JP2013016492A - 走査型電子顕微鏡及び透過型電子顕微鏡において用いる統合可能な(integrable)磁界補償 - Google Patents
走査型電子顕微鏡及び透過型電子顕微鏡において用いる統合可能な(integrable)磁界補償 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013016492A JP2013016492A JP2012150279A JP2012150279A JP2013016492A JP 2013016492 A JP2013016492 A JP 2013016492A JP 2012150279 A JP2012150279 A JP 2012150279A JP 2012150279 A JP2012150279 A JP 2012150279A JP 2013016492 A JP2013016492 A JP 2013016492A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compensation
- magnetic field
- sample
- chamber
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 20
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 13
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 11
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 9
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/09—Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1475—Scanning means magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1471—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path for centering, aligning or positioning of ray or beam
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】電子顕微鏡10の試料チャンバー20のチャンバー壁21に、X、Y、Zそれぞれの方向の磁界補償コイル41を収容する領域を設け、試料30やレンズアパーチャ18近傍の高感度領域に於ける外部の干渉磁界を磁気センサー42により計測して、それぞれの磁界補償コイル41の磁界を調整し補償する磁界補償用のシステム40を構成する。
【選択図】図2.a
Description
帯電粒子を供給するデバイスと、
試料ホルダーを有するチャンバーであって、前記デバイスによって供給可能な前記粒子を用いて試料を結像、検査及び/又は処理することができるように前記試料ホルダー上に前記試料を位置決め可能である、チャンバーと、
少なくとも1つの空間方向における磁界補償用のシステムであって、少なくとも1巻きの導体によって提供される少なくとも1つの補償コイルを含む、システムと、
を備え、
前記チャンバーの少なくとも1つの壁は、該壁の少なくとも幾つかのセクションに、前記補償コイルの少なくとも一部分のための少なくとも1つの収容領域を有する、装置を請求するものである。
前記帯電粒子が供給され、チャンバーの内部に配置されている試料に方向付けられ、
少なくとも1つの補償コイルが作り出した補償容積部において、干渉磁界を前記粒子の軌道の一部分に沿って補償することができるように磁界がもたらされ、
前記補償容積部は、集束及び/又はフィルタリングのような、前記帯電粒子への最終的な影響の後で、或る領域にもたらされる、方法である。
10 帯電粒子を供給するデバイス又は電子顕微鏡
11 電子源又は電子ガン
12 ビームを監視するための第1のアパーチャ
13 集光レンズ
14 弁
15 磁気又は電気的偏向手段
16 磁気又は電気的偏向手段
17 対物レンズ
18 レンズアパーチャ又は最後のアパーチャ
20 試料用のチャンバー又は真空チャンバー
21 チャンバー壁
21a チャンバー壁の外側面
21b チャンバー壁の内側面
22 チャンバー壁内の凹部又はキャビティ
23 試料ホルダー
24 マニピュレーター
30 試料又は標的
40 磁界補償用のシステム
41 コイル、補償コイル、一対のコイル又は一対の補償コイル
42 磁界を検出するセンサー
43 コイルにおける電流を調節及び/又は制御する手段
44 電源
100 試料を結像、検査及び/又は処理する装置
200 防振システム
201 防振すべき質量体、ベース質量体又は防振すべきテーブル
202 空気式アイソレーター、振動アイソレーター又は弁を有する空気軸受
203 床面又はベース
204 位置センサー
205 垂直方向の速度センサー又は加速度センサー
206 水平方向の速度センサー又は加速度センサー
207 垂直動作方向を有するアクチュエーター
208 水平動作方向を有するアクチュエーター
Claims (9)
- 帯電粒子(1)、特に電子を用いて試料(30)を結像、検査及び/又は処理する装置(100)であって、
帯電粒子(1)を供給するデバイス(10)と、
試料ホルダー(23)を有するチャンバー(20)であって、前記デバイス(10)によって供給可能な前記粒子(1)を用いて試料(30)を結像、検査及び/又は処理することができるように前記試料ホルダー(23)上に前記試料(30)を位置決め可能である、チャンバー(20)と、
少なくとも1つの空間方向(X、Y、Z)における磁界補償用のシステム(40)であって、少なくとも1巻きの導体によって提供される少なくとも1つの補償コイル(41)を含む、システム(40)と、
を備え、
前記チャンバー(20)の少なくとも1つの壁(21)が、該壁(21)の少なくとも幾つかのセクションに、前記補償コイル(41)の少なくとも一部分のための少なくとも1つの収容領域(21a、21b、22)を有する、装置。 - 前記収容領域(21a、21b)は、前記チャンバー壁(21)の外側面及び/又は内側面によって提供され、さらに、
前記補償コイル(41)は、前記チャンバー壁(21)の前記外側面及び/又は前記内側面上に少なくとも部分的に配置される、請求項1に記載の装置(100)。 - 前記収容領域(22)は、前記チャンバー壁(21)内に少なくとも部分的に延在している凹部によって提供される、請求項1又は2に記載の装置(100)。
- 前記凹部(22)は前記チャンバー壁(21)内のキャビティとして形成される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 各空間方向(X、Y、Z)は少なくとも1つの補償コイル(41)と関連付けられているため、3つの前記空間方向(X、Y、Z)において干渉磁界を補償することができる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 各空間方向(X、Y、Z)は少なくとも一対の補償コイルと関連付けられているため、3つの前記空間方向(X、Y、Z)において干渉磁界を補償することができる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記磁界補償用のシステム(40)は、前記一対の補償コイルのうちの1つの単一の補償コイル(41)又は前記一対の補償コイルを励磁するように構成されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 防振システム(200)であって、防振的に取り付けられている、前請求項のいずれか一項に記載の少なくとも1つの装置(100)を含む、防振システム。
- 帯電粒子(1)、特に電子を用いて試料(30)を結像、検査及び/又は処理する方法であって、
前記帯電粒子(1)は供給され、チャンバー(20)の内部に配置されている試料(30)に方向付けられ、
少なくとも1つの補償コイル(41)が作り出した補償容積部において、前記粒子(1)の軌道の一部分に沿って干渉磁界を補償することができるように磁界がもたらされ、さらに、
前記補償容積部は、集束及び/又はフィルタリングのような、前記帯電粒子(1)への最終的な影響の後で、或る領域にもたらされる、方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011106433.1 | 2011-07-04 | ||
