JP5954714B2 - NbON膜およびNbON膜の製造方法、並びに、水素生成デバイスおよびそれを備えたエネルギーシステム - Google Patents
NbON膜およびNbON膜の製造方法、並びに、水素生成デバイスおよびそれを備えたエネルギーシステム Download PDFInfo
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Description
(I)R1N=Nb(NR2R3)3(ただし、R1、R2及びR3は、各々独立の炭化水素基)を気化する工程と、
(II)気化された前記R1N=Nb(NR2R3)3と、酸素及び水蒸気から選択される少なくとも何れか一方とを、加熱された基板に接触させる工程と、
を含む、NbON膜の製造方法を提供する。
導電体と、前記導電体上に配置された、第1〜第4の態様の何れか1つの態様に係るNbON膜と、を含む光半導体電極と、
前記導電体と電気的に接続された対極と、
前記NbON膜及び前記対極の表面と接触する、水を含む電解液と、
前記光半導体電極、前記対極及び前記電解液を収容する容器と、を備え、
前記NbON膜に光が照射されることによって水素を発生させる、
水素生成デバイスを提供する。
第8の態様に係る水素生成デバイスと、
前記水素生成デバイスと第1の配管により接続され、前記水素生成デバイス内で生成した水素を貯蔵する水素貯蔵器と、
前記水素貯蔵器と第2の配管により接続され、前記水素貯蔵器で貯蔵された水素を電力と熱に変換する燃料電池と、
を備えたエネルギーシステムを提供する。
本発明のNbON膜の実施の形態について説明する。本実施の形態のNbON膜は、光照射により光電流が発生するNbON膜である。上述のとおり、光照射により光電流が発生するとは、太陽光の照射により0.1mA/cm2以上の光電流密度で光電流が発生することを意味する。
本発明のNbONの製造方法の実施の形態を、以下に説明する。
本発明のNbON膜の製造方法の実施の形態を、以下に説明する。
(I)R1N=Nb(NR2R3)3(ただし、R1、R2及びR3は、各々独立の炭化水素基)を気化する工程と、
(II)気化された前記R1N=Nb(NR2R3)3と、酸素及び水蒸気から選択される少なくとも何れか一方とを、加熱された基板に接触させる工程と、
を含む。これらの工程は、例えば図3に示されるようなMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)装置300を用いて実施できる。この方法によれば、NbN等の不純物の含有が低減されたNbON膜を合成することができ、NbON単相膜を得ることも可能である。したがって、この方法によれば、実施の形態1で説明したNbON膜を作製することが可能である。さらに、この方法によれば、化学結合によって基板に固定化されたNbON膜が作製される。例えば特許文献3に記載されている電極触媒のように、電極上にNbON粉末を固着させることによってNbON膜が形成されている場合、NbON粉末と電極との固着が接触程度で不十分であるので、所望の光半導体特性(高い量子効率)を得ることが困難である。これに対し、本実施の形態の方法によって得られたNbON膜は、基板とNbON膜との接合状態が良好であるため、NbONの優れた光半導体特性を発揮させることができる。
本発明の水素生成デバイスの実施の形態を、図5を参照しながら、以下に説明する。
4e-+4H+ → 2H2↑ (2)
本発明の別の水素生成デバイスの実施の形態を、図6を参照しながら、以下に説明する。
本発明の実施の形態5のエネルギーシステムの構成について、図7を参照しながら説明する。図7は、本実施の形態のエネルギーシステムの構成を示す概略図である。
<NbON膜の合成>
原料(R1N=Nb(NR2R3)3)として、Tertiary Butylimino Tris(Ethylmethylamino) Niobium((CH3)3CN=Nb(N(CH3)C2H5)3)を用いた。この原料のArフロー中でのTG−DTAデータを図8に示す。材料の沸点は約181℃であった。また、原料の残渣、すなわち原料の膜と思われる分解温度は、約303℃であった。
次に、図3に示すMOCVD装置300を用いて、NbON単相膜の合成を行った。気化器311内で、3.38×10-5Pa・m3/s(0.2sccm)の原料301のエチルシクロヘキサン溶液を、150℃で気化した。不活性ガスとして、窒素ガス302を用いた。原料ガス(気化した原料301)と窒素ガス302とを含む、1.69×10-1Pa・m3/s(1000sccm)の混合ガスに、1.69×10-4Pa・m3/s(1sccm)の酸素303を混合した。得られた混合ガスを、シャワーヘッド314から、サセプター315によって300℃に加熱した基板321(ITO膜(膜厚150nm)/ガラス基板)に6時間噴射して、膜厚160nmの膜1を得た。
図1に示す装置で、参照用のNbONパウダーの合成を行った。管状炉111の内径25mmの石英管112内の石英ボート113に、R1N=Nb(NR2R3)3の代わりに、2gのNb2O5を原料101としてセットした。これを、1.69×10-1Pa・m3/s(1000sccm)のNH3気流中で、650℃で4時間加熱した。得られた材料から、1N硫酸を用いて、不純物であるNbNを溶解した。これによって、パウダー1が得られた。図9に、パウダー1のXRDデータ(上段)とNbONのXRDシミュレーションデータ(下段)を示す。これらのXRDデータを比較した結果、パウダー1がほぼNbON単相パウダーであるということが確認された。
図10に、膜1のUV−Visスペクトルを示す。膜1のバンドギャップは600nmと考えられる。これは、諸文献で報告されているNbONのバンドギャップとほぼ一致する。図11に、膜1と、NbON単相材料と同定されたパウダー1の、Nb3dのXPSスペクトルを示す。両者は、ほぼ一致することがわかる。この結果によって、膜1がほぼNbON単相膜であることが確認された。
サセプター315の温度を300℃から350℃に変更した点以外は、実施例1と同様の方法でNbON膜を作製した。なお、得られたNbON膜(膜2)の膜厚は800nmであった。
図1に示す装置100で、NbON単相パウダーの合成を行った。管状炉111の内径25mmの石英管112内の石英ボート113に、原料101をセットした。原料101には、実施例1と同じTertiary Butylimino Tris(Ethylmethylamino) Niobium((CH3)3CN=Nb(N(CH3)C2H5)3)を用いた。この原料101を、1.69×10-1Pa・m3/s(1000sccm)の窒素と1.69×10-4Pa・m3/s(1sccm)酸素混合気流中、300℃で4時間加熱して、パウダー2を得た。
実施例1の酸素を水蒸気に変更した点以外は、実施例1と同様の方法でNbON膜を合成した。得られたNbON膜(膜3)の膜厚は、700nmであった。
原料(R1N=Nb(NR2R3)3)として、Tertiary Butylimino Tris(di-Ethylamino) Niobium((CH3)3CN=Nb(N(C2H5)2)3)を用いた。実施例1と同様に、この材料のArフロー中でのTG−DTAデータから、この原料の分解温度を確認した。その結果、この原料の分解温度は、約410℃であった。
原料(R1N=Nb(NR2R3)3)として、Tertiary Butylimino Tris(di-methylamino) Niobium((CH3)3CN=Nb(N(CH3)2)3)を用いた。実施例1と同様に、この材料のArフロー中でのTG−DTAデータから、この原料の分解温度を確認した。その結果、この原料の分解温度は約250℃であった。
<水素生成デバイスの作製>
本発明の水素生成デバイスの実施例として、図6に示した水素生成デバイス600と同様の構成を有する水素生成デバイスを作製した。本実施例の水素生成デバイスの構成について、図6を用いて説明する。
図6に示すように、実施例5に係る水素生成デバイス600は、上部に開口部を有する角型のガラス容器610、光半導体電極620、及び対極630を備えていた。ガラス容器610内には、電解液640として、1mol/LのH2SO4水溶液が収容されていた。光半導体電極620としては、実施例1で作製された、基板321(ITO膜(膜厚150nm)/ガラス基板)(導電性基板621に相当する。)上に、膜厚160nmの膜1(NbON膜622に相当する。)が設けられた1cm角のものを使用した。なお、光半導体電極620は、NbON膜622の表面が、ガラス容器610の光入射面611と対向するように配置された。対極630としては、白金板を用いた。光半導体電極620の導電性基板621の部分と対極630とは、導線650により電気的に接続されていた。光半導体電極620−対極630間に流れる電流は、電流計660により測定した。
擬似太陽光としてセリック社製ソーラーシミュレータを用いた。実施例5に係る水素生成デバイス600の光入射部611を介して、光半導体電極620表面に、強度1kW/m2の光を照射した。対極630の表面において発生したガスを60分間捕集し、ガスクロマトグラフィにより、捕集したガスの成分分析及び生成量の測定を行った。電流計660により半導体電極−対極間に流れる光電流を測定した。対極630におけるガスの生成量を用いてみかけの量子効率を求めた。光半導体電極620から酸素約30μLが発生し、対極630から水素約60μLが発生した。光電流が約0.1mA観測され、みかけの量子効率は約1%と計算された。
実施例1の膜1を参考例1の膜2に変更した点以外は、実施例5と同様に水素生成デバイスを作製して光電流を測定した。参考例1の膜2は単相膜ではなかったが、NbONに起因する0.1mA/cm2の光電流密度の光電流が得られた。
Claims (5)
- 光照射により光電流が発生し、且つ単相膜である、NbON膜。
- (I)R1N=Nb(NR2R3)3(ただし、R1、R2及びR3は、各々独立の炭化水素基)を気化する工程と、
(II)気化された前記R1N=Nb(NR2R3)3と、酸素及び水蒸気から選択される少なくとも何れか一方とを、加熱された基板に接触させる工程と、
を含み、
前記工程(II)において、前記基板を、前記R1N=Nb(NR2R3)3の沸点以上で且つ分解温度以下の温度に加熱する、
NbON膜の製造方法。 - R1がターシャリーブチル基(−C(CH3)3)であり、R2及びR3が各々独立の直鎖のアルキル基(n−CnH2n+1(n=1以上の整数))である、
請求項2に記載のNbON膜の製造方法。 - 導電体と、前記導電体上に配置された請求項1に記載のNbON膜と、を含む光半導体電極と、
前記導電体と電気的に接続された対極と、
前記NbON膜及び前記対極の表面と接触する、水を含む電解液と、
前記光半導体電極、前記対極及び前記電解液を収容する容器と、を備えた、水素生成デバイス。 - 請求項4に記載の水素生成デバイスと、
前記水素生成デバイスと第1の配管により接続され、前記水素生成デバイス内で生成した水素を貯蔵する水素貯蔵器と、
前記水素貯蔵器と第2の配管により接続され、前記水素貯蔵器で貯蔵された水素を電力と熱に変換する燃料電池と、
を備えたエネルギーシステム。
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