JP5937854B2 - オフセット印刷用凹版洗浄液組成物及びこれを用いた洗浄方法 - Google Patents

オフセット印刷用凹版洗浄液組成物及びこれを用いた洗浄方法 Download PDF

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Description

本発明は、オフセット印刷後、凹版に残留する固形化したインクを急速に除去することができるオフセット印刷用凹版洗浄液組成物及びこれを用いた洗浄方法に関するものである。
オフセット印刷法(offset-printing)は、有害な廃液が発生することなく低コストで数十〜数百μｍの大きさの微細パターンを精度良く印刷することができるという長所を有しており、フォトリソグラフィ工程を代替することができる技術として浮上してきている。
オフセット印刷法の中でも凹版オフセット印刷法は、線幅２００μｍ以下と小さく、高さも比較的高い微細パターンの形成が容易であり、高い電気伝導性が要求される配線用微細パターンの形成に適合した技術として注目されている。
凹版オフセット印刷法は、平坦な基材の一面に印刷しようとするパターンが陰刻に形成された凹版の陰刻部分にインクを充填し、この充填されたインクをブランケットに転写した後、これを被印刷体に再転写させる方法で成し遂げられる。このような凹版オフセット印刷法により形成された微細パターンの形状は、インクの流動性、凹版に加えられる圧力などによって影響されやすく、凹版に充填されたインクの一部がブランケットに転写されずに残留するようになったときは変形することもある。これにより、微細パターンの再現性を確保し難いといった短所がある。
これを解決するために、凹版オフセット印刷後、１回から数回凹版を定期的に洗浄する方法で残留するインクを除去している。洗浄液としては、通常の剥離液または洗浄液としてアミン系溶液が使用されているが、この溶液による固形化したインクの完全除去は困難であり、金属に対する腐食性も強いため別途腐食防止剤が必要となるといった短所がある。また、フッ素化合物を含む溶液も使用されているが、この溶液は安定性が悪く、フッ素含有量も高いといった短所もある。
また、通常の剥離液または洗浄液を利用する場合、除去速度が各々異なるブラックマトリクス(ＢＭ)、並びにアールジービー(ＲＧＢ)用の赤色(Ｒ)、緑色(Ｇ)及び青色(Ｂ)のインクを同時に除去することは困難であり、また、洗浄により溶解されたインクの洗浄を完了した後も凹版の表面に残留して再吸着されるといった問題が生じ得る可能性もあり、凹版オフセット印刷後に固形化したインクを短時間で除去することは困難であるため、インクの除去速度が遅くなり、かつ生産性の低下も引き起こし得る。
本発明は、腐食防止剤及びフッ素化合物を含まないため、凹版に損傷を与えることなく、かつ微細パターンが形成された凹版に残留するＢＭのみならず、ＲＧＢ用インクもともに急速かつ確実に除去することができるオフセット印刷用凹版洗浄液組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、オフセット印刷工程において、インライン(in-line)で前記オフセット印刷用凹版洗浄液組成物を用いて洗浄工程を連続して遂行することができる洗浄方法を提供することを他の目的とする。
１．有機アミン化合物１〜２５質量％、芳香族アルコール１０〜７０質量％、及び有機溶媒２０〜８０質量％を含むオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
２．前記有機アミン化合物は、下記化学式１で示される化合物である、上記項目１に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
(式中、Ｒ１〜Ｒ３は、独立して、水素原子、置換または非置換の炭素数１〜１０のアルキル基またはヒドロキシアルキル基、置換または非置換の炭素数２〜１０のアルケニル基またはヒドロキシアルケニル基、カルボキシル基、置換または非置換の炭素数５〜８のシクロアルキル基またはヒドロキシシクロアルキル基、フェニル基、或いはベンジル基であり、前記Ｒ１〜Ｒ３が置換される場合、炭素数１〜４のアルキル基で置換されたまたは非置換のアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、或いは、ヒドロキシ基で置換されたまたは非置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１０のアルキル基で置換され得る。)
３．前記芳香族アルコールは、下記化学式２で示される化合物である、上記項目１に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
(式中、Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、または炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基であり、Ｒ５は、水素原子、ヒドロキシ基、または炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基である。)
