JP5943187B2 - 振動素子、振動子、電子デバイス、および電子機器 - Google Patents

振動素子、振動子、電子デバイス、および電子機器 Download PDF

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Description

本発明は、振動素子、振動子、電子デバイス、および電子機器に関する。
近年、小型化の傾向にある圧電振動素子において、CI(クリスタルインピーダンス)値の低減が望まれている。CI値の低減や振動エネルギーの閉じ込めを目的として、メサ構造を採るものが知られている。
例えば特許文献1には、メサ構造を得るための基板の堀量の最適値を定めた圧電振動素子が提案されている。より具体的には、特許文献1には、堀量をMd、水晶基板の長辺の長さをx、振動部の厚みをtとした時に、厚みtを基準として、段差部の堀量Mdの厚みtに対する比の百分率yとすると、y=−1.32×(x/t)+42.87の関係を満足することにより、CI値の特性変化がフラットとなる最小の堀量Mdを選択できることが記載されている。
さらに、特許文献2には、基板の堀量の最適値のみならず、圧電振動素子を実装基板に実装する際に塗布される導電性接着剤の塗布範囲における長辺の長さの範囲を規定することにより、不要モードの結合を抑制しつつCI値の低減も促すことが記載されている。
また、特許文献3には、振動部の端部から励振電極の端部の長さを規定することにより、CI値の増加などの特性劣化を抑制することが記載されている。
このように、CI値は、様々な観点から低減が図られている。
特開2007−124441号公報 特開2008−263387号公報 特開2010−28610号公報
本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、CI値を低減することができる振動素子を提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記振動素子を有する振動子を提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記振動素子を有する電子デバイスを提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記振動素子を有する電子機器を提供することにある。
本発明は前述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。
[適用例1]
本適用例に係る振動素子は、
厚みすべり振動で振動し2段メサ構造である振動部と、前記振動部の外縁に沿って配置され前記振動部の厚みよりも厚みが薄い外縁部と、を含む基板と、
前記振動部に設けられている励振電極と、
を備え、
前記外縁部の主面から前記振動部の1段目の段差までの大きさをMd1とし、
前記1段目の段差から2段目の段差までの大きさをMd2とし、
前記基板の材料の密度をd、前記励振電極の材料の密度をd、前記2段目のメサの主面上の前記励振電極の厚みをtとすると、
((Md2+(d/d)×t))/Md1≦1.4
の関係を満たす。
このような振動素子によれば、CI値を低減することができる(詳細は後述)。
[適用例2]
本適用例に係る振動素子において、
0.5≦((Md2+(d/d)×t))/Md1≦1.4
の関係を満たしてもよい。
このような振動素子によれば、より確実に、CI値を低減することができる(詳細は後述)。
[適用例3]
本適用例に係る振動素子において、
前記基板は、回転Yカット水晶基板であってもよい。
このような振動素子によれば、CI値を低減することができる。
[適用例4]
本適用例に係る振動素子において、
前記振動部の外形は、平面視において、矩形であり、
前記振動部の1段目の前記厚みすべり振動の振動方向に沿った長さは、前記振動部の2段目の前記厚みすべり振動の振動方向に沿った長さよりも大きくてもよい。
このような振動素子によれば、CI値を低減することができる。
[適用例5]
本適用例に係る振動素子において、
前記励振電極の外形は、平面視において、前記振動部の2段目の外形と同じであってもよい。
このような振動素子によれば、CI値を低減することができる。
[適用例6]
本適用例に係る振動子は、
本適用例に係る振動素子と、
前記振動素子を収容するパッケージと、
を含む。
このような振動子によれば、CI値を低減することができる振動素子を有することができる。
[適用例7]
本適用例に係る電子デバイスは、
本適用例に係る振動素子と、
電子素子と、
を含む。
このような振動子によれば、CI値を低減することができる振動素子を有することができる。
[適用例8]
本適用例に係る電子機器は、
本適用例に係る振動素子を含む。
このような電子機器によれば、CI値を低減することができる振動素子を有することができる。
本実施形態に係る振動素子を模式的に示す斜視図。 本実施形態に係る振動素子を模式的に示す平面図。 本実施形態に係る振動素子を模式的に示す断面図。 本実施形態に係る振動素子を模式的に示す断面図。 ATカット水晶基板を模式的に示す斜視図。 実験例に用いた振動素子を模式的に示す断面図。 実験例に用いた振動素子を模式的に示す断面図。 メサ構造の段差の大きさと、CI値との関係を示したグラフ。 本実施形態の変形例に係る振動素子を模式的に示す平面図。 本実施形態の変形例に係る振動素子を模式的に示す断面図。 本実施形態に係る振動子を模式的に示す断面図。 本実施形態の変形例に係る振動子を模式的に示す断面図。 本実施形態に係る電子デバイスを模式的に示す断面図。 本実施形態の変形例に係る電子デバイスを模式的に示す断面図。 本実施形態に係る電子機器を模式的に示す平面図。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1. 振動素子
まず、本実施形態に係る振動素子について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る振動素子100を模式的に示す斜視図である。図2は、本実施形態に係る振動素子100を模式的に示す平面図である。図3は、本実施形態に係る振動素子100を模式的に示す図2のIII−III線断面図である。図4は、本実施形態に係る振動素子100を模式的に示す図2のIV−IV線断面図である。
振動素子100は、図1〜図4に示すように、振動片10と、励振電極20a,20bと、接続電極22と、マウント電極24と、を含むことができる。
振動片10は、振動部12aおよび外縁部12bを有するメサ構造の圧電基板(基板)12を含んで構成されている。圧電基板12の材質は、圧電材料であり、例えば、圧電基板12として、ATカット水晶基板などの回転Yカット基板を用いる。
ここで、図5は、ATカット水晶基板2を模式的に示す斜視図である。水晶等の圧電材料は、一般的に三方晶系であり、図5に示すような結晶軸(X,Y,Z)を有する。X軸は電気軸であり、Y軸は機械軸であり、Z軸は光学軸である。回転Yカット基板は、XZ平面を、X軸周りに角度θだけ回転させた平面に沿って、圧電材料(例えば、人工水晶)から切り出された平板である。ここで、例えば、ATカット水晶基板2の場合は、θ=35°15′である。また、Y軸およびZ軸もX軸周りにθ回転させて、それぞれY´軸およびZ´軸とする。したがって、回転Yカット基板は、結晶軸(X,Y´,Z´)軸を有する。θ=35°15′であるATカット水晶基板2は、Y´軸に直交するXZ´面(X軸およびZ´軸を含む面)が主面(励振面)となり、厚みすべり振動を主振動として振動することができる。このATカット水晶基板2を加工して、圧電基板12を得ることができる。
すなわち、圧電基板12は、例えば、図5に示すように水晶の結晶軸である、電気軸としてのX軸と、機械軸としてのY軸と、光学軸としてのZ軸と、からなる直交座標系のX軸を中心として、Z軸をY軸の−Y方向へ傾けた軸をZ´軸とし、Y軸をZ軸の+Z方向へ傾けた軸をY´軸とし、X軸とZ´軸に平行な面で構成され、Y´軸に平行な方向を厚みとするATカット水晶基板からなる。
なお、圧電基板12は、ATカット水晶基板に限定されない。例えば、θ=−49°(図5に示すθの矢印方向とは反対に49°回転)とすることにより、BTカット水晶基板を得ることができる。また、水晶の結晶のY軸に直交する面をX軸を中心にして約33°回転し、さらにこの回転した位置からZ軸を中心にして約22°回転した面から切り出すことにより、SCカット水晶基板を得ることができる。
圧電基板12の形状(外形)は、図2に示すように平面視において(Y´軸方向から見て)、矩形である。圧電基板12の長辺は、水晶結晶のX軸に沿って形成され、圧電基板12の短辺は、水晶結晶のX軸と直交するZ´軸に沿って形成されている。圧電基板12は、厚みすべり振動が励振され、厚みすべり振動を主振動として振動することができる。
圧電基板12は、図3に示すように、第1主面13aと、第2主面13bと、を有している。主面13a、13bは、XZ´平面に平行な面である。図示の例では、第1主面13aは、+Y´軸方向を向く面であり、第2主面13bは、−Y´軸方向を向く面である。
圧電基板12は、2段メサ構造を有している。すなわち、圧電基板12は、第1主面13aよりも+Y´軸方向に位置し、高さ(Y´軸方向における第1主面13aとの間の距離)が異なる2つの面を有している。さらに、圧電基板12は、第2主面13bよりも−Y´軸方向に位置し、高さ(Y´軸方向における第2主面13bとの間の距離)が異なる2つの面を有している。圧電基板12が2段メサ構造であることによって、振動素子100は、高いエネルギー閉じ込め効果を有することができる。
圧電基板12は、2段型のメサ構造のうち、第1主面13a側の1段目を構成する第1部分14aおよび2段目を構成する第2部分16aと、第2主面13b側の1段目を構成する第1部分14bおよび2段目を構成する第2部分16bと、を有している。圧電基板12は、第1部分14aおよび第2部分16aと、第1部分14bおよび第2部分16bと、によって、図3に示すように、振動部12aのX軸方向の端部が階段形状となり、段差15a,15b,17a,17bが形成される。第1部分14aのX軸方向(圧電基板12の長辺と平行な方向)の長さは、第2部分16aのX軸方向の長さよりも大きく、第3部分14bのX軸方向の長さは、第4部分16bのX軸方向の長さよりも大きい。すなわち、振動部12aの1段目のX軸方向の長さ(振動部12aの厚みすべり振動の振動方向に沿った長さ)は、振動部12bの2段目のX軸方向の長さよりも大きい。
なお、図4に示すように、振動部12aのZ´軸方向の端部は、階段形状となっていない。すなわち、Z´軸方向における第1部分14aと第2部分16aとの端面は、面一であり、Z´軸方向における第3部分14bと第4部分16bとの端面は、面一である。
図3に示すように、外縁部12bの主面13aから振動部12aの1段目の段差15aまでのY´軸方向における大きさMd1は、第1部分14aの厚み(Y´軸方向の大きさ)である。外縁部12bの主面13bから振動部12aの1段目の段差15bまでのY´軸方向における大きさMd1は、第3部分14bの厚みである。振動部12aの1段目の段差15aから振動部12aの2段目の段差17aまでのY´軸方向における大きさMd2は、第2部分16aの厚みである。振動部12aの1段目の段差15bから振動部12aの2段目の段差17bまでのY´軸方向における大きさMd2は、第2部分16bの厚みである。図示の例では、第1部分14aと第3部分14bとは、圧電基板12の中心を通るXZ´平面に関して、対称に配置されている。同様に、第2部分16aおよび第4部分16bは、圧電基板12の中心を通るXZ´平面に関して、対称に配置されている。
第1部分14a、第2部分16a、第3部分14b、および第4部分16bの平面形状は、図2に示すように、X軸に沿った辺を長辺とし、Z´軸に沿った辺を短辺とする矩形である。第1部分14a、第2部分16a、第3部分14b、および第4部分16bは、振動部12aを構成することができる。
振動部12aは、圧電基板12のうち、外縁部12bの厚みt´よりも大きい厚みを有する部分である。具体的には、振動部12aは、厚みt´よりも大きい厚みt1を有する部分、および厚みt1よりも大きい厚みt2を有する部分を有している。すなわち、振動部12aは、2段メサ構造である。振動部12aは、厚みすべり振動が励振され、厚みすべり振動を主振動として振動することができる。このとき、厚みすべり振動はX軸方向に沿って振動することとなる。
振動部12aは、図2に示すように平面視において、外縁部12bに囲まれている。振動部12aの外形は、図2に示すように平面視において、厚みすべり振動の振動方向であるX軸に沿った辺を長辺とし、厚みすべり振動の振動方向に直交するZ´軸に沿った辺を短辺とする矩形である。
外縁部12bは、平面視において、振動部12aの外縁に沿って(周辺に)配置されている。外縁部12bは、振動部12aの厚みよりも薄い厚みを有している。より具体的には、外縁部12bは、振動部12の厚みよりも小さい厚みt´を有している。
振動部12aおよび外縁部12bを有する圧電基板12は、板状の圧電基板(図示せず)の、振動部12aとなる部分を保護膜(図示せず)で覆い、外縁部12bとなる部分をケミカルエッチング(エッチング)することによって形成される。さらに、第2部分16aおよび第4部分16bとなる部分を保護膜で覆い、第1部分14aおよび第3部分14bとなる部分をケミカルエッチングすることによって、2段メサ構造を有する圧電基板12を形成することができる。
第1励振電極20aは、2段目のメサの第1主面13a上に設けられている。より具体的には、第1励振電極20aは、第2部分16aの表面に設けられている。図2に示す例では、第1励振電極20aは、第2部分16aと同じ平面形状を有し、第1励振電極20aと第2部分16aとは、完全に重なっている。すなわち、第1励振電極20aの外形は、平面視において、振動部12aの2段目の外形と同じである。
第2励振電極20bは、2段目のメサの第2主面13b上に設けられている。より具体的には、第2励振電極20bは、第4部分16bの表面に設けられている。図2に示す例では、第2励振電極20bは、第4部分16bと同じ平面形状を有し、第2励振電極20bと第4部分16bとは、完全に重なっている。すなわち、第2励振電極20bの外形は、平面視において、振動部12aの2段目の外形と同じである。
励振電極20a,20bは、振動部12aを挟んで設けられている。励振電極20a,20bは、振動部12aに電圧を印加することができる。励振電極20a,20bは、接続電極22を介して、マウント電極24と接続されている。マウント電極24は、外縁部12bの第2主面13bに設けられている。マウント電極24は、例えば、振動部12aよりも+X軸方向に設けられている。
励振電極20a,20b、接続電極22、およびマウント電極24としては、例えば、圧電基板12側から、クロム、金をこの順で積層した金属材料を用いる。励振電極20a,20b、接続電極22、およびマウント電極24は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法により形成される。
ここで、振動素子100は、外縁部12bの主面13a,13bから振動部12aの1段目の段差15a,15bまでのY´軸方向における大きさをMd1とし、振動部12aの1段目の段差15a,15bから振動部12aの2段目の段差17a,17bまでのY´軸方向における大きさをMd2とし、励振電極20の圧電材料換算厚みをtとすると、
(Md2+t)/Md1≦1.4 (1)
の関係を満たし、さらに、
0.5≦(Md2+t)/Md1≦1.4 (2)
の関係を満たすことができる。
ただし、圧電基板12の材料(より具体的には圧電材料)の密度をdとし、励振電極20a,20bの材料(より具体的には金属材料)の密度をdとし、励振電極20a,20bの厚み(実際の厚み)をtとすると、tは、
=(d/d)×t (3)
の関係を満たす。
(3)式より、(1)式は、
((Md2+(d/d)×t)/Md1)≦1.4 (4)
と表すことができる。
また、(3)式より、(2)式は、
0.5≦(((Md2+(d/d)×t)/Md1)≦1.4 (5)
と表すことができる。
式(4)を満たすことにより、振動素子100は、低いCI値を有することができる。さらに、振動素子100は、式(5)を満たすことにより、より確実に、低いCI値を有することができる。詳細は後述する。
2. 実験例
次に、実験例について説明する。なお、本発明は、以下の実験例によって何ら限定されるものではない。
実験例として、振動素子Sを用いたシミュレーションを行った。図6および図7は、振動素子Sを模式的に示す断面図である。以下、実験例に用いた振動素子Sにおいて、本実施形態に係る振動素子100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図6(b)では、振動素子Sは、接続部材30を介して、パッケージベース40に接合(固定)されている。より具体的には、振動素子Sは、パッケージベース40に設けられた端子42に固定されている。
図6(b)に示す振動素子Sにおける、圧電基板12の端部からのX軸方向の各位置での振動変位量は、図6(a)のようになり、破線で囲まれた領域A(マウント部:圧電基板12の端部から約0.2(mm)前後)における振動変位が、マウントの影響により損失されるCI成分となる。
