JP5947128B2 - 帯電粒子を用いて試料を結像、検査又は処理する装置及び方法 - Google Patents
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Description
帯電粒子を供給するデバイスと、
試料ホルダーを有するチャンバーであって、前記デバイスによって供給可能な前記粒子を用いて試料を結像、検査及び/又は処理することができるように前記試料ホルダー上に前記試料を位置決め可能である、チャンバーと、
少なくとも1つの空間方向における磁界補償用のシステムであって、少なくとも1巻きの導体によって提供される少なくとも1つの補償コイルを含む、システムと、
を備え、
前記チャンバーの少なくとも1つの壁は、該壁の少なくとも幾つかのセクションに、前記補償コイルの少なくとも一部分のための少なくとも1つの収容領域を有する、装置を請求するものである。
前記帯電粒子が供給され、チャンバーの内部に配置されている試料に方向付けられ、
少なくとも1つの補償コイルが作り出した補償容積部において、干渉磁界を前記粒子の軌道の一部分に沿って補償することができるように磁界がもたらされ、
前記補償容積部は、集束及び/又はフィルタリングのような、前記帯電粒子への最終的な影響の後で、或る領域にもたらされる、方法である。
10 帯電粒子を供給するデバイス又は電子顕微鏡
11 電子源又は電子ガン
12 ビームを監視するための第1のアパーチャ
13 集光レンズ
14 弁
15 磁気又は電気的偏向手段
16 磁気又は電気的偏向手段
17 対物レンズ
18 レンズアパーチャ又は最後のアパーチャ
20 試料用のチャンバー又は真空チャンバー
21 チャンバー壁
21a チャンバー壁の外側面
21b チャンバー壁の内側面
22 チャンバー壁内の凹部又はキャビティ
23 試料ホルダー
24 マニピュレーター
30 試料又は標的
40 磁界補償用のシステム
41 コイル、補償コイル、一対のコイル又は一対の補償コイル
42 磁界を検出するセンサー
43 コイルにおける電流を調節及び/又は制御する手段
44 電源
100 試料を結像、検査及び/又は処理する装置
200 防振システム
201 防振すべき質量体、ベース質量体又は防振すべきテーブル
202 空気式アイソレーター、振動アイソレーター又は弁を有する空気軸受
203 床面又はベース
204 位置センサー
205 垂直方向の速度センサー又は加速度センサー
206 水平方向の速度センサー又は加速度センサー
207 垂直動作方向を有するアクチュエーター
208 水平動作方向を有するアクチュエーター
Claims (15)
- パッシブ磁気シールドを用いずに外部電磁干渉を補償し、帯電粒子(1)を用いて試料(30)を結像、検査又は処理する装置(100)であって、
帯電粒子(1)を供給するデバイス(10)と、
試料ホルダー(23)を有するチャンバー(20)であって、前記デバイス(10)によって供給可能な前記粒子(1)を用いて試料(30)を結像、検査又は処理することができるように前記試料ホルダー(23)上に前記試料(30)を位置決め可能である、チャンバー(20)と、
少なくとも1つの空間方向(X、Y、Z)における磁界補償用のシステム(40)であって、
少なくとも1巻きの導体によって提供される少なくとも1つの補償コイル(41)、
磁界を測定し、外部電磁干渉を検出するセンサー(42)、及び
前記センサー(42)によって受け取られた信号に依存するフィードバック制御を備えたコントローラ(43)、
を含み、
前記少なくとも1つの補償コイル(41)が作り出した補償容積部において、前記チャンバー(20)内の磁界をゼロに調整することなく、前記粒子(1)の軌道の一部分に沿って外部電磁干渉を補償することができるように、前記コントローラ(43)を用いて磁界がもたらされ、
前記補償容積部は、集束又はフィルタリングのような、前記帯電粒子(1)への最終的な影響の後で、或る領域にもたらされる、システム(40)と、
を備え、
前記チャンバー(20)の少なくとも1つの壁(21)は、該壁(21)の少なくとも幾つかのセクションに、前記補償コイル(41)の少なくとも一部分のための少なくとも1つの収容領域(21a、21b、22)を有する、装置。 - 前記収容領域(21a、21b)は、前記チャンバー壁(21)の外側面及び/又は内側面によって提供され、さらに、
前記補償コイル(41)は、前記チャンバー壁(21)の前記外側面及び/又は前記内側面上に少なくとも部分的に配置される、請求項1に記載の装置(100)。 - 前記収容領域(22)は、前記チャンバー壁(21)内に少なくとも部分的に延在している凹部によって提供される、請求項1又は2に記載の装置(100)。
- 前記凹部(22)は前記チャンバー壁(21)内のキャビティとして形成される、請求項3に記載の装置(100)。
- 各空間方向(X、Y、Z)は少なくとも1つの補償コイル(41)と関連付けられており、その結果、3つの前記空間方向(X、Y、Z)において干渉磁界を補償することができる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 各空間方向(X、Y、Z)は少なくとも一対の補償コイルと関連付けられており、その結果、3つの前記空間方向(X、Y、Z)において干渉磁界を補償することができる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記磁界補償用のシステム(40)は、前記一対の補償コイルのうちの1つの単一の補償コイル(41)又は前記一対の補償コイルを励磁するように構成されている、請求項6に記載の装置(100)。
- パッシブ磁気シールドを用いずに外部電磁干渉を補償し、帯電粒子(1)を用いて試料(30)を結像、検査又は処理する方法であって、
前記帯電粒子(1)が、デバイス(10)によって供給されて、試料ホルダー(23)を有するチャンバー(20)の内部に配置されている試料(30)に方向付けられ、該試料(30)は、該デバイス(10)によって供給された前記粒子(1)を用いて該試料(30)を結像、検査又は処理することができるように該試料ホルダー(23)上に位置決めされ、
磁界を測定するセンサー(42)によって外部電磁干渉を検出し、
少なくとも1つの補償コイル(41)が作り出した補償容積部において、前記チャンバー(20)内の磁界をゼロに調整することなく、前記粒子(1)の軌道の一部分に沿って外部電磁干渉を補償することができるように、前記センサー(42)によって受け取られた信号に依存するフィードバック制御を備えたコントローラ(43)を用いて磁界がもたらされ、さらに、
前記補償容積部は、集束又はフィルタリングのような、前記帯電粒子(1)への最終的な影響の後で、或る領域にもたらされ、
前記チャンバー(20)の少なくとも1つの壁(21)が提供され、該壁(21)は、該壁(21)の少なくとも幾つかのセクションに、前記補償コイル(41)の少なくとも一部分のための少なくとも1つの収容領域(21a、21b、22)を有する、方法。 - 前記少なくとも1つの補償コイル(41)は少なくとも1巻きの導体によって提供される、請求項8に記載の方法。
- 前記収容領域(21a、21b)は前記チャンバー壁(21)の外側面又は内側面によって提供され、前記補償コイル(41)は前記チャンバー壁(21)の前記外側面又は前記内側面上に少なくとも部分的に配置される、請求項9に記載の方法。
- 前記収容領域(22)は、前記チャンバー壁(21)内に少なくとも部分的に延在している凹部によって提供される、請求項9又は10に記載の方法。
- 前記凹部(22)は前記チャンバー壁(21)内のキャビティとして形成される、請求項11に記載の方法。
- 各空間方向(X、Y、Z)が少なくとも1つの補償コイル(41)と関連付けられており、その結果、3つの前記空間方向(X、Y、Z)において干渉磁界が補償される、請求項8〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 各空間方向(X、Y、Z)が少なくとも1対の補償コイルと関連付けられており、その結果、3つの前記空間方向(X、Y、Z)において干渉磁界が補償される、請求項8〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記一対の補償コイルのうちの1つの単一の補償コイル(41)又は前記一対の補償コイルを励磁することによって前記干渉磁界が補償される、請求項14に記載の方法。
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