JP5914036B2 - 導電性積層フィルムの製造方法 - Google Patents
導電性積層フィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5914036B2 JP5914036B2 JP2012037522A JP2012037522A JP5914036B2 JP 5914036 B2 JP5914036 B2 JP 5914036B2 JP 2012037522 A JP2012037522 A JP 2012037522A JP 2012037522 A JP2012037522 A JP 2012037522A JP 5914036 B2 JP5914036 B2 JP 5914036B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- transparent conductive
- metal layer
- conductive
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 114
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 114
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 28
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 185
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 19
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
Description
0.6x≦y≦1.8x
本発明の実施の形態について、図面を参照しながら以下に説明する。図1は一実施形態に係る導電性積層フィルムの模式的断面図である。導電性積層フィルム10は、透明フィルム基材1上に透明導電層2および導電性金属層3が順次形成された構成を有する。本発明の製造方法では、長尺透明フィルム基材上に透明導電層が形成された長尺透明導電性フィルムの透明導電層2形成面側に導電性金属層3が形成される。
透明フィルム基材1としては、可撓性を有しかつ可視光領域において透明であるものであれば特に制限されず、透明性を有し、ポリエステル系樹脂を構成材料とするプラスチックフィルムが用いられる。ポリエステル系樹脂は、透明性、耐熱性、および機械特性に優れることから好適に用いられる。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等が特に好適である。また、プラスチックフィルムは強度の観点から延伸処理が行われていることが好ましく、二軸延伸処理されていることがより好ましい。延伸処理としては特に限定されず、公知の延伸処理を採用することができる。
透明導電層2の構成材料は特に限定されず、In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム(ITO)、アンチモンを含有する酸化スズ(ATO)などが好ましく用いられ、ITOが特に好ましく用いられる。
長尺透明導電性フィルムの透明導電層2形成面側に導電性金属層3が連続的に成膜されることで、長尺導電性積層フィルムが得られる。導電性金属層の構成材料は、導電性を有するものであれば特に限定されないが、例えば、Ti,Si,Nb,In,Zn,Sn,Au,Ag,Cu,Al,Co,Cr,Ni,Pb,Pd,Pt,W,Zr,Ta,Hf等の金属が好適に用いられる。また、これらの金属の2種以上を含有するものや、これらの金属を主成分とする合金等も好適に用いることができる。導電性積層フィルムの形成後に導電性金属層3の一部をエッチング等により除去して図4に示すようなパターン配線を形成する場合は、導電性金属層3としてAu,Ag,Cu等の導電性の高い金属が好適に用いられる。中でもCuは導電性が高く、かつ安価な材料であるため、配線を構成する材料として適している。そのため、導電性金属層3は実質的に銅からなることが特に好ましい。
導電性金属層3は、ロール・トゥー・ロール法により、基材を搬送させながら成膜される。ロール・トゥー・ロール法による導電性金属層の成膜は、図3に模式的に示すような巻取式の真空成膜装置300を用いて行われる。真空成膜装置300は、巻出ロール301および巻取ロール302を備え、巻出ロール301と巻取ロール302との間のフィルム搬送経路に、成膜ロール310および搬送ロール303、304を備える。なお、図3においては、巻出ロール301と成膜ロール310との間、および成膜ロール310と巻取ロール302との間に、それぞれ1本の搬送ロール303、304を備える形態が図示されているが、2本あるいはそれ以上の搬送ロールが備えられていてもよい。各搬送ロールは自由回転式のものであってもよく、駆動回転式のものであってもよい。成膜箇所における搬送張力を制御する観点からは、成膜ロール310と巻取ロール302との間の搬送ロールの少なくとも1本は、駆動回転ロールであることが好ましい。また、巻出ロール301と成膜ロール310との間に駆動回転ロールが配置されていてもよい。より好ましくは、巻出ロール301と成膜ロール310との間、および成膜ロール310と巻取ロール302との間のそれぞれにおいて、搬送ロールの少なくとも1本が駆動回転ロールである。なお、成膜箇所における搬送張力とは、成膜ロールと、フィルムの搬送経路上で成膜ロールに最も近い駆動ロールとの間の張力を指す。駆動ロールは、単独の駆動回転ロールであってもよく、2本のロールを1対としてフィルムを挟持するニップロールであってもよい。
テンションカット手段としては、ニップロールの他、サクションロール、あるいは、フィルム搬送経路がS字状となるように配置されたロール群等を用いることができる。さらに、テンションカット手段と巻取ロール302との間の搬送経路にテンションピックアップロール等の適宜の張力検出手段が配置され、適宜の張力制御機構によって巻取張力が一定となるように巻取ロール302の回転トルクが調整されることが好ましい。このように、成膜箇所における搬送張力と巻取張力および/または巻出張力を独立に制御することによって、巻取張力が小さいことによる巻状態の不良や、巻取張力が大きいことによるフィルムのブロッキング等の不具合の発生を抑止し得る。
透明フィルム基材1上に透明導電層2が形成された基材Fは、巻出ロール301から巻出され、複数の搬送ロール303、304と成膜ロール310を経由して緩まないように連続的に搬送される。成膜ロール310上で、導電性金属層が真空成膜された導電性積層フィルム10は、巻取ロール302で巻取られる。成膜箇所におけるフィルム基材の長手方向に垂直な面の単位面積あたりの搬送張力は、0.6〜1.8N/mm2であることが好ましく、0.7〜1.7N/mm2であることがより好ましく、0.74〜1.65N/mm2であることがさらに好ましい。搬送張力を上記範囲とすることによって、シワの発生が抑制される。搬送張力が過度に小さい場合には、フィルムの搬送が不安定となるために、成膜ロール上でフィルムが蛇行した場合等にシワが発生しやすくなるものと推定される。一方、搬送張力が過度に大きい場合には、フィルム幅方向の収縮応力が大きくなるとともに、フィルムと成膜ロールとの密着力が高いためにロール上でフィルムが滑り難く、幅方向の収縮変形がシワを生じ易くなるものと推定される。
0.6x≦y≦1.8x
例えば、フィルム基材の厚みが50μm(0.05mm)の場合、成膜箇所におけるフィルム基材の単位幅あたりの搬送張力は、上記式より0.03N/mm〜0.09N/mmであることが好ましく、0.04N/mm〜0.08N/mmであることがより好ましく、0.048N/mm〜0.075N/mmであることがさらに好ましい。また、例えば、フィルム基材の厚みが100μm(0.1mm)の場合、成膜箇所におけるフィルム基材の単位幅あたりの搬送張力は、上記式より0.06N/mm〜0.18N/mmであることが好ましく、0.08N/mm〜0.17N/mmであることがより好ましく、0.096N/mm〜0.16N/mmであることがさらに好ましい。
このような本発明の導電性積層フィルムは、パターン配線付き透明導電性積層フィルムの形成に適している。図4は、パターン配線付き透明導電性積層フィルムの一実施形態を模式的に表す平面図であり、図5は図4のV−V線における断面を模式的に表す断面図である。パターン配線付き透明導電性積層フィルム100は、複数の透明電極121〜126からなる透明電極部、およびパターン配線部131a〜136a、131b〜136bを有する。パターン配線は透明電極に接続されている。なお、図4では、透明導電層が複数の透明電極121〜126を形成するようにパターン化されているが、透明導電層はパターン化されていなくてもよい。また、図4においては、各透明電極が短冊状にパターン化されており、その両端部がパターン配線と接続されているが、電極の形状は短冊状に限定されず、また透明電極は1箇所あるいは3箇所以上でパターン配線と接続されていてもよい。各パターン配線は必要に応じて、IC等の制御手段150に接続される。
このようにして得られたパターン配線付き透明導電性積層フィルムは、必要に応じてIC等の制御手段150が設けられ、実用に供される。透明導電性積層フィルムは、パターン化された透明電極を有し、各透明電極がパターン配線に接続されていることから、各種の光学デバイスに好適に用いられる。このようなデバイスとしては、タッチパネルや、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、照明装置等が挙げられる。タッチパネルとしては、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルが挙げられる。
幅1085mm、厚み50μm(0.05mm)の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(Tg:69℃;断面積54.25mm2;三菱樹脂製 商品名「T602E50」、以下、PETフィルムという)からなる透明フィルムの一方の面に、シリカゾル(コルコート(株)製,コルコートP)を、固形分濃度2%になるようにエタノールで希釈したものを、シリカコート法により塗布し、その後、150℃で2分間乾燥、硬化させて、厚さが35nmの誘電体層(SiO2膜,光の屈折率1.46)を形成した。
図3に模式的に示すような平行平板型の巻取式マグネトロンスパッタ装置に、酸化インジウムと酸化スズとを90:10の重量比で含有する焼結体ターゲットを装着した。誘電体層が形成されたPETフィルム基材を搬送しながら、真空排気により脱水、脱ガスを行った。その後、成膜ロールの温度を140〜145℃として、アルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、搬送速度7.7m/分、搬送張力0.036〜0.11N/mmで基材を搬送しながらDCスパッタリングにより成膜を行い、誘電体層上に厚み25nmのITO膜を成膜して、透明導電性フィルムを得た。透明導電性フィルム表面のITO膜の表面抵抗を四端子法により測定したところ、450Ω/□であった。
図3に模式的に示すような平行平板型の巻取式マグネトロンスパッタ装置に、無酸素銅ターゲットを装着した。基材上にITO膜が形成された透明導電性フィルムを搬送しながら、真空排気により脱水、脱ガスを行った。その後、アルゴンガスを導入し、搬送速度4.4m/分で基材を搬送しながらDCスパッタリングにより成膜を行い、ITO膜上に銅からなる厚み80nmの導電性金属層を成膜した。導電性金属層成膜の際のPETフィルムの長手方向に垂直な面の単位面積あたりの搬送張力を0.56〜2.22N/mm2(単位幅あたりの搬送張力を0.028〜0.11N/mmの範囲)、成膜ロール温度を80〜220℃の範囲で変更し、各水準の導電性積層フィルムを評価に供した。なお、いずれの水準においても、四端子法により測定した金属層の表面抵抗は0.3Ω/□であった。
各水準で得られた導電性積層フィルムを、搬送方向に約15cmの長さに切り出し、蛍光灯を導電性フィルムに照射して、目視にて熱シワの有無を観察した。
A・・・熱シワが観察されない
B・・・少量の熱シワが観察される
C・・・多量の熱シワが観察される
導電性金属層成膜時の各成膜ロール温度におけるフィルム基材の単位面積あたりの搬送張力(N/mm2)と熱シワの評価結果の一覧を表1に、フィルム基材の単位幅あたりの搬送張力(N/mm)と熱シワの評価結果の一覧を表2に示す。
2 透明導電層
3 導電性金属層
4 第2導電性金属層
10、11 導電性積層フィルム
300 巻取式スパッタ装置
301 巻出ロール
302 巻取ロール
303 搬送ロール
310 成膜ロール
320 金属材料源
100 パターン配線付き透明導電性積層フィルム
121〜126 透明電極
131〜136 パターン配線
150 制御手段
231〜236 接続部
Claims (5)
- ポリエチレンテレフタレートを構成材料とする長尺透明フィルム基材上に透明導電層が形成された長尺透明導電性フィルムを準備する工程、および前記長尺透明導電性フィルムが搬送されながら、前記長尺透明導電性フィルムの透明導電層形成面側に導電性金属層が連続的に成膜される金属層成膜工程、を有する長尺導電性積層フィルムの製造方法であって、
前記透明導電層の厚みが15〜35nmであり、
前記金属層成膜工程は、1Pa以下の減圧環境で行われ、
前記金属層成膜工程において、スパッタリング法により前記導電性金属層が成膜され、前記長尺状透明導電性フィルムは、搬送張力が付与されることで連続的に搬送され、
前記透明導電性フィルムの透明導電層非形成面側が成膜ロールの表面に接触した状態で、透明導電層形成面側に前記導電性金属層が連続的に堆積され、
前記成膜ロールの表面温度は110℃〜200℃であり、
成膜箇所における前記フィルム基材の長手方向に垂直な面の単位面積あたりの搬送張力が0.74〜1.64N/mm2である、
導電性積層フィルムの製造方法。 - 成膜箇所における前記フィルム基材の厚さをx(mm)、単位幅あたりの搬送張力をy(N/mm)としたとき、下記式を満たすように単位幅あたりの搬送張力を付与する、請求項1に記載の導電性積層フィルムの製造方法。
0.6x≦y≦1.8x - 前記導電性金属層の堆積厚みが20nm以上である、請求項1又は2に記載の導電性積層フィルムの製造方法。
- 前記透明導電層がインジウム−スズ酸化物を主成分とする導電性酸化物層である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性積層フィルムの製造方法。
- 前記導電性金属層がTi,Si,Nb,In,Zn,Sn,Au,Ag,Cu,Al,Co,Cr,Ni,Pb,Pd,Pt,W,Zr,TaおよびHfからなる群から選択される1種または2種以上の金属からなるか、あるいはこれらを主成分とする合金である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性積層フィルムの製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012037522A JP5914036B2 (ja) | 2011-04-20 | 2012-02-23 | 導電性積層フィルムの製造方法 |
US13/450,656 US20120269960A1 (en) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | Method of manufacturing conductive laminated film |
KR1020120040924A KR101498338B1 (ko) | 2011-04-20 | 2012-04-19 | 도전성 적층 필름의 제조 방법 |
CN201210118791.9A CN102751043B (zh) | 2011-04-20 | 2012-04-20 | 导电性层叠薄膜的制造方法 |
TW101114272A TWI480898B (zh) | 2011-04-20 | 2012-04-20 | Production method of conductive laminated film |
KR1020130126734A KR20130131267A (ko) | 2011-04-20 | 2013-10-23 | 도전성 적층 필름의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011094261 | 2011-04-20 | ||