図7に示す振動素子Sは、圧電基板12の第2部分16aおよび第4部分16bの厚み(段差15a,15bから振動部12aの2段目の段差17a,17bまでのY´軸方向における大きさ)を(Md2+t)としたこと以外は、基本的に、振動素子100と同じ構成である。本実験例では、圧電基板12として、ATカット水晶基板を用いた。なお、図7に示す振動素子Sは、接続電極22、およびマウント電極24を有していない。
ここで、tは、励振電極20a,20bの圧電材料換算厚みであり、圧電基板12を構成する圧電材料(水晶)の密度をdとし、励振電極20a,20bを構成する金属材料の密度をdとし、励振電極20a,20bの実際の厚みをtとすると、
=(d/d)×t (3)
と表すことができる。
上記のような図7に示す振動素子Sにおいて、Md1に対する(Md2+t)の値を変えて、CI値を解析するシミュレーションを行った。図8は、Md1に対する(Md2+t)の比r(=(Md2+t)/Md1)と、CI値との関係を示すグラフである。より具体的には、比rが0.5以上となる範囲で解析を行った。なお、図8において、CI値は、(Md2+t)=Md1の場合のCI値で基準化した値を示している。
一般にCI値には、他に大気への振動の漏洩(圧電基板が曝されている環境雰囲気の影響)、圧電基板の内部でのエネルギー損失(材質の影響)、等の成分があるが、これらの成分の影響が一定の場合、CI値はマウントの影響度で表すことができる。図8は、Md1に対する(Md2+t)の比r(=(Md2+t)/Md1)と、前述の見識に基づいて表したCI値と、の関係を示すグラフである。
図8より、比rが1.4より大きくなると、急激にCI値が増加することがわかった。したがって、
(Md2+t)/Md1≦1.4 (1)
の関係を満たすことにより、振動素子Sは、CI値を低減できることがわかった。すなわち、式(1)および式(3)より、
((Md2+(d/d)×t)/Md1)≦1.4 (4)
の関係を満たすことにより、振動素子Sは、CI値を低減できることがわかった。
より具体的には、
0.5≦(Md2+t)/Md1≦1.4 (2)
の関係を満たすことにより、振動素子Sは、より確実に、CI値を低減できることがわかった。すなわち、式(2)および式(3)より、
0.5≦((Md2+(d/d)×t)/Md1)≦1.4 (5)
の関係を満たすことにより、振動素子Sは、より確実に、CI値を低減できることがわかった。
1段メサに対して、メサの段数を増やして2段メサとすることによって、振動部12aに閉じ込められる主振動の厚み滑り振動のエネルギー閉じ込めをより強固にするためには少なくとも(Md2+t)/Md1が0.5以上であることが好適であることが判明した。(Md2+t)/Md1が0より大きく0.5未満である場合、1段メサよりも前記エネルギー閉じ込めを強くすることはできるが、1段目の厚みが薄くなってしまうので、2段メサの前記エネルギー閉じ込めの強化を十分発揮することができないことがわかった。
ここで、(Md2+t)/Md1=1.4のときの、各パラメーターの具体的な値の一例を示すと、メサ構造の1段目の段差の大きさMd1=5(μm)、メサ構造の2段目の段差の大きさMd2=3.35(μm)、励振電極20a,20bの実際の厚みt=0.5(μm)、圧電基板12を構成する圧電材料(水晶)の密度d=2.65(g/cm)、励振電極20a,20bを構成する金属材料(クロムおよび金の積層体)の密度d=19.32(g/cm)である。
なお、本実験例(シミュレーション)では、メサ構造を得るための圧電基板12の堀量(振動部12aの厚みtと外縁部12bの厚みt´との差)をMdとし、圧電基板12の長辺の長さをxとし、振動部12aの厚みをtとすると、堀量Mdの、振動部12aの厚みtに対する比の百分率zは、
z=−1.32×(x/t)+42.87 (%) (6)
の関係を満たす振動素子Sを用いた。ここで、振動部12aの厚みtは、振動部12aの最大の厚みを表している。
式(6)を満たすことにより、CI値の特性変化がフラットとなる最小の堀量Mdの値を選択することができる。すなわち、堀量Mdが大きいほど、CI値は低減する傾向にあるが、堀量Mdを形成するためのエッチング時間を長くすると、エッチング箇所以外の箇所に形成した保護膜が劣化し、エッチング食われが生じることがある。エッチング食われは、保護膜の状態や圧電基板の状態に応じて異なる傾向を示すため、エッチング食われの影響により圧電基板形状のばらつきが大きくなることがある。また、エッチング時間が長くなることにより、製造コストが高くなることがある。さらに、主振動モードに対する不要モードの結合は、堀量Mdの増加に伴うCI値の低下と逆の傾向を示す。このため、堀量Mdを増加させた場合には、主モードである厚みすべりモードに不要モードである屈曲モード等が乗りやすくなるため、振動特性の悪化を招く可能性がある。したがって、堀量Mdとして、CI値の特性変化がフラットとなる最小の値を選択することができれば、上述したエッチング食われや振動特性の悪化の可能性を低くし、良好な振動特性を得ることができる。
ここで、堀量Mdの、振動部12aの厚みtに対する比の百分率zは、式(6)から算出される値より5%小さくても、十分にCI値の低減を図ることができる。したがって、zは、
−5≦z+1.32×(x/t)−42.87 (%) (7)
の関係を満たしていればよい。
さらに、堀量Mdの、振動部12aの厚みtに対する比の百分率zは、式(6)から算出される値より5%大きくても、エッチング食われが生じることや、主振動モードに対して不要モードが結合することを、十分に抑制することができる。したがって、zは、
−5≦z+1.32×(x/t)−42.87≦5 (%) (8)
の関係を満たしていればよい。
なお、式(6)は、辺比x/t(振動部12aの厚みtに対する、圧電基板12の長辺の長さxを表す比)ごとに堀量Mdを変化させてCI値の変化を解析する実験を行い、CI値の特性変化がフラットとなる堀量Mdの最小値Md_minを求めることにより、算出した式である。