４．前記化学式２で示される化合物は、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、フェニルプロフェノール、フェニルプロパノール、ヒドロキシベンジルアルコール、及びヒドロキシフェネチルアルコールからなる群より選択される１種以上である、上記項目３に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
５．前記有機溶媒は、エーテル系化合物及びそのアセテート誘導体、アルコール系化合物、ピロリドン系化合物、アミド系化合物、イミダゾリジノン系化合物、ラクトン系化合物、スルホキシド系化合物、ホスフェート系化合物、カーボネート系化合物、並びにクレゾール系化合物からなる群より選択される１種以上である、上記項目１に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
６．前記有機溶媒は、エーテル系化合物及びそのアセテート誘導体の混合溶媒である、上記項目５に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
７．前記エーテル系化合物は、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、またはジプロピレングリコールモノメチルエーテルである、上記項目５に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
８．有機アミン化合物３〜１５質量％、芳香族アルコール２０〜５０質量％、及び有機溶媒３５〜７０質量％を含む、上記項目１に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
９．上記項目１〜８の何れか一項目に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物を用いて凹版に残留するインクを溶解させて除去する段階を含む洗浄方法。
１０．オフセット印刷工程においてインラインで連続して遂行される、上記項目９に記載の洗浄方法。
本発明によるオフセット印刷用凹版洗浄液組成物は、腐食防止剤及びフッ素化合物を含まないため、微細パターンが形成された凹版に損傷を与えずに印刷後の凹版に残留する固形化したインクを溶解させて急速に除去することができ、印刷パターンの再現性を確保することができる。
また、本発明の洗浄液組成物は、ＢＭのみならずＲＧＢ用インクもともに均一かつ急速にして同時に除去することができ、洗浄により除去されたインクが凹版の表面に再吸着されて凹版を再汚染させることを防止することができる。
また、本発明の洗浄液組成物及び洗浄方法は、オフセット工程に直接導入され、インライン(in-line)で洗浄工程を連続して遂行することができ、工程の歩留まり及び生産性を向上させることができる。
微細パターンが形成されたオフセット印刷用凹版の光学顕微鏡写真である。 本発明の実施例３による洗浄液組成物を用いて２０秒間洗浄した緑色の試片(ａ)及び黒色の試片(ｂ)の光学顕微鏡写真である。 本発明の比較例１による洗浄液組成物を用いて２０秒間洗浄した緑色の試片(ａ)及び黒色試片(ｂ)の光学顕微鏡写真である。
本発明は、オフセット印刷後、凹版に残留する固形化したインクを急速に除去することができるオフセット印刷用凹版洗浄液組成物及びこれを用いた洗浄方法に関するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物は、有機アミン化合物１〜２５質量％、芳香族アルコール１０〜７０質量％、及び有機溶媒２０〜８０質量％を含むことを特徴とする。
好ましくは、本発明のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物は、有機アミン化合物３〜１５質量％、芳香族アルコール２０〜５０質量％、及び有機溶媒３５〜７０質量％を含む。
有機アミン化合物は、凹版に残留する固形化したインクを膨潤させ、インクに含まれる顔料の分散を円滑にし、洗浄後のリンス工程において、溶解したインクを凹版に再吸着させずに除去する成分である。
有機アミン化合物としては、下記化学式１で示される化合物が挙げられる。
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、独立して、水素原子、置換または非置換の炭素数１〜１０のアルキル基またはヒドロキシアルキル基、置換または非置換の炭素数２〜１０のアルケニル基またはヒドロキシアルケニル基、カルボキシル基、置換または非置換の炭素数５〜８のシクロアルキル基またはヒドロキシシクロアルキル基、フェニル基、或いはベンジル基であり得る。また、これらＲ１〜Ｒ３が置換される場合、炭素数１〜４のアルキル基で置換されたまたは非置換のアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、或いは、ヒドロキシ基で置換されたまたは非置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１０のアルキル基で置換され得る。
化学式１で示される化合物は、メチルアミン、エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ペンチルアミン、モノエタノールアミン、モノプロパノールアミン、モノイソプロパノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、２−アミノ−１−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノール、２−(２−アミノエトキシ)エタノール、メチル(メトキシメチル)アミノエタン、メチル(メトキシメチル)アミノエタノール、メチル(ブトキシメチル)アミノエタノールなどの第一級アミン化合物、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、メチルエチルアミン、メチルプロピルアミン、メチルイソプロピルアミン、メチルブチルアミン、メチルイソブチルアミン、ジエタノールアミン、２−(エチルアミノ)エタノール、２−(メチルアミノ)エタノール、ジブタノールアミンなどの第二級アミン化合物、並びにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、メチルジプロピルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチルエタノールアミン、(ブトキシメチル)ジエチルアミン、(メトキシメチル)ジエチルアミン、(メトキシメチル)ジエタノールアミン及び(ヒドロキシエチルオキシメチル)ジエチルアミンなどの第三級アミン化合物などが挙げられ、これら化合物は単独または２種以上混合して使用することができる。
有機アミン化合物は、オフセット印刷用凹版洗浄液組成物の総量１００質量％に対して、１〜２５質量％含まれることが好ましく、より好ましくは３〜１５質量％である。含有量が１質量％未満である場合、凹版に残留するインクを充分に膨潤させることができずインクの除去力が劣る恐れもあり、２５質量％超過である場合、価格上昇の要因となって相対的に他の成分の含有量が低下し、固形化したインクの膨潤速度の低下を引き起こし得る。
芳香族アルコールは、凹版に残留するインクに含まれる樹脂の溶解に非常に効果的な有機溶媒であって、短時間で固形化したインクを膨潤させかつ溶解させて、さらには凹版の表面まで有機アミン化合物の浸透を速やかに行わせて洗浄性能を向上させる成分である。
芳香族アルコールは、下記化学式２で示される化合物が挙げられる。
式中、Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、または炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基であり、Ｒ５は、水素原子、ヒドロキシ基、または炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基であり得る。
化学式２で示される化合物は、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、フェニルプロフェノール(シンナミルアルコール)、フェニルプロパノール、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒドロキシフェネチルアルコールなどが挙げられ、これら化合物は単独または２種以上混合して使用することができる。
芳香族アルコールは、オフセット印刷用凹版洗浄液組成物の総量１００質量％に対して、１０〜７０質量％含まれることが好ましく、より好ましくは２０〜５０質量％である。含有量が１０質量％未満である場合、凹版に残留するインクに含まれる樹脂の膨潤及び溶解力が低下し、固形化したインクの洗浄性能の低下が生じ得る可能性があり、７０質量％超過である場合、水との親和力が相対的に低い化合物自体の特性によってリンス工程後に洗浄剤自体が凹版に残留してインクの印刷不良が生じる恐れもある。
有機溶媒は、凹版に残留するインクを洗浄工程で溶解させた後、リンス工程で除去するにあたり、水との親和力が低い芳香族アルコールにより溶解されたインクが凹版に再吸着されることを防止するための成分である。
有機溶媒としては、プロトン性または非プロトン性極性溶媒をともに使用することができる。
プロトン性極性溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系化合物及びそのアセテート誘導体、並びに、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどのアルコール系化合物などが挙げられる。また、非プロトン性極性溶媒として化合物としては、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド系化合物、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドンなどのピロリドン系化合物、１,３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１,３−ジプロピル−２−イミダゾリジノンなどのイミダゾリジノン系化合物、γ−ブチロラクトンなどのラクトン系化合物、ジメチルスルホキシド、スルホランなどのスルホキシド系化合物、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェートなどのホスフェート系化合物、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネートなどのカーボネート系化合物、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのクレゾール系化合物などが挙げられる。これら化合物は単独または２種以上混合して使用することができる。これら化合物のうち、インクに対する溶解力が大きく洗浄性能がさらに優れているといった点を考慮すると、エーテル系化合物及びそのアセテート誘導体が好ましく、より好ましくは、水との親和力も大きくリンス工程で洗浄剤の残留のおそれがないため、洗浄性能をさらに向上させることができるといった点を考慮すると、エーテル系化合物及びそのアセテート誘導体を混合して使用する。このとき、エーテル系化合物とそのアセテート誘導体との質量比は特に限定されず、用途及び目的とする効果によって調節可能である。
有機溶媒は、オフセット印刷用凹版洗浄液組成物の総量１００質量％に対して、２０〜８０質量％含まれることが好ましく、より好ましくは３５〜７０質量％である。含有量が２０質量％未満である場合、凹版に残留するインクに含まれる樹脂に対する溶解度の向上効果が微々たるものとなり得、８０質量％超過である場合、洗浄液中の他の成分の含有量が相対的に少なくなり、溶解度及び固形化したインクの膨潤速度が低下して洗浄液の性能の劣化をもたらし得る。
本発明のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物は、通常のフォトレジスト剥離液または洗浄液として使用される有機アミンを含んでいるにも関わらず、腐食防止剤を必要とせずフッ素化合物も含まないため、溶液の安定性に優れ、凹版に何ら損傷も与えずに凹版に残留する固形化したインク、すなわち、ＢＭのみならず、ＲＧＢ用インクもともに均一かつ急速にして同時に除去することができる。特に、有機系洗浄液として印刷工程後の固形化したインクのみならず、印刷工程においてインラインで固形化していない残留インクを直接溶解させて除去することも可能であるため、工程の歩留まり及び生産性を向上させることができる。また、洗浄で溶解したインクをリンス工程を通じて容易に除去することができるため、溶解したインクが凹版に再吸着して凹版を汚染することも防止することができる。これにより、印刷パターンの再現性を確保することができる。前記した本発明のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物は通常の方法で製造することができる。
本発明は、前記オフセット印刷用凹版洗浄液組成物を用いて凹版に残留するインクを溶解させて除去する段階を含む洗浄方法を提供する。
特に、本発明の洗浄方法は、有機系洗浄液組成物を用いることによりオフセット印刷工程後のみならず、インクが固形化する前のオフセット印刷工程にも洗浄工程の導入が可能ということに特徴がある。すなわち、オフセット印刷工程においてインラインで凹版に洗浄液組成物を処理して、前記凹版に残留する固形化したインクのみならず、固形化していない残留インクを均一かつ急速に直接溶解して除去することができる。これにより、印刷パターンの再現性を確保するとともにタクトタイム(takt‐time)を短くして工程の歩留まり及び生産性を大きく向上させることができる。
本発明の洗浄液組成物を用いてオフセット印刷用凹版を洗浄する方法としては、例えば微細パターンに残留するインクを含む凹版を洗浄液組成物に直接浸漬する方法、凹版に洗浄液組成物をスプレーする方法、凹版に洗浄液組成物を塗布した後にブラッシングする方法などが挙げられ、これらの方法を組み合わせて使用することもできる。このとき、洗浄効果を高めるためにバブルまたは超音波を用いることもできる。
また、洗浄液組成物の使用条件(温度、時間など)は、特に限定されず、凹版に残留するインクの含有量及び濃度などにより適切に選択することができ、例えば、２５〜６０℃で１０秒〜３分間遂行することができる。
本発明の洗浄液組成物で凹版を処理した後は、必要に応じて水またはアルコール系溶媒でリンスする工程をさらに遂行することができる。リンス方法は、特に限定されず、例えば、スプレーノズル及び洗浄用ナイフ(knife)を利用して水を一定圧力で噴射する方法で遂行することができる。このとき、水は脱イオン蒸留水、例えば、半導体工程用脱イオン蒸留水であって、比抵抗値が１８ＭΩ／ｃｍであるものを使用することができる。
以下、本発明の理解を助けるために、好ましい実施例を提示するが、これら実施例は本発明を例示するものであるだけで、添付された特許請求の範囲を制限するものではなく、本発明の範疇及び技術思想の範囲内において実施例に対し変更が多様であること及び修正が可能であることは、当業者にとって明らかなものであり、このような変更及び修正が添付された特許請求の範囲に属するのも当然のことである。
［実施例］
実施例１
モノイソプロパノールアミン(ＭＩＰＡ)１０質量％、ベンジルアルコール(ＢＡ)４０質量％、及びトリエチレングリコールモノメチルエーテル(ＭＴＧ)５０質量％を混合しかつ撹拌してオフセット印刷用凹版洗浄液組成物を調製した。
実施例２〜１０、比較例１〜８
前記実施例１と同様にして、下記表１に示す成分及び含有量で洗浄液組成物を調製した。このとき、含有量は質量％を表す。
［試験例］
１．洗浄能力
オフセット印刷に使用するＲＧＢ用の赤色インク、緑色インク、及び青色インク、並びにＢＭ用の黒色インクの洗浄能力を評価するために、図１に示すように、長辺１３０μｍ、短辺３０μｍ、高さ２０〜３０μｍのカラーフィルタのピクセル状の微細パターンをガラス基板上に形成し、凹版オフセット印刷用凹版と類似の試験評価用凹版を作製した。作製した凹版にドクターブレード法を利用して赤色インク(PCF-R-001、DONGWOO FINE-CHEM社製、韓国)、緑色インク(PCF-G-001、DONGWOO FINE-CHEM社製、韓国)、青色インク(PCF-B-004、DONGWOO FINE-CHEM社製、韓国)、及び黒色インク(PCF-BM-005、DONGWOO FINE-CHEM社製、韓国)を各々微細パターン内に充填するようにコーティングした後、１００℃で３分間乾燥させ試片を作製した。
作製した試片を常温の洗浄液組成物に一定時間(１０秒、２０秒)浸漬した後、取り出して脱イオン蒸留水で２０秒間リンスした。リンスを完了した後、窒素で試片を完全に乾燥させた。
乾燥させた試片の光学顕微鏡写真を撮影し、それらを用いて以下に示す基準に基づいて洗浄能力を評価した。
＜評価基準＞
◎：インクが完全に除去される。
○：インクが優秀に除去される。
△：インクが微量残存する。
×：インクが多量残存する。
前記表２のように、本発明に係る有機アミン化合物、芳香族アルコール、及び有機溶媒を最適の含有量で含む実施例１〜１０の洗浄液組成物は、比較例１〜８の洗浄液組成物と比較して赤色、緑色、青色、及び黒色のインクに対して全般的に均一かつ速く、優れた洗浄性能を現した。特に、芳香族アルコールを２０〜５０質量％含む場合、並びに有機溶媒としてエーテル系化合物及びそのアセテート誘導体の混合溶媒を使用する場合においてさらに好ましい効果が得られた。
一方、有機アミン化合物を含まない比較例１の洗浄液組成物は、残留インクの膨潤及び溶解は一部確認されたが、リンス工程において凹版から除去はされず、芳香族アルコール及び有機溶媒をそれぞれ含まない比較例２及び３の洗浄液組成物は、残留インクの膨潤及び溶解性能が低下し、リンス工程後において残留する異物が確認された。水を含む比較例４及び５の水系洗浄液組成物は、短時間で残留インクを除去するのは困難であった。また、有機アミン化合物を過剰量含む比較例６、芳香族アルコールをそれぞれ微量、過剰量含む比較例７及び８の洗浄液組成物もまた他の比較例と同様の問題が確認された。
図２において、本発明の実施例３の洗浄液組成物を用いて２０秒間洗浄した緑色の試片(ａ)及び黒色の試片(ｂ)の光学顕微鏡写真を示す。これにより、本発明による洗浄液組成物は、試片に存在、特に微細パターン内に存在するインクの洗浄性能に優れていることが確認された。
また、図３において、比較例１の洗浄液組成物を用いて２０秒間洗浄した緑色の試片(ａ)及び黒色の試片(ｂ)の光学顕微鏡写真を示す。この場合、微細パターン内部のみならず、外部に存在するインクも除去されていないことが分かった。
２．工程の歩留まり、生産性
調製した洗浄液組成物をオフセット印刷工程におけるインラインと同等な工程条件で直接導入評価した。このとき、インクは青色インク及び黒色インクを選択して適用しかつ評価した。インライン形態において、印刷直後の凹版を０.５ＭＰａ圧力で洗浄液組成物を用いてスプレー方式により洗浄し、洗浄時間を５秒、１０秒、２０秒となるように設定した。洗浄後、同じ０.５ＭＰａ圧力で脱イオン蒸留水を用いたスプレー方式により２０秒間リンスした後、窒素を用いて完全に乾燥させた。乾燥させた凹版を利用してオフセット印刷工程を連続して各々２０回遂行した。
洗浄及び乾燥した凹版を利用して印刷した後、不良と判定されない印刷枚数を工程の歩留まり(％)で計算した。
前記表３のように、凹版オフセット印刷工程において洗浄工程をインラインで連続して導入した結果、実施例の洗浄液組成物は連続工程の適用が可能であっただけでなく、洗浄後凹版にインクが残留しないため、印刷パターンの再現性を確保することができ、タクトタイムを短縮して工程の歩留まり及び生産性を向上させることができた。
一方、比較例２、３の洗浄液組成物は全インクに対する除去速度が均一でなく、比較例４、５は有機系でない水系洗浄液であって、インライン工程に直接導入するには困難であり工程の歩留まりが好ましくなかった。また、比較例７、８の洗浄液組成物もまた工程の歩留まり及び生産性の面において実施例に比べて好ましくなかった。

Claims (10)

  1. 有機アミン化合物１〜２５質量％、芳香族アルコール１０〜７０質量％、及び有機溶媒
    ２０〜８０質量％を含み、水を含まないオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
  2. 前記有機アミン化合物は、下記化学式１で示される化合物である、請求項１に記載のオ
    フセット印刷用凹版洗浄液組成物。
    (式中、Ｒ１〜Ｒ３は、独立して、水素原子、置換または非置換の炭素数１〜１０のア
    ルキル基またはヒドロキシアルキル基、置換または非置換の炭素数２〜１０のアルケニル
    基またはヒドロキシアルケニル基、カルボキシル基、置換または非置換の炭素数５〜８の
    シクロアルキル基またはヒドロキシシクロアルキル基、フェニル基、或いはベンジル基で
    あり、前記Ｒ１〜Ｒ３が置換される場合、炭素数１〜４のアルキル基で置換されたまたは
    非置換のアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、或い
    は、ヒドロキシ基で置換されたまたは非置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
    た炭素数１〜１０のアルキル基で置換され得る。)
  3. 前記芳香族アルコールは、下記化学式２で示される化合物である、請求項１に記載のオ
    フセット印刷用凹版洗浄液組成物。
    (式中、Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアルケニル基、または炭
    素数１〜５のヒドロキシアルキル基であり、Ｒ５は、水素原子、ヒドロキシ基、または炭
    素数１〜５のヒドロキシアルキル基である。)
  4. 前記化学式２で示される化合物は、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、フェ
    ニルプロフェノール、フェニルプロパノール、ヒドロキシベンジルアルコール、及びヒド
    ロキシフェネチルアルコールからなる群より選択される１種以上である、請求項３に記載
    のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
  5. 前記有機溶媒は、エーテル系化合物及びそのアセテート誘導体、アルコール系化合物、
    ピロリドン系化合物、アミド系化合物、イミダゾリジノン系化合物、ラクトン系化合物、
    スルホキシド系化合物、ホスフェート系化合物、カーボネート系化合物、並びにクレゾー
    ル系化合物からなる群より選択される１種以上である、請求項１に記載のオフセット印刷
    用凹版洗浄液組成物。
  6. 前記有機溶媒は、エーテル系化合物及びそのアセテート誘導体の混合溶媒である、請求
    項５に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
  7. 前記エーテル系化合物は、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
    ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレング
    リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
    コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコ
    ールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
    コールモノメチルエーテル、またはジプロピレングリコールモノメチルエーテルである、
    請求項５に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
  8. 有機アミン化合物３〜１５質量％、芳香族アルコール２０〜５０質量％、及び有機溶媒
    ３５〜７０質量％を含む、請求項１に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物。
  9. 請求項１〜８の何れか一項に記載のオフセット印刷用凹版洗浄液組成物を用いて凹版に
    残留するインクを溶解させて除去する段階を含む洗浄方法。
  10. オフセット印刷工程においてインラインで連続して遂行される、請求項９に記載の洗浄
    方法。
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