sixth step, the seventh step is performed when the detected groove portion has a volume outside a certain range.
前記第6ステップでは、前記ノズルの整備または交換、或いはインク特性の調整の少なくともいずれかを実施する
請求項16〜20のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。
21. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 16 , wherein at least one of maintenance or replacement of the nozzles and adjustment of ink characteristics is performed in the sixth step.
前記ノズルの整備は、パージ処理、フラッシング処理、ワイピング処理のいずれかである請求項21に記載の有機EL表示パネルの製造方法。 The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 21 , wherein the maintenance of the nozzle is any one of a purge process, a flushing process, and a wiping process. 前記複数の溝部は、互いに深さが同じで幅が異なる形状である
請求項16〜22のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method for manufacturing an organic EL display panel according to any one of claims 16 to 22 , wherein the plurality of groove portions have the same depth and different widths.
前記第4ステップでは、前記各溝部の内部に複数の液滴を滴下する
請求項16〜23のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method for manufacturing an organic EL display panel according to any one of claims 16 to 23 , wherein in the fourth step, a plurality of liquid droplets are dropped inside each groove portion.
前記第6ステップは、前記第1領域及び前記第2領域に滴下した前記インクの乾燥後に行う
請求項16〜24のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to any one of claims 16 to 24 , wherein the sixth step is performed after drying the ink dropped on the first region and the second region.
前記第6ステップでは、前記複数の溝部のうち前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を検出する
請求項16〜25のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to any one of claims 16 to 25 , wherein in the sixth step, a groove having the maximum volume in which the ink overflows is detected among the plurality of grooves.
前記第6ステップ後に、当該第6ステップにおいて検出した、前記インクが溢れ出ている最大容積の溝部を記録する第8ステップを経る
請求項26に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
27. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 26 , wherein after the sixth step, an eighth step of recording the maximum volume groove portion in which the ink overflows detected in the sixth step is performed.
複数の有機EL表示パネルを順次製造する方法であって、
前記有機EL表示パネル中の少なくとも任意の一の有機EL表示パネルの製造プロセスが、請求項16〜27のいずれかに記載の前記第1〜第7ステップを有する
有機EL表示パネルの製造方法。
A method of sequentially manufacturing a plurality of organic EL display panels,
28. The method of manufacturing an organic EL display panel according to any one of claims 16 to 27 , wherein a manufacturing process of at least one organic EL display panel in the organic EL display panel includes the first to seventh steps.
請求項28に記載の有機EL表示パネルの製造方法を繰り返し実施し、
前記各第7ステップの後に、当該各第7ステップの実行記録を累積的に行う第9ステップを有する
有機EL表示パネルの製造方法。
The organic EL display panel manufacturing method according to claim 28 is repeatedly performed,
A method of manufacturing an organic EL display panel, comprising: a ninth step for cumulatively recording the execution of the seventh steps after the seventh steps.
請求項29に記載の前記累積的に記録した実行記録を用いる有機EL表示パネルの製造方法であって、
前記塗布装置を用い、前記ノズルのいずれかより前記有機発光材料を含むインクを複数の前記基板の前記第2領域に順次滴下し、前記インクを乾燥させることにより、前記各基板上に前記有機発光層を成膜する第10ステップと、
先行する実行記録の後、これに連続する次の実行記録までの間に製造された基板数に、前記第10ステップで前記有機発光層を成膜した基板数が到達した場合、
前記塗布装置より滴下するインク量を調整する第11ステップを実施する
有機EL表示パネルの製造方法。
A method of manufacturing an organic EL display panel using the cumulatively recorded execution record according to claim 29 ,
By using the coating device, ink containing the organic light emitting material is sequentially dropped onto the second regions of the plurality of substrates from any of the nozzles, and the ink is dried, so that the organic light emission is formed on each substrate. A tenth step of depositing a layer;
When the number of substrates on which the organic light-emitting layer is formed in the tenth step reaches the number of substrates manufactured between the previous execution record and the next subsequent execution record,
A method for manufacturing an organic EL display panel, wherein the eleventh step of adjusting the amount of ink dripped from the coating device is performed.
基板と、
前記基板の上方の表示領域において、互いに交差する第1方向及び第2方向に沿って配設された複数の第1電極と、
前記基板上の前記各第1電極の位置に対応して開口部を存在させ、且つ前記基板上の評価用素子領域において容積が異なる複数の溝部を存在させるように形成された隔壁と、
前記各第1電極の上方において、前記開口部の内部に有機発光材料を含むインクを塗布して形成された各有機発光層と、
各有機発光層の上方にわたって形成された第2電極と、
前記第2電極の上方より、前記評価用素子領域を外部から視認可能な状態で被覆するように形成された透明な封止層とを有し、
前記評価用素子領域は、前記各第1電極の上方に形成された前記各有機発光層におけるインク塗布を評価するための領域であり、前記表示領域の周辺に設けられ、
前記評価用素子領域の前記各溝部に対応する位置には、前記各溝部の内部に前記インクを滴下してなるインク層がそれぞれ形成され、一定容積以下の前記各溝部に対応する位置の前記インク層が前記溝部より溢れ出ている
有機EL表示パネル。
A substrate,
A plurality of first electrodes disposed along a first direction and a second direction intersecting each other in a display region above the substrate;
A partition formed so as to have an opening corresponding to the position of each of the first electrodes on the substrate and a plurality of grooves having different volumes in the evaluation element region on the substrate;
Above each first electrode, each organic light emitting layer formed by applying an ink containing an organic light emitting material inside the opening, and
A second electrode formed over each organic light emitting layer;
A transparent sealing layer formed so as to cover the evaluation element region in a state visible from the outside from above the second electrode;
The evaluation element region is a region for evaluating ink application in each organic light emitting layer formed above each first electrode, and is provided around the display region.
An ink layer formed by dropping the ink inside each groove is formed at a position corresponding to each groove in the evaluation element region , and the ink at a position corresponding to each groove having a predetermined volume or less. An organic EL display panel in which a layer overflows from the groove.
前記複数の溝部は、互いに深さが同じで幅が異なる形状である
請求項31に有機EL表示パネル。
The organic EL display panel according to Claim 31 , wherein the plurality of groove portions have the same depth and different widths.
前記インク層は、前記各溝部に対し、前記インクの複数の液滴を滴下してなる
請求項31または32に記載の有機EL表示パネル。
The organic EL display panel according to claim 31 , wherein the ink layer is formed by dropping a plurality of droplets of the ink into the groove portions.
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