また、辺比x/tは、30以下であることが望ましい。辺比x/tが30を超えると、Md_minの値は、著しく小さくなるため、圧電基板をメサ型に形成する必要が無くなる。すなわち、圧電基板をメサ型に形成しなくても、十分に低いCI値を有することができる。したがって、辺比x/tが30以下である圧電基板をメサ型に形成することにより、小型化を図りつつ、CI値を低減することができる。本実験例では、辺比x/tの値を、13とした。
なお、本実験例では、圧電基板12としてATカット水晶基板を用いたが、本実験例は、ATカット水晶基板以外の圧電基板を用いた場合にも適用することができる。ただし、圧電基板の加工、すなわちメサ加工の容易性等の側面から、圧電基板12としては、水晶基板を用いることが望ましい。
また、本実験例では、振動部12aのZ´軸方向の端部は、階段形状となっていない振動素子Sを用いたが、本実験例は、Z´軸方向の端部は、階段形状となっている振動素子(後述する振動素子200参照)についても適用することができる。
3. 振動素子の変形例
次に、本実施形態の変形例に係る振動素子について、図面を参照しながら説明する。図9は、本実施形態の変形例に係る振動素子200を模式的に示す平面図である。図10は、本実施形態の変形例に係る振動素子200を模式的に示す図9のX−X線断面図である。以下、振動素子200において、振動素子100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
振動素子100では、図2および図4に示すように、振動部12aのZ´軸方向の端部は、階段形状となっていなかった。すなわち、Z´軸方向における第1部分14aと第2部分16aとの端面は、面一であり、Z´軸方向における第3部分14bと第4部分16bとの端面は、面一であった。
これに対し、振動素子200では、図9および図10に示すように、振動部12aのZ´軸方向の端部は、階段形状となり、段差が形成される。第1部分14aのZ´軸方向の長さは、第2部分16aのZ´軸方向の長さよりも大きく、第3部分14bのZ´軸方向の長さは、第4部分16bのZ´軸方向の長さよりも大きい。
振動素子200によれば、振動素子100と同様に、式(4)を満たすことにより、CI値を低減することができる。
4. 振動子
次に、本実施形態に係る振動子について、図面を参照しながら説明する。図11は、本実施形態に係る振動子300を模式的に示す断面図である。
振動子300は、図11に示すように、本発明に係る振動素子と、パッケージ55と、を含む。以下では、本発明に係る振動素子として、振動素子100を用いた例について説明する。
パッケージ55は、振動素子100を収容している。パッケージ55は、パッケージベース40と、リッド50と、を有することができる。
パッケージベース40には、凹部48が形成され、凹部48内に振動素子100が配置されている。パッケージベース40の平面形状は、凹部48内に振動素子100を配置することができれば、特に限定されない。パッケージベース40としては、例えば、セラミックグリーンシートを成形して積層し焼成した酸化アルミニウム質焼結体、水晶、ガラス、シリコンなどの材料を用いる。
パッケージベース40の第1面(図示の例では凹部48の内側の底面)40aには、導電性接着剤30を介して、振動素子100が接合(実装)されている。より具体的には、導電性接着剤30は、第1面40aに設けられた第1端子42と、振動素子100のマウント電極24と、を接合している。
パッケージベース40の第2面(第1面40aと反対側の面)40bには、電子機器などの外部部材に実装される際に用いられる第2端子44a,44bが設けられている。第2端子44aは、パッケージベース40を貫通するコンタクト部(図示せず)を介して、第1端子42に接続されていてもよい。これにより、第2端子44aと第1励振電極20aとを電気的に接続することができる。
なお、第1面40aには、図示しない端子が設けられており、該端子と第2励振電極20bとは、電気的に接続されていてもよい。そして、該端子と、第2端子44bとは、パッケージベース40を貫通するコンタクト部(図示せず)を介して、接続されていてもよい。これにより、第2端子44bと第2励振電極20bとを電気的に接続することができる。
第1端子42および第2端子44a,44bとしては、例えば、タングステンなどのメタライス層に、ニッケル、金などの皮膜をめっきなどの方法により積層した金属膜を用いる。
リッド50は、パッケージベース40の凹部48を覆って設けられている。図示の例では、リッド50の形状は、板状である。リッド50としては、例えば、パッケージベース40と同じ材料や、コバール、42アロイ、ステンレス鋼などの金属を用いる。リッド50は、例えば、シームリング、低融点ガラス、接着剤などの接合部材60を介して、パッケージベース40に接合されている。
パッケージベース40の気密に封止された凹部48内は、減圧された真空状態(真空度の高い状態)または、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスが充填された状態となっている。
振動子300は、CI値を低減することができる振動素子100を有することができる。
5. 振動子の変形例
次に、本実施形態の変形例に係る振動子について、図面を参照しながら説明する。図12は、本実施形態の変形例に係る振動子400を模式的に示す断面図である。以下、振動子400において、振動子300の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
振動子300では、図11に示すように、パッケージベース40に凹部48が設けられていた。これに対し、振動子400では、図12に示すように、パッケージベース40には、凹部48が設けられておらず、パッケージベース40は、平板状の形状を有している。
振動子400では、リッド50は、全周につば部52が設けられたキャップ状(容器状)の形状を有しており、その内側の空間54に、振動素子100を収容することができる。つば部52は、接合部材60を介して、パッケージベース40に接合されている。リッド50としては、例えば、コバール、42アロイ、ステンレス鋼などの金属を用いる。
振動子400によれば、振動子300に比べて、パッケージベース40に凹部48を設けなくてよいため、その分パッケージベース40の製造が容易となり、製造コストを削減することができる。
6. 電子デバイス
次に、本実施形態に係る電子デバイスについて、図面を参照しながら説明する。図13は、本実施形態に係る電子デバイス500を模式的に示す断面図である。
電子デバイス500は、図13に示すように、本発明に係る振動素子と、電子素子70と、を含む。より具体的には、電子デバイス500は、本発明に係る振動子を含む。以下では、本発明に係る振動子として、振動素子100を備えた振動子300を用いた例について説明する。
電子素子70は、パッケージ55に収容されている。より具体的には、電子素子70は、パッケージベース40に設けられた凹部48内に配置されている。電子素子70としては、例えば、振動素子100を駆動する発振回路を備えたICチップを用いる。さらに、ICチップは、振動素子100の温度変化に伴う周波数変動を補正する温度補償回路を備えていてもよい。電子素子70として発振回路を備えたICチップを用いる場合、電子デバイス500は、発振器として機能することができる。なお、電子素子70は、上記のようなICチップに限定されず、例えば、サーミスター、コンデンサー、リアクタンス素子であってもよい。
電子素子70は、バンプ72を介して、パッケージベース40の第1面40aに設けられた第3端子46と電気的に接続されている。第3端子46は、例えば、図示しない配線によって、第1端子42と接続されている。これにより、電子素子70と第1励振電極20aとを電気的に接続することができる。また、電子素子70は、図示しない配線によって、第2励振電極20bと電気的に接続されていてもよい。
バンプ72としては、例えば、金、ニッケルなど金属バンプを用いる。第3端子46としては、例えば、タングステンなどのメタライス層に、ニッケル、金などの皮膜をめっきなどの方法により積層した金属膜を用いる。
なお、図示はしないが、電子素子70は、バンプ72の変わりに、ワイヤーによって、第3端子46と電気的に接続されていてもよい。
電子デバイス500によれば、CI値を低減することができる振動素子100を有することができる。
7. 電子デバイスの変形例
次に、本実施形態の変形例に係る電子デバイスについて、図面を参照しながら説明する。図14は、本実施形態の変形例に係る電子デバイス600を模式的に示す断面図である。以下、電子デバイス600において、電子デバイス500の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
電子デバイス500では、図13に示すように、電子素子70は、パッケージベース40の第1面40a側に設けられ、パッケージベース40に設けられた凹部48内に配置されていた。これに対し、電子デバイス600では、電子素子70は、図14に示すように、パッケージベース40の第2面40bが底面となる凹部49内に設けられている。電子デバイス600では、パッケージベース40は、略H型の形状を有することができる。
電子素子70は、接着剤(図示せず)によって、第2面40bに接合されていてもよい。電子素子70は、ワイヤー74を介して、第2面40bに設けられた第3端子46と電気的に接続されている。ワイヤー74の材質は、例えば、金である。
なお、図示はしないが、電子素子70は、ワイヤー74の変わりに、バンプによって、第3端子46と電気的に接続されていてもよい。
電子デバイス600によれば、振動素子100と電子素子70とを分離し、振動素子100を単独で気密封止しているために、良好な周波数エージング特性を有することができる。
8. 電子機器
次に、本実施形態に係る電子機器について、図面を参照しながら説明する。図15は、本実施形態に係る電子機器として、形態電話(スマートフォン)を模式的に示す平面図である。
スマートフォン700は、本発明に係る振動素子を含む。より具体的には、スマートフォン700は、本発明に係る電子デバイスを含む。以下では、図15に示すように、本発明に係る電子デバイスとして、振動素子100を備えた電子デバイス500を用いた例について説明する。なお、便宜上、図15では、電子デバイス500を簡略化して図示している。
スマートフォン700は、電子デバイス500を、例えば、基準クロック発振源などのタイミングデバイスとして用いる。スマートフォン700は、さらに、表示部(液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等)701、操作部702、および音出力部703(マイクロフォン等)を有することができる。スマートフォン700は、表示部701に対する接触検出機構を設けることで表示部701を操作部として兼用してもよい。
スマートフォン700によれば、CI値を低減することができる振動素子100を有することができる。
なお、スマートフォン(形態電話)700に代表される電子機器は、上述したように、振動素子100を駆動する発振回路と、振動素子100の温度変化に伴う周波数変動を補正する温度補償回路と、を備えていることが好ましい。
これによれば、スマートフォン700に代表される電子機器は、振動素子100を駆動する発振回路と共に、振動素子100の温度変化に伴う周波数変動を補正する温度補償回路を備えていることから、発振回路が発振する共振周波数を温度補償することができ、温度特性に優れた電子機器を提供することができる。
本発明に係る振動片を備えた電子機器は、上記スマートフォンに限らず、電子ブック、パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルスチールカメラ、ビデオカメラ、ビデオレコーダー、ナビゲーション装置、ベージャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器などのタイミングデバイスとして好適にも用いることができる。
上述した実施形態および変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば、各実施形態および各変形例を適宜組み合わせることも可能である。
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
2…ATカット水晶基板、10…振動片、12…圧電基板、12a…振動部、12b…外縁部、13a…第1主面、13b…第2主面、14a…第1部分、14b…第3部分、15a,15b…段差、16a…第2部分、16b…第4部分、17a,17b…段差、18…固定部、20a…第1励振電極、20b…第2励振電極、22…接続電極、24…マウント電極、30…導電性接着剤、40…パッケージベース、40a…第1面、40b…第2面、42…第1端子、44a,44b…第2端子、46…第3端子、48…凹部、49…凹部、50…リッド、52…つば部、54…空間、55…パッケージ、60…接合部材、70…電子素子、72…バンプ、74…ワイヤー、100,200…振動素子、300,400…振動子、500,600…電子デバイス、700…スマートフォン、701…表示部、702…操作部、703…音出力部

Claims (6)

  1. 厚みすべり振動し2段メサ構造である振動部と、前記振動部の外縁に沿って配置され前記振動部の厚みよりも厚みが薄い外縁部と、を含むATカット水晶基板と、
    前記振動部に設けられている励振電極と、
    を備え、
    前記外縁部の主面から前記振動部の1段目の段差までの大きさをMd1とし、
    前記1段目の段差から2段目の段差までの大きさをMd2とし、
    前記ATカット水晶基板の材料の密度をd、前記励振電極の材料の密度をd、前記2段目のメサの主面上の前記励振電極の厚みをtとすると、
    0.5≦((Md2+(d/d)×t))/Md1≦1.4
    の関係を満たす、振動素子。
  2. 請求項1において、
    前記振動部の外形は、平面視において、矩形であり、
    前記振動部の1段目の前記厚みすべり振動の振動方向に沿った長さは、前記振動部の2段目の前記厚みすべり振動の振動方向に沿った長さよりも大きい、振動素子。
  3. 請求項1または2において、
    前記励振電極の外形は、平面視において、前記振動部の2段目の外形と同じである、振動素子。
  4. 請求項1ないしのいずれか1項に記載の振動素子と、
    前記振動素子を収容するパッケージと、
    を含む、振動子。
  5. 請求項1ないしのいずれか1項に記載の振動素子と、
    電子素子と、
    を含む、電子デバイス。
  6. 請求項1ないしのいずれか1項に記載の振動素子を含む、電子機器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202535316U (zh) 2011-03-09 2012-11-14 精工爱普生株式会社 振动元件、振子、振荡器以及电子设备
JP5708089B2 (ja) * 2011-03-18 2015-04-30 セイコーエプソン株式会社 圧電振動素子、圧電振動子、圧電発振器及び電子デバイス
US9707593B2 (en) 2013-03-15 2017-07-18 uBeam Inc. Ultrasonic transducer
JP6644457B2 (ja) * 2014-03-26 2020-02-12 Tdk株式会社 圧電デバイス
US9660610B2 (en) * 2014-05-30 2017-05-23 Kyocera Crystal Device Corporation Crystal device and mounting arrangement
JP6390836B2 (ja) 2014-07-31 2018-09-19 セイコーエプソン株式会社 振動片、振動子、振動デバイス、発振器、電子機器、および移動体
US10099253B2 (en) * 2014-12-10 2018-10-16 uBeam Inc. Transducer with mesa
JP2016140024A (ja) * 2015-01-29 2016-08-04 セイコーエプソン株式会社 振動片、振動子、振動デバイス、発振器、電子機器、および移動体
JP2016152477A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 セイコーエプソン株式会社 振動子、振動デバイス、発振器、電子機器、および移動体
WO2016132766A1 (ja) * 2015-02-19 2016-08-25 株式会社村田製作所 水晶振動子及び水晶振動デバイス
JP6549452B2 (ja) * 2015-09-03 2019-07-24 日本電波工業株式会社 水晶振動子
WO2017051781A1 (ja) * 2015-09-25 2017-03-30 株式会社村田製作所 水晶片及び水晶振動子
CN108352821B (zh) 2015-10-08 2021-11-23 株式会社村田制作所 水晶振动元件、以及具备该水晶振动元件的水晶振子
JP2017079347A (ja) * 2015-10-19 2017-04-27 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、電子機器、および移動体
JP2017079388A (ja) 2015-10-20 2017-04-27 セイコーエプソン株式会社 圧電振動子、電子機器及び移動体
JP2017139682A (ja) * 2016-02-05 2017-08-10 セイコーエプソン株式会社 振動片、振動片の製造方法、発振器、電子機器、移動体、および基地局
CN109690941B (zh) * 2016-08-31 2023-02-28 株式会社村田制作所 压电振子
WO2018070221A1 (ja) * 2016-10-11 2018-04-19 株式会社村田製作所 圧電振動子及びその製造方法
JP2018088656A (ja) * 2016-11-30 2018-06-07 京セラ株式会社 水晶素子および水晶デバイス
JP6998795B2 (ja) 2018-02-28 2022-01-18 京セラ株式会社 水晶振動素子及び水晶デバイス
CN113228502B (zh) * 2019-03-28 2024-06-07 株式会社村田制作所 压电振子及其制造方法
JP7237707B2 (ja) * 2019-04-11 2023-03-13 京セラ株式会社 水晶素子及び水晶デバイス

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5847316A (ja) * 1981-09-16 1983-03-19 Seikosha Co Ltd 厚みすべり圧電振動子およびその製法
JPH0210669A (ja) 1988-06-29 1990-01-16 Furukawa Electric Co Ltd:The 亜鉛−塩素電池の塩素吸収槽の水抜き方法
JPH10107580A (ja) 1996-09-25 1998-04-24 Daishinku Co 厚みすべり水晶振動板
JP3731348B2 (ja) 1998-06-09 2006-01-05 松下電器産業株式会社 圧電振動子
JP4696419B2 (ja) 2001-07-30 2011-06-08 エプソントヨコム株式会社 圧電振動子
JP4075893B2 (ja) 2004-05-21 2008-04-16 セイコーエプソン株式会社 水晶振動子の製造方法、その装置及び水晶振動子
JP2006166275A (ja) 2004-12-10 2006-06-22 Seiko Epson Corp 水晶デバイスの製造方法
JP4572807B2 (ja) 2005-10-31 2010-11-04 エプソントヨコム株式会社 メサ型圧電振動片
JP4341671B2 (ja) 2006-11-30 2009-10-07 エプソントヨコム株式会社 メサ型水晶振動子
JP2008263387A (ja) 2007-04-11 2008-10-30 Epson Toyocom Corp メサ型圧電振動片
JP5088686B2 (ja) * 2007-11-21 2012-12-05 セイコーエプソン株式会社 振動片および振動デバイス
JP5168003B2 (ja) 2008-07-23 2013-03-21 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片及び圧電デバイス
JP2010074422A (ja) * 2008-09-17 2010-04-02 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶振動子素子の製造方法、水晶振動子素子、水晶振動子及び水晶発振器
JP5239748B2 (ja) 2008-10-29 2013-07-17 セイコーエプソン株式会社 水晶振動片
JP2010187333A (ja) * 2009-02-13 2010-08-26 Seiko Instruments Inc 圧電振動子、圧電振動子の製造方法および発振器
JP5059897B2 (ja) * 2010-02-24 2012-10-31 日本電波工業株式会社 圧電振動片の製造方法
JP2011199065A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Seiko Instruments Inc 真空パッケージ、真空パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計
JP5625432B2 (ja) * 2010-03-26 2014-11-19 セイコーエプソン株式会社 圧電振動素子、及び圧電振動子
JP2012060628A (ja) * 2010-08-07 2012-03-22 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電デバイス及びその製造方法
JP5589167B2 (ja) 2010-11-19 2014-09-17 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片および圧電振動子
JP5505647B2 (ja) 2010-11-19 2014-05-28 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片および圧電振動子
JP5772082B2 (ja) 2011-03-09 2015-09-02 セイコーエプソン株式会社 圧電振動素子、圧電振動子、圧電発振器及び電子デバイス
CN202535316U (zh) 2011-03-09 2012-11-14 精工爱普生株式会社 振动元件、振子、振荡器以及电子设备
JP5772081B2 (ja) 2011-03-09 2015-09-02 セイコーエプソン株式会社 圧電振動素子、圧電振動子、圧電発振器及び電子デバイス
JP5708089B2 (ja) 2011-03-18 2015-04-30 セイコーエプソン株式会社 圧電振動素子、圧電振動子、圧電発振器及び電子デバイス

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