DE102011106433.1A DE102011106433B4 (de) | 2011-07-04 | 2011-07-04 | Integrierbare Magnetfeldkompensation für den Einsatz an Raster- und Transmissionselektronenmikroskopen, Schwingungsisolationssystem sowie Verfahren zum Abbilden, Untersuchen und / oder Bearbeiten einer Probe |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013016492A true JP2013016492A (ja) | 2013-01-24 |
JP5947128B2 JP5947128B2 (ja) | 2016-07-06 |
Family
ID=46640509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012150279A Active JP5947128B2 (ja) | 2011-07-04 | 2012-07-04 | 帯電粒子を用いて試料を結像、検査又は処理する装置及び方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8592777B2 (ja) |
EP (1) | EP2544214B1 (ja) |
JP (1) | JP5947128B2 (ja) |
DE (1) | DE102011106433B4 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011106433B4 (de) * | 2011-07-04 | 2016-10-13 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Integrierbare Magnetfeldkompensation für den Einsatz an Raster- und Transmissionselektronenmikroskopen, Schwingungsisolationssystem sowie Verfahren zum Abbilden, Untersuchen und / oder Bearbeiten einer Probe |
DE102013110251A1 (de) * | 2013-09-17 | 2015-03-19 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Anordnung mit einer Vakuumpumpe sowie Verfahren zur Kompensation eines Magnetfeldes wenigstens eines in einer Vakuumpumpe angeordneten, ein magnetisches Störfeld erzeugenden Bauteiles |
US10302710B2 (en) | 2014-09-26 | 2019-05-28 | Bourns, Inc. | System and method for active balancing/cancellation of magnetic interference in a magnetic sensor |
US11621144B2 (en) * | 2018-08-03 | 2023-04-04 | Nuflare Technology, Inc. | Electron optical system and multi-beam image acquiring apparatus |
DE102021131970A1 (de) | 2021-12-03 | 2023-06-07 | Integrated Dynamics Engineering Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Vorrichtung und Verfahren zum Analysieren einer Probe mittels elektrisch geladener Teilchen |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006287015A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Canon Inc | 荷電粒子線露光装置 |
JP2009289468A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3588586A (en) * | 1968-04-26 | 1971-06-28 | Jeol Ltd | Apparatus for correcting electron beam deflection |
GB1191191A (en) * | 1968-05-08 | 1970-05-06 | Hitachi Ltd | Improvements in Electron Microscopes |
US4963789A (en) * | 1989-05-01 | 1990-10-16 | Conrac Scd, Inc. | Method and apparatus for dynamic magnetic field neutralization |
US5057689A (en) * | 1989-09-20 | 1991-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Scanning electron microscope and a method of displaying cross sectional profiles using the same |
JP3261018B2 (ja) * | 1995-08-30 | 2002-02-25 | 日本電子株式会社 | オージェ電子分光装置 |
DE19718649A1 (de) * | 1997-05-02 | 1998-11-05 | Peter Heiland | Vorrichtung und Verfahren zur aktiven Kompensation magnetischer und elektromagnetischer Störfelder |
US6853141B2 (en) * | 2002-05-22 | 2005-02-08 | Daniel J. Hoffman | Capacitively coupled plasma reactor with magnetic plasma control |
US20020117969A1 (en) * | 2001-02-28 | 2002-08-29 | Nikon Corporation | Magnetic shielding devices and methods involving active cancellation of external magnetic fields at the column of a charged-particle-beam optical system |
JP3469213B2 (ja) * | 2001-03-29 | 2003-11-25 | 株式会社日立製作所 | 磁場印加試料観察システム |
JP2003068603A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置 |
JP2003173755A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Nikon Corp | アクティブ磁場キャンセラーを備える荷電粒子線装置 |
EP1489641B1 (en) * | 2003-06-18 | 2019-08-14 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle deflecting system |
JP4664041B2 (ja) * | 2004-10-27 | 2011-04-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置及び試料作製方法 |
EP1873543B1 (de) | 2006-07-01 | 2010-09-15 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Magnetfeldkompensationssystem mit erhöhter Bandbreite |
JP2008053121A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Horiba Ltd | 磁気シールド装置及び磁気シールド方法 |
WO2010029725A1 (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | 株式会社竹中工務店 | 磁気シールドシステム及び磁気シールド方法 |
DE102009009562A1 (de) * | 2009-02-19 | 2010-09-09 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Kombinierter Bewegungssensor zum Einsatz in Feedback-Regelsystemen zur Schwingungsisolation |
DE102009024268B4 (de) | 2009-06-05 | 2015-03-05 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Magnetfeldkompensation |
DE102009024826A1 (de) * | 2009-06-13 | 2011-01-27 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Kompensation elektromagnetischer Störfelder |
EP2405460B1 (en) * | 2010-07-09 | 2013-02-20 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Electron beam device with tilting and dispersion compensation, and method of operating same |
DE102011106433B4 (de) * | 2011-07-04 | 2016-10-13 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Integrierbare Magnetfeldkompensation für den Einsatz an Raster- und Transmissionselektronenmikroskopen, Schwingungsisolationssystem sowie Verfahren zum Abbilden, Untersuchen und / oder Bearbeiten einer Probe |
-
2011
- 2011-07-04 DE DE102011106433.1A patent/DE102011106433B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-07-02 EP EP12004906.9A patent/EP2544214B1/de active Active
- 2012-07-03 US US13/540,783 patent/US8592777B2/en active Active
- 2012-07-04 JP JP2012150279A patent/JP5947128B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006287015A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Canon Inc | 荷電粒子線露光装置 |
JP2009289468A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102011106433B4 (de) | 2016-10-13 |
US8592777B2 (en) | 2013-11-26 |
EP2544214A3 (de) | 2016-06-01 |
US20130009056A1 (en) | 2013-01-10 |
JP5947128B2 (ja) | 2016-07-06 |
EP2544214A2 (de) | 2013-01-09 |
EP2544214B1 (de) | 2017-09-06 |
DE102011106433A1 (de) | 2013-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6604704B2 (ja) | 基板の検査装置、基板の検査方法、大面積基板検査装置、及びその操作方法 | |
JP5947128B2 (ja) | 帯電粒子を用いて試料を結像、検査又は処理する装置及び方法 | |
JP6002470B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
KR101892138B1 (ko) | 객체의 파지, 위치 결정 및/또는 이동 장치 | |
US9679740B2 (en) | Charged particle beam device | |
TW201714198A (zh) | 用於檢查樣品及/或成像樣品的帶電粒子束裝置及方法 | |
EP3021347A1 (en) | Charged Particle Microscope with barometric pressure correction | |
CN113597520B (zh) | 具有磁执行器的振动隔离***及磁执行器 | |
US10591018B2 (en) | Vibration-suppressing mechanism to be attached to charged particle beam device, and charged particle beam device | |
JP4431459B2 (ja) | 集束イオン・ビーム装置及び集束イオン・ビーム照射方法 | |
JP2013084344A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
TW201921407A (zh) | 電子束檢測設備載物台定位 | |
AU2022402277A1 (en) | Apparatus and method for analysing a sample by means of electrically charged particles | |
EP4404249A1 (en) | Stage device, charged particle beam device, and vacuum device | |
US5814814A (en) | Electron microscope | |
JPH08273570A (ja) | 試料に対する精密作業を行う装置 | |
JP2020057680A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP7336594B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP3865752B2 (ja) | 局所分析装置 | |
WO2021152793A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び振動抑制機構 | |
CN111383877B (zh) | 用于观察样本的设备和方法 | |
JP2013137915A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2017050047A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140206 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141028 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150424 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160125 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160506 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160602 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5947128 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |