JP5955635B2

JP5955635B2 - 洗浄装置

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Publication number: JP5955635B2
Application number: JP2012110068A
Authority: JP
Inventors: 山端　一郎; 一郎山端; 木村　謙; 謙木村; 研二村田
Original assignee: Disco Corp
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2012-05-11
Filing date: 2012-05-11
Publication date: 2016-07-20
Anticipated expiration: 2032-05-11
Also published as: KR101989199B1; KR20130126500A; JP2013239498A

Description

本発明は、円盤状の洗浄対象物の洗浄に関し、特に洗浄対象物の裏面の洗浄装置に関するものである。

ＩＣ、ＬＳＩ等の複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面に形成されたウェーハは、研削装置により薄化され、切削装置によって個々のデバイスに分割され、携帯電話、パソコン等の電子機器に用いられている。また、複数のデバイスを積層して、１つのデバイスとする技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。例えば、デバイスの電極がウェーハの表面から裏面近傍まで形成されており、ウェーハの裏面を研削することで、各デバイスを薄化するとともに、電極を表面および裏面から露出させ、上下に隣り合う各デバイスの電極を連結させることで、複数のデバイスを積層し、１つのデバイスを構成するものである。研削装置により裏面が研削されたウェーハは、極薄となり腰がなくなるため、研削後の搬送を容易とする目的で、支持基板にウェーハが接着された状態で、上記研削や研削後の積層や膜の形成などの工程を経ることとなる。

特開２００３−２４９６２０号公報

ところで、研削では、研削屑が大量に発生する。研削後のウェーハに対してさらに積層等の工程を実施する場合、非常に微細で少量でも研削屑が付着するとデバイスの不良につながる可能性がある。そこで、研削後に、ウェーハの研削面のみならず、ウェーハが接着された支持基板のウェーハとの接着面と反対側の面、すなわち下面に付着した研削屑を洗浄することとなる。研削後の支持基板の下面を洗浄する洗浄装置としては、洗浄後に可能な限り研削屑やその他の付着物が残存することを抑制するため、支持基板の外周縁を保持し、下面側において支持基板の中央を通り、支持基板を覆う（支持基板の直径よりも長い）洗浄ローラーを回転軸周りに回転させる等で行うものが考えられる。

ここで、ウェーハには直径が異なる（例えば、φ８インチとφ１２インチなど）ものがあるため、１つの洗浄装置で、直径の異なるウェーハに対応する支持基板を保持し、支持基板の下面を洗浄することが望まれる。洗浄ローラーを直径の異なる支持基板に対応させるためには、長さを直径が大きい支持基板の直径よりも長くすれば対応することができる。一方、直径の異なるウェーハに対応する支持基板を保持する機構としては、各直径の支持基板を保持できる位置に位置決めできることが必要な機構となり、例えば、鉛直方向から見た際に、支持基板を保持する支持部材を保持される支持基板の中心から放射状に伸びる案内レール上を支持基板の下方で移動させることが考えられるが、この場合洗浄ローラーを保持される支持基板の下面側中央に配置することが困難であり、保持される支持基板の中央に洗浄手段を配置する場合は、上記機構を用いて各直径の支持基板を保持させることは困難であった。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、簡単な構成で、直径が異なる洗浄対象物を支持ローラーにより保持でき、洗浄対象物の下面を洗浄することができる洗浄装置を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、少なくとも被加工物を含む円盤状の洗浄対象物を外周縁で水平あるいは略水平に保持しながら回転させる回転保持手段と、前記回転保持手段で保持された前記洗浄対象物の下面を洗浄する洗浄手段とを備えた洗浄装置であって、前記回転保持手段は、前記洗浄対象物の外周縁に接触しつつ、鉛直方向の回転軸で回転する３個以上の支持ローラーと、少なくとも１個の前記支持ローラーに装着された回転駆動源と、前記支持ローラーを回転自在に支持し、前記支持ローラーの回転軸とは異なる位置にある鉛直方向の回転軸で回動する回転基台と、所定の異なる位置に前記支持ローラーを位置づける移動機構と、を備え、前記移動機構は、前記回転基台を前記回転軸周りに回動させ、隣り合う前記支持ローラーの相対距離を変更するものであり、鉛直方向から見た際に、前記回転保持手段が前記洗浄対象物の外周縁に対応する領域および前記洗浄対象物の外側に配設され、前記洗浄手段が前記洗浄対象物の中央を含んだ領域の前記洗浄対象物の下方に配設され、前記洗浄対象物の直径の変更に対応して前記洗浄対象物の下面を洗浄することを特徴とする。

本発明に係る洗浄装置は、各支持ローラーの位置の変更を、移動機構により回動基台が各支持ローラーの回転軸とは異なる位置にある鉛直方向の回転軸で回動することにより行うことができるので、簡単な構成で、洗浄対象物の直径の変更に対応して洗浄対象物の下面を洗浄することができるという効果を奏する。

図１は、本実施形態に係る洗浄装置（小径保持位置）の平面図である。図２は、本実施形態に係る洗浄装置（小径保持位置）の正面図である。図３は、本実施形態に係る洗浄装置（大径保持位置）の平面図である。図４は、本実施形態に係る洗浄装置（大径保持位置）の正面図である。図５は、本実施形態に係る洗浄装置により洗浄される洗浄対象物（小径）を示す図である。図６は、本実施形態に係る洗浄装置により洗浄される洗浄対象物（大径）を示す図である。

本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。

〔実施形態〕
図１は、本実施形態に係る洗浄装置（小径保持位置）の平面図である。図２は、本実施形態に係る洗浄装置（小径保持位置）の正面図である。図３は、本実施形態に係る洗浄装置（大径保持位置）の平面図である。図４は、本実施形態に係る洗浄装置（大径保持位置）の正面図である。図５は、本実施形態に係る洗浄装置により洗浄される洗浄対象物（小径）を示す図である。図６は、本実施形態に係る洗浄装置により洗浄される洗浄対象物（大径）を示す図である。本実施形態に係る洗浄装置は、洗浄対象物を保持した状態で回転させながら、洗浄対象物の下面を洗浄するものである。洗浄装置１は、図１〜図４に示すように、回転保持手段２と、洗浄手段３とを含んで構成されている。

ここで、洗浄対象物は、図５および図６に示すように、円盤状に形成されており、本実施形態では、円盤状の被加工物Ｗ１，Ｗ２および被加工物Ｗ１，Ｗ２の直径以上の直径Ｄ１，Ｄ２（図３および図４では、被加工物Ｗ１，Ｗ２と同径）をそれぞれ有する円盤状の支持基板Ｔ１，Ｔ２により構成されている。洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２は、支持基板Ｔ１，Ｔ２の上面と被加工物Ｗ１，Ｗ２の下面との間に接着剤（例えば、紫外線硬化樹脂や熱可塑性樹脂など）を介在することで、支持基板Ｔ１，Ｔ２に被加工物Ｗ１，Ｗ２を接着したものである。ここで、被加工物Ｗ１，Ｗ２は、シリコン、サファイア、ガリウムなどを母材とするウェーハである。また、支持基板Ｔ１，Ｔ２は、被加工物Ｗ１，Ｗ２の撓みを抑制することで、本実施形態に係る洗浄装置１による洗浄工程の前工程や後工程における被加工物Ｗの加工や搬送を容易にするものである。ここで、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２は、被加工物Ｗ１，Ｗ２の直径に対応して直径Ｄ１，Ｄ２が異なるものであり、洗浄対象物Ｓ１が洗浄対象物Ｓ２よりも径が小さく形成されている。また、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２は、被加工物Ｗ１，Ｗ２と支持基板Ｔ１，Ｔ２が一体になったものに限定されるものではなく、被加工物Ｗ１，Ｗ２単体や被加工物Ｗ１，Ｗ２がそれぞれ複数積層されたものであってもよい。

回転保持手段２は、図１〜図４に示すように、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２を外周縁Ｓｃで保持しながら回転させるものであり、鉛直方向から見た際に、保持した洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の外周縁Ｓｃに対応する領域および洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の外側に配設されるものである。回転保持手段２は、４つの支持ローラー２１ａ〜２１ｄと、回転基台２２ａ〜２２ｄと、３つの回転駆動源２３ａ〜２３ｃと、２つの移動機構２５ａ，２５ｂとを含んで構成され、さらに、固定基台２４ａ，２４ｂと、回転センサ２６と、小径規制ピン２７ａ〜２７ｄと、大径規制ピン２８ａ〜２８ｄとを含んでいる。

各支持ローラー２１ａ〜２１ｄは、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の外周縁Ｓｃにそれぞれ接触することで洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２を支持するものであり、鉛直方向の回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄでそれぞれ回転するものである。各支持ローラー２１ａ〜２１ｄは、洗浄手段３の後述する洗浄ローラー３１を挟んで、支持ローラー２１ａ，２１ｄと、支持ローラー２１ｂ，２１ｃとが対向して、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２に対して周方向に等間隔に配設されている。各支持ローラー２１ａ〜２１ｄは、ウレタンゴムなどの弾性体であり、円筒状に形成され、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面が対向する上面から洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の外周縁Ｓｃに接触する接触部２１ｅ〜２１ｈがそれぞれ突出して形成されている。各接触部２１ｅ〜２１ｈは、略円錐状に形成され、下方に向かうに伴い外径が広く形成されている。各接触部２１ｅ〜２１ｈは、同一水平面に位置しており、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが後述する小径保持位置および大径保持位置において、外周面が接触するように設定されている。従って、回転保持手段２は、各接触部２１ｅ〜２１ｈに接触することで洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２を水平あるいはほぼ水平（水平面に対して数度程度傾き）に支持するとともに、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の自重により洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２を保持することができる。

各回転基台２２ａ〜２２ｄは、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄをそれぞれ回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄ周りに回転自在に支持するものである。各回転基台２２ａ〜２２ｄは、洗浄ローラー３１を挟んで、回転基台２２ａ，２２ｄと、回転基台２２ｂ，２２ｃとが対向して配設されている。各回転基台２２ａ〜２２ｄは、鉛直方向から見た際に、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄと異なる位置にある鉛直方向の回転軸Ｒ２ａ〜Ｒ２ｄでそれぞれ回動するものである。各回転基台２２ａ〜２２ｄは、本実施形態では、略矩形状に形成されており、各支持ローラー２１ａ〜２１近傍の外周面が洗浄手段３との干渉を抑制するため沿って円弧状に湾曲して形成されている。ここで、各回転軸Ｒ２ａ〜Ｒ２ｄは、各回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄとの距離がそれぞれ同じであり、矩形状に配置されている。つまり、各回転軸Ｒ２ａ〜Ｒ２ｄを通る円の中心は、各回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄを通る円の中心となり、すなわち各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの中心となる。各回転軸Ｒ２ａ〜Ｒ２ｄは、本実施形態では、鉛直方向から見た際に、同じ固定基台２４ａ，２４ｂに支持されている回転基台２２ａ，２２ｄ、回転基台２２ｂ，２２ｃが互いに近接している側の端部近傍に形成されている。

各回転駆動源２３ａ〜２３ｃは、各支持ローラー２１ａ〜２１ｃにそれぞれ装着され、各支持ローラー２１ａ〜２１ｃを各回転基台２２ａ〜２２ｃに対してそれぞれ回転させるものである（図１および図３に示す矢印Ａ）。各回転駆動源２３ａ〜２３ｃは、例えば、モータであり、図示しない洗浄装置１の各構成要素を制御する制御手段に接続されており、制御手段により駆動制御が行われる。

各固定基台２４ａ，２４ｂは、洗浄装置１の図示しない筐体に固定されており、固定基台２４ａが各回転基台２２ａ，２２ｄをそれぞれ回転軸Ｒ２ａ，Ｒ２ｄ周りに回転自在に支持するものであり、固定基台２４ｂが各回転基台２２ｂ，２２ｃをそれぞれ回転軸Ｒ２ｂ，Ｒ２ｃ周りに回転自在に支持するものである。各固定基台２４ａ，２４ｂは、洗浄ローラー３１を挟んで対向して配設されている。各固定基台２４ａ，２４ｂは、本実施形態では、矩形状に形成されており、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが後述する小径保持位置および大径保持位置において、鉛直方向から見た場合に、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄの少なくとも一部と重なるように形成されている。

各移動機構２５ａ，２５ｂは、所定の異なる位置、本実施形態では、小径保持位置および大径保持位置の２つの位置に、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄを位置づけるものである。移動機構２５ａは回転基台２２ａ，２２ｄを回転軸Ｒ２ａ，Ｒ２ｄ周りに回動させ（図１および図３に示す矢印Ｆ，Ｈ）、隣り合う、本実施形態では、洗浄ローラー３１の軸方向に隣り合って配設された支持ローラー２１ａ，２１ｄの相対距離を変更するものであり、移動機構２５ｂは回転基台２２ｂ，２２ｃを回転軸Ｒ２ｂ，Ｒ２ｃ周りに回動させ、隣り合う、本実施形態では、洗浄ローラー３１の軸方向に隣り合って配設された支持ローラー２１ｂ，２１ｃの相対距離を変更するものである。ここで、小径保持位置とは、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの中心を通る円の直径が、洗浄装置１の洗浄対象物Ｓ１の外周縁Ｓｃを各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの各接触部２１ｅ〜２１ｈに当接させることができる長さとなる位置であり、各移動機構２５ａ，２５ｂが伸びた状態である。一方、大径保持位置とは、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの中心を通る円の直径が、洗浄装置１の洗浄対象物Ｓ２の外周縁Ｓｃを各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの各接触部２１ｅ〜２１ｈに当接させることができる長さとなる位置であり、各移動機構２５ａ，２５ｂが縮んだ状態である。

各移動機構２５ａ，２５ｂは、アクチュエータ、本実施形態では、図示しない圧縮空気供給源から供給される圧縮空気により伸縮（図１および図３に示す矢印Ｅ、Ｇ）するエアシリンダーであり、図示しないピストンを有するシャフト２５ｃ，２５ｄと、シリンダ本体２５ｅ，２５ｆとにより構成されている。移動機構２５ａは、シャフト２５ｃの先端部が回転基台２２ａに形成された支持部材２２ｅに対して回転自在に支持され、鉛直方向の回転軸Ｒ３ａで回転するものであり、シリンダ本体２５ｅのシャフト２５ｃ側と反対側の端部が回転基台２２ｄに形成された支持部材２２ｈに対して回転自在に支持され、回転軸Ｒ３ｄで回転するものであることで、回転基台２２ａ，２２ｄの間に回転自在に支持されている。移動機構２５ｂは、シャフト２５ｄの先端部が回転基台２２ｂに形成された支持部材２２ｆに対して回転自在に支持され、鉛直方向の回転軸Ｒ３ｂで回転するものであり、シリンダ本体２５ｆのシャフト２５ｄ側と反対側の端部が回転基台２２ｃに形成された支持部材２２ｇに対して回転自在に支持され、回転軸Ｒ３ｃで回転するものであることで、回転基台２２ｂ，２２ｃの間に回転自在に支持されている。各移動機構２５ａ，２５ｂは、圧縮空気の供給が図示しない制御手段により制御されており、伸縮量が同期するように制御されている。各支持部材２２ｅ〜２２ｈは、本実施形態では、鉛直方向から見た際に、同じ固定基台２４ａ，２４ｂに支持されている回転基台２２ａ，２２ｄ、回転基台２２ｂ，２２ｃが互いに離間している側の端部近傍に形成されている。

回転センサ２６は、支持ローラー２１ｄの回転を検出することで、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄに保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の回転を検出するものである。回転センサ２６は、図示しない制御手段に接続されており、制御手段により保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の回転有無が判定される。

小径規制ピン２７ａ〜２７ｄおよび大径規制ピン２８ａ〜２８ｄは、各回転基台２２ａ〜２２ｄに対応して固定基台２４ａ，２４ｂの各回転基台２２ａ〜２２ｄを支持する支持面から突出して形成されている。小径規制ピン２７ａ〜２７ｄは、各回転基台２２ａ〜２２ｄが回転する（図３に示す矢印Ｈ）ことで、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが各移動機構２５ａ，２５ｂにより小径保持位置に向かって移動し、小径保持位置に位置した際に、各回転基台２２ａ〜２２ｄの外周面に当接するものである。従って、小径規制ピン２７ａ〜２７ｄは、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが小径保持位置に位置した後、各回転基台２２ａ〜２２ｄのそれ以上の回転を規制することができ、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの小径保持位置における位置決め精度を向上することができる。大径規制ピン２８ａ〜２８ｄは、各回転基台２２ａ〜２２ｄが回転する（図１に示す矢印Ｆ）ことで、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが各移動機構２５ａ，２５ｂにより大径保持位置に向かって移動し、大径保持位置に位置した際に、各回転基台２２ａ〜２２ｄの外周面に当接するものである。従って、大径規制ピン２８ａ〜２８ｄは、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが大径保持位置に位置した後、各回転基台２２ａ〜２２ｄのそれ以上の回転を規制することができ、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの大径保持位置における位置決め精度を向上することができる。

洗浄手段３は、回転保持手段２で保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面を洗浄するものであり、本実施形態では、図示しない洗浄液供給源から洗浄液が供給される洗浄ローラー３１が、保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面に接触しながら回転するものである。洗浄ローラー３１は、鉛直方向から見た際に、保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の中央（中心）を含んだ領域の保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下方で、外周面が保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面と接触する高さに配設されている。洗浄ローラー３１は、軸方向における長さが洗浄対象物Ｓ２の直径Ｄ２よりも長く設定されており、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２が回転保持手段２で保持されると、軸方向における両端部が洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の外周縁Ｓｃよりも突出するものである。つまり、洗浄ローラー３１は、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の洗浄時、常に回転する洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面のうち、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の中心を通る直径Ｄ１，Ｄ２分を長さとする領域に接触している。洗浄ローラー３１は、両端部が回転自在に支持された回転シャフト３２に取り付けられており、洗浄ローラー回転駆動源３３により回転する（図１および図３に示す矢印Ｄ）ものである。洗浄ローラー回転駆動源３３は、例えば、モータであり、制御手段に接続されており、制御手段により駆動制御が行われる。なお、洗浄液は、洗浄ローラー３１の内部から供給されてもよいし、図示しない洗浄液ノズルなどにより外部から洗浄ローラー３１に供給されてもよい。

次に、本実施形態に係る洗浄装置１の動作について説明する。ここで、洗浄装置１による洗浄工程の前工程は、例えば洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の被加工物Ｗ１，Ｗ２の上面を研削装置により研削した場合のように研削屑などが洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面に付着する可能性が生じる工程である。

制御手段は、洗浄する洗浄対象物が小径の洗浄対象物Ｓ１か大径の洗浄対象物Ｓ２であるかを判定する。上記判定は、例えば、洗浄動作の開始前に予め作業員による洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の指定指示が図示しない操作手段から入力されることで行われる。制御手段は、洗浄対象物Ｓ１を洗浄すると判定すると、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが大径保持位置に位置している場合には小径保持位置に移動させる。ここでは、制御手段は、各移動機構２５ａ，２５ｂを伸ばす（図３に示す矢印Ｇ）ことで、各回転基台２２ａ〜２２ｄを隣り合う支持ローラー２１ａ，２１ｄおよび支持ローラー２１ｂ，２１ｃが近接するように回転させ（図３に示す矢印Ｈ）、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが小径保持位置に位置すると、各移動機構２５ａ，２５ｂの伸縮を停止し、位置を保持する。これにより、図１および図２に示すように、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄは小径保持位置に位置する。このとき、各回転基台２２ａ〜２２ｄが小径規制ピン２７ａ〜２７ｄとそれぞれ当接した状態となる。一方、制御手段は、洗浄対象物Ｓ２を洗浄すると判定すると、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが小径保持位置に位置している場合には大径保持位置に移動させる。ここでは、制御手段は、各移動機構２５ａ，２５ｂを縮める（図１に示す矢印Ｅ）ことで、各回転基台２２ａ〜２２ｄを隣り合う支持ローラー２１ａ，２１ｄおよび支持ローラー２１ｂ，２１ｃが離間するように回転させ（図１に示す矢印Ｆ）、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが大径保持位置に位置すると、各移動機構２５ａ，２５ｂの伸縮を停止し、位置を保持する。これにより、図３および図４に示すように、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄは大径保持位置に位置する。このとき、各回転基台２２ａ〜２２ｄが大径規制ピン２８ａ〜２８ｄとそれぞれ当接した状態となる。

制御手段は、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄが洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２に対応する保持位置に位置し、図示しない搬送手段により、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの間に洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２が搬送され、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄにより洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２が保持されると、各回転駆動源２３ａ〜２３ｃにより各支持ローラー２１ａ〜２１ｃを回転させる（図１および図３に示す矢印Ａ）とともに、洗浄液を供給しながら洗浄ローラー回転駆動源３３により洗浄ローラー３１を回転させる（図１および図３に示す矢印Ｄ）。これにより、洗浄ローラー３１は、自転する（図１および図３に示す矢印Ｂ）ことで、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面全面と当接し、下面に付着している切削屑を洗浄・除去することができる。各回転駆動源２３ａ〜２３ｃにより各支持ローラー２１ａ〜２１ｃを回転すると、保持された洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２により支持ローラー２１ｄが連れ回って回転（図１および図３に示す矢印Ｃ）し、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の回転が検出される。従って、制御手段は、各回転駆動源２３ａ〜２３ｃにより各支持ローラー２１ａ〜２１ｃを回転しても、支持ローラー２１ｄが回転していないと判断すると、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２が各支持ローラー２１ａ〜２１ｄに保持されていない、あるいは故障などの異常が発生していると判定し、各支持ローラー２１ａ〜２１ｃの回転を停止し、作業員に図示しない報知手段により報知する。なお、洗浄装置１により洗浄が行われた洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２は、再び搬送手段により後工程を行う装置あるいは領域に搬送される。

以上のように、本実施形態に係る洗浄装置１は、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の直径Ｄ１，Ｄ２の変更に対応して、直径Ｄ１，Ｄ２の異なる洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２を保持することができ、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の下面を洗浄することがきる。また、各移動機構２５ａ，２５ｂにより各回転基台２２ａ〜２２ｄが各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの回転軸Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄとは異なる位置にある鉛直方向の回転軸Ｒ２ａ〜Ｒ２ｄで回動させる簡単な構成で、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの位置の変更、すなわち小径保持位置と大径保持位置との切り換えを行うことができる。さらに、鉛直方向から見た際に、各支持ローラー２１ａ〜２１ｄを通る円の中心から放射状に各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの位置を変更する場合と比較して、洗浄対象物Ｓ１，Ｓ２の中央にスペースを確保することができ、洗浄対象物Ｓ２に対応することができる長さの洗浄ローラー３１を有する洗浄手段３を配設することができる。また、各移動機構２５ａ，２５ｂは伸縮により各支持ローラー２１ａ〜２１ｄの位置の変更、位置決めを行うので、簡単で安価な構成とすることができる。

なお、本実施形態に係る洗浄装置１は、４つの支持ローラー２１ａ〜２１ｄを有するが本発明はこれに限定されるものではなく、３つ以上の支持ローラーを有していればよい。また、本実施形態に係る洗浄装置１は、３つの回転駆動源２３ａ〜２３ｃを有するが本発明はこれに限定されるものではなく、１つ以上の回転駆動源を有していればよい。また、回転センサ２６を回転駆動源２３ａ〜２３ｃが装着された支持ローラー２１ａ〜２１ｃに設けられている場合は、回転駆動源２３ａ〜２３ｃが装着された支持ローラー２１ａ〜２１ｃ以外の支持ローラーを設けなくてもよい。

１洗浄装置
２回転保持手段
２１ａ〜２１ｄ支持ローラー
２１ｅ〜２１ｈ接触部
２２ａ〜２２ｄ回転基台
２３ａ〜２３ｃ回転駆動源
２４ａ，２４ｂ固定基台
２５ａ，２５ｂ移動機構
２５ｃ，２５ｄシャフト
２５ｅ，２５ｆシリンダ本体
２６回転センサ
２７ａ〜２７ｄ小径規制ピン
２８ａ〜２８ｄ大径規制ピン
３洗浄手段
３１洗浄ローラー
３２回転シャフト
３３洗浄ローラー回転駆動源
Ｒ１ａ〜Ｒ１ｄ：回転軸
Ｒ２ａ〜Ｒ２ｄ：回転軸
Ｒ３ａ〜Ｒ３ｄ：回転軸
Ｓ１，Ｓ２洗浄対象物
Ｔ１，Ｔ２支持基板
Ｗ１，Ｗ２被加工物

Claims

少なくとも被加工物を含む円盤状の洗浄対象物を外周縁で水平あるいは略水平に保持しながら回転させる回転保持手段と、前記回転保持手段で保持された前記洗浄対象物の下面を洗浄する洗浄手段とを備えた洗浄装置であって、
前記回転保持手段は、
前記洗浄対象物の外周縁に接触しつつ、鉛直方向の回転軸で回転する３個以上の支持ローラーと、
少なくとも１個の前記支持ローラーに装着された回転駆動源と、
前記支持ローラーを回転自在に支持し、前記支持ローラーの回転軸とは異なる位置にある鉛直方向の回転軸で回動する回転基台と、
所定の異なる位置に前記支持ローラーを位置づける移動機構と、
を備え、
前記移動機構は、前記回転基台を前記回転軸周りに回動させ、隣り合う前記支持ローラーの相対距離を変更するものであり、
鉛直方向から見た際に、前記回転保持手段が前記洗浄対象物の外周縁に対応する領域および前記洗浄対象物の外側に配設され、前記洗浄手段が前記洗浄対象物の中央を含んだ領域の前記洗浄対象物の下方に配設され、
前記洗浄対象物の直径の変更に対応して前記洗浄対象物の下面を洗浄することを特徴とする洗浄装置。