JP2011094261 | 2011-04-20 | ||
JP2012037522A JP5914036B2 (ja) | 2011-04-20 | 2012-02-23 | 導電性積層フィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012234796A JP2012234796A (ja) | 2012-11-29 |
JP5914036B2 true JP5914036B2 (ja) | 2016-05-11 |
Family
ID=47021536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012037522A Active JP5914036B2 (ja) | 2011-04-20 | 2012-02-23 | 導電性積層フィルムの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120269960A1 (ja) |
JP (1) | JP5914036B2 (ja) |
KR (2) | KR101498338B1 (ja) |
CN (1) | CN102751043B (ja) |
TW (1) | TWI480898B (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5894820B2 (ja) | 2012-03-13 | 2016-03-30 | 日東電工株式会社 | 導電性フィルムロールの製造方法 |
JP5993028B2 (ja) | 2012-11-08 | 2016-09-14 | アルプス電気株式会社 | 導電体及びその製造方法 |
TW201421302A (zh) * | 2012-11-16 | 2014-06-01 | Rtr Tech Technology Co Ltd | 觸控面板之製造方法 |
JP6036249B2 (ja) * | 2012-12-11 | 2016-11-30 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
KR20140082392A (ko) * | 2012-12-24 | 2014-07-02 | 솔베이(소시에떼아노님) | 디스플레이 장치의 구리-함유 금속막용 에칭 조성물 및 이를 이용한 금속막의 에칭 방법 |
JP6209832B2 (ja) * | 2013-03-06 | 2017-10-11 | 大日本印刷株式会社 | 積層体の製造方法 |
JP6268568B2 (ja) * | 2013-04-09 | 2018-01-31 | 大日本印刷株式会社 | 積層体の製造方法および積層体 |
KR20140122338A (ko) * | 2013-04-09 | 2014-10-20 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 터치패널, 그 제조방법 및 터치패널용 Ag-Pd-Nd 합금 |
CN105264669A (zh) * | 2013-06-06 | 2016-01-20 | H·C·施塔克公司 | 用于在电子装置中金属化的铜合金阻挡层和覆盖层 |
CN104281302A (zh) * | 2013-07-05 | 2015-01-14 | 杰圣科技股份有限公司 | 触控结构及其制造方法 |
JP2015132005A (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | 株式会社アルバック | 成膜方法、および、スパッタ装置 |
JP5861719B2 (ja) * | 2014-01-17 | 2016-02-16 | Tdk株式会社 | 透明導電体及びタッチパネル |
JP6434366B2 (ja) * | 2015-05-13 | 2018-12-05 | 帝人株式会社 | 透明導電性積層体 |
WO2017057262A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 導電性基板 |
JP6627551B2 (ja) * | 2015-11-30 | 2020-01-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 積層体基板、導電性基板、積層体基板の製造方法、導電性基板の製造方法 |
CN105895262B (zh) * | 2016-03-30 | 2018-09-21 | 武汉光谷创元电子有限公司 | 透明导电薄膜及其制造方法 |
CN105869773A (zh) * | 2016-04-08 | 2016-08-17 | 泰州巨纳新能源有限公司 | 一种石墨烯-金属纳米颗粒复合型透光导电薄膜的制备方法 |
CN105931757A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-09-07 | 成都天航智虹企业管理咨询有限公司 | 一种制备导电薄膜的方法 |
CN105957646A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-09-21 | 成都天航智虹企业管理咨询有限公司 | 导电薄膜的制备方法 |
CN106024111A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-10-12 | 成都天航智虹企业管理咨询有限公司 | 一种导电薄膜的制备方法 |
