JP5966250B2 - 基板支持治具 - Google Patents
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Description
前記支持基板の表面に凹凸が形成されていることが望ましい。
さらに、前記基板が磁気記録媒体用基板、半導体プロセス用フォトマスク基板、半導体基板、ディスプレイ用基板のいずれかの基板とすることができる。
基板およびこの基板に直接接触して支持および保持する支持板表面の接触角(純水に対する)は小さいことが望ましい。特に支持板表面を超親水性(接触角θ<15度)の状態にすることにより、液体から基板を引き上げたときに基板に残る液滴残渣を従来の乾燥方法よりもさらに低減させ、実質的に無くすことができることを見出してなされたものである。
本発明にかかる実験例1用の支持板として、アルミニウム合金の表面に陽極酸化皮膜を施したものを作製した。すなわち、前述の図2で説明した支持板2の形状にアルミマグネシウム合金(5086系)を加工した。その後、10%水酸化ナトリウム水溶液によって脱脂処理およびエッチング処理した。その後、20℃の陽極酸化用電解質(リン酸濃度 2N)溶液に、電流密度100A/m2で、1時間陽極酸化し、8μmの膜厚の皮膜を得た。封孔処理は実施せずに接触角を調べたところ15度であった。
本発明にかかる実験例2用の支持板として、アルミニウム合金の表面に二酸化チタン膜を施したものを作製した。すなわち、図2で説明した支持板2の形状に加工したアルミマグネシウム合金(5086系)の表面材質としてニ酸化チタン膜を形成したものを作製した。形成方法としては、支持板をアノードに接続し、2wt%硫酸水溶液中で陽極酸化処理をおこない、10μmの膜厚の二酸化チタン膜を形成した。さらに洗浄乾燥後、400℃で2時間ほど加熱処理した。
比較例1、2、3として、以下の材料を用いた支持板をそれぞれ作製し、純水に対する接触角を測定した。
2 支持板
3 領域
4 溝
5 支持台
6 基板支持治具
7 スリット
Claims (6)
- 基板を洗浄し、その後マランゴニー乾燥させるために用いる基板支持治具が、前記基板を直立させて保持するための支持板を備え、該支持板が前記基板の支持用接点に溝を有し、前記基板に垂直な支持板の鉛直面の表面に金属酸化膜が形成され、前記金属酸化膜表面の純水に対する接触角が15度以下であることを特徴とする基板支持治具。
- 前記基板が複数であることを特徴とする請求項1に記載の基板支持治具。
- 前記基板支持治具が、前記基板を三以上の複数点支持で保持するために、前記基板の主面に対して垂直方向に三以上の複数列配置される支持板を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の基板支持治具。
- 前記溝の底部に、前記基板の厚さより幅の狭い開口部を有する切り込みスリットが設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板支持治具。
- 前記支持基板の表面に凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板収納支持冶具。
- 前記基板が磁気記録媒体用基板、半導体プロセス用フォトマスク基板、半導体基板、ディスプレイ用基板のいずれかの基板であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の基板支持治具。
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