CN105931758A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-09-07 | 成都天航智虹企业管理咨询有限公司 | 石墨烯导电薄膜的制备方法 |
KR102192297B1 (ko) * | 2017-04-19 | 2020-12-17 | 가부시키가이샤 아루박 | 막 형성장치 및 막 형성방법 |
JP6648800B1 (ja) * | 2018-10-23 | 2020-02-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属膜付き樹脂フィルムの製造装置と製造方法 |
JP7280036B2 (ja) * | 2018-12-17 | 2023-05-23 | 日東電工株式会社 | 導電性フィルムの製造方法 |
JP2021143395A (ja) | 2020-03-12 | 2021-09-24 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルムの製造方法および透明導電性フィルム |
JP7454988B2 (ja) * | 2020-04-01 | 2024-03-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの製造装置および製造方法 |
JP2022064724A (ja) | 2020-10-14 | 2022-04-26 | 日東電工株式会社 | 金属層、タッチセンサ、調光素子、光電変換素子、熱線制御部材、アンテナ、電磁波シールド部材、画像表示装置および金属層の製造方法 |
CN112908517B (zh) * | 2021-01-19 | 2022-08-05 | 大正(江苏)微纳科技有限公司 | 一种透明导电薄膜及其制备方法 |
CN113140833B (zh) * | 2021-04-14 | 2022-08-09 | 酷驰(深圳)新能源科技有限公司 | 一种具有加热功能的电池模组 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4838656A (en) * | 1980-10-06 | 1989-06-13 | Andus Corporation | Transparent electrode fabrication |
JPS62247073A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Ulvac Corp | 巻取式真空装置 |
JP3476277B2 (ja) * | 1995-02-16 | 2003-12-10 | 三井化学株式会社 | 透明導電性積層体 |
JP2001249221A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-09-14 | Nitto Denko Corp | 透明積層体とその製造方法およびプラズマデイスプレイパネル用フイルタ |
JP2002157929A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-05-31 | Mitsui Chemicals Inc | 透明導電性薄膜積層体及びそのエッチング方法 |
US7217344B2 (en) * | 2002-06-14 | 2007-05-15 | Streaming Sales Llc | Transparent conductive film for flat panel displays |
JP2004063271A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Toyobo Co Ltd | 透明導電膜の製造方法 |
JP2005144858A (ja) * | 2003-11-14 | 2005-06-09 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルムの製造方法 |
WO2005109449A1 (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Hs Planning Limited | タッチパネル用導電性フィルム及びタッチパネル用導電性フィルム製造方法 |
US7842196B2 (en) * | 2004-10-08 | 2010-11-30 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Conductive composition and production method thereof, antistatic coating material, antistatic coating, antistatic film, optical filter, and optical information recording medium, and capacitors and production method thereof |
JP5146067B2 (ja) * | 2008-04-15 | 2013-02-20 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ガイドロール機構、とこれを用いる真空成膜装置、及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
KR101172113B1 (ko) * | 2008-11-14 | 2012-08-10 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치스크린 및 그 제조방법 |
JP2010121188A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属積層樹脂フィルム基板及びその製造方法 |
JP2010242134A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 積層体の製造方法 |
KR20110012182A (ko) * | 2009-07-30 | 2011-02-09 | 지 . 텍 (주) | 연속 스퍼터링을 구현하는 롤투롤 스퍼터 장치 및 연속 스퍼터링 방법 |
-
2012
- 2012-02-23 JP JP2012037522A patent/JP5914036B2/ja active Active
- 2012-04-19 US US13/450,656 patent/US20120269960A1/en not_active Abandoned
- 2012-04-19 KR KR1020120040924A patent/KR101498338B1/ko active IP Right Grant
- 2012-04-20 CN CN201210118791.9A patent/CN102751043B/zh active Active
- 2012-04-20 TW TW101114272A patent/TWI480898B/zh not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-10-23 KR KR1020130126734A patent/KR20130131267A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102751043B (zh) | 2014-12-10 |
KR101498338B1 (ko) | 2015-03-03 |
CN102751043A (zh) | 2012-10-24 |
TW201248656A (en) | 2012-12-01 |
TWI480898B (zh) | 2015-04-11 |
JP2012234796A (ja) | 2012-11-29 |
US20120269960A1 (en) | 2012-10-25 |
KR20130131267A (ko) | 2013-12-03 |
KR20130027594A (ko) | 2013-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5914036B2 (ja) | 導電性積層フィルムの製造方法 | |
WO2012173192A1 (ja) | 導電性積層体、パターン配線付き透明導電性積層体、および光学デバイス | |
JP6600550B2 (ja) | 金属層積層透明導電性フィルムおよびそれを用いたタッチセンサ | |
JP6454690B2 (ja) | 透明導電フィルムの製造方法 | |
EP2942700B1 (en) | Manufacturing method for conductive structure | |
JP6262483B2 (ja) | 導電性フィルム基板およびその製造方法 | |
JP6239330B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法 | |
JP6096869B2 (ja) | 導電性積層体、パターン配線付き透明導電性積層体、および光学デバイス | |
JP5848786B2 (ja) | 導電性積層体、パターン配線付き透明導電性積層体、および光学デバイス。 | |
JP6396059B2 (ja) | 透明導電フィルムの製造方法 | |
KR20190131423A (ko) | 투명 도전성 유리 | |
JP6562985B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法 | |
JP6992213B2 (ja) | 積層体、タッチセンサ、調光素子、光電変換素子、熱線制御部材、アンテナ、電磁波シールド部材および画像表示装置 | |
JP6097117B2 (ja) | 積層体およびフイルム | |
JP6556483B2 (ja) | 電極付き基板およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141105 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151014 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160115 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160311 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160404 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5914036 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |