JP5912321B2 - レジスト膜の形成方法、および、静電噴霧装置 - Google Patents
レジスト膜の形成方法、および、静電噴霧装置 Download PDFInfo
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Description
2 ノズル
3 ワーク
4 テーブル
5 基盤
6 電圧制御装置
7 シャッタ
8 カメラ
20 レジスト液
21、23 粒子
26a、26b、26c レジスト膜
Claims (11)
- 静電噴霧によりワークの上にレジスト膜を形成するレジスト膜の形成方法であって、
ノズルと前記ワークとの間に所定の電圧を印加し、該ノズルから該ワークに向けてレジスト液を噴霧するステップと、
前記ワークの上に噴霧された前記レジスト液を硬化させて前記レジスト膜を形成するステップと、を有し、
前記噴霧するステップは、
静電噴霧開始時において前記ノズルの内部の前記レジスト液に所定の背圧を印加し前記レジスト液の液面を移動するステップと、
前記移動するステップの後に前記所定の電圧を印加して前記レジスト液を噴霧している間に前記所定の背圧を印加するステップと、を有することを特徴とするレジスト膜の形成方法。 - 静電噴霧によりレジスト液を噴霧する静電噴霧装置であって、
前記レジスト液を噴霧するノズルと、
前記ノズルとワークとの間に所定の電圧を印加する電圧印加手段と、
前記ノズルの内部の前記レジスト液に所定の背圧を印加する背圧印加手段と、
を有し、
前記ノズルは、前記電圧印加手段により前記所定の電圧が印加されることにより、前記レジスト液を前記ワークに向かって噴霧し、
前記背圧印加手段は、
静電噴霧開始時において前記ノズルの内部の前記レジスト液に所定の背圧を印加し前記レジスト液の液面を移動するステップと、
前記移動するステップの後に前記所定の電圧を印加して前記レジスト液を噴霧している間に前記所定の背圧を印加するステップと、を有することを特徴とする静電噴霧装置。 - 前記レジスト液の噴霧を遮るシャッタを更に有し、
前記シャッタは、前記レジスト液が前記ワークの上に噴霧されるのを妨げることを特徴とする請求項2に記載の静電噴霧装置。 - 前記電圧印加手段は、前記ノズルに印加される前記所定の電圧と同極性の電圧を前記シャッタに印加して、前記レジスト液の噴霧を瞬時に止めることを特徴とする請求項3に記載の静電噴霧装置。
- 前記背圧印加手段は、前記ノズルの先端部における前記レジスト液の形状を一定に保持するように前記所定の背圧を印加することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の静電噴霧装置。
- 前記ノズルは複数のノズル部を有し、
前記電圧印加手段は、前記複数のノズル部の中心を含む第1ノズル領域に印加する第1電圧と、前記第1ノズル領域の外側にある第2ノズル領域に印加する第2電圧と、を互いに異ならせる、
ことを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1項に記載の静電噴霧装置。 - 前記電圧印加手段は、前記第1電圧を前記第2電圧よりも低くなるように制御することを特徴とする請求項6に記載の静電噴霧装置。
- 前記レジスト液は、前記ワークの上に形成するレジスト膜を構成する成膜材料が溶解した液剤であることを特徴とする請求項2乃至7のいずれか1項に記載の静電噴霧装置。
- 静電噴霧によりレジスト液を噴霧する静電噴霧装置であって、
前記レジスト液を噴霧するノズルと、
前記ノズルとワークとの間に所定の電圧を印加する電圧印加手段と、
前記レジスト液の噴霧を遮るシャッタと、
を有し、
前記ノズルは、前記電圧印加手段により前記所定の電圧が印加されることにより、前記レジスト液を前記ワークに向かって噴霧し、
前記シャッタは、前記レジスト液が前記ワークの上に噴霧されるのを妨げ、
前記電圧印加手段は、前記ノズルに印加される前記所定の電圧と同極性の電圧を前記シャッタに印加して、前記レジスト液の噴霧を瞬時に止める、
ことを特徴とする静電噴霧装置。 - 静電噴霧によりレジスト液を噴霧する静電噴霧装置であって、
前記レジスト液を噴霧する複数のノズル部と、
前記複数のノズル部とワークとの間に所定の電圧を印加する電圧印加手段と、
を有し、
前記複数のノズル部は、前記電圧印加手段により前記所定の電圧が印加されることにより、前記レジスト液を前記ワークに向かって噴霧し、
前記電圧印加手段は、前記複数のノズル部の中心に位置する第1ノズル領域および前記複数のノズル部の周辺に位置する第2ノズル領域のそれぞれに印加される電圧を独立に制御し、
前記電圧印加手段は、前記第1ノズル領域に印加される第1電圧を前記第2ノズル領域に印加される第2電圧よりも低くなるように制御する、
ことを特徴とする静電噴霧装置。 - 静電噴霧によりレジスト液を噴霧する静電噴霧装置であって、
前記レジスト液を噴霧する複数のノズル部と、
前記複数のノズル部とワークとの間に所定の電圧を印加する電圧印加手段と、を有し、
前記複数のノズル部は、前記電圧印加手段により前記所定の電圧が印加されることにより、前記レジスト液を前記ワークに向かって噴霧し、
前記複数のノズル部の中心を含む第1ノズル領域に配置されるノズルの第1間隔を、前記第1ノズル領域の外側にある第2ノズル領域に配置されるノズルの第2間隔よりも大きくする、
ことを特徴とする静電噴霧装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011162001A JP5912321B2 (ja) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | レジスト膜の形成方法、および、静電噴霧装置 |
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JP2011162001A Active JP5912321B2 (ja) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | レジスト膜の形成方法、および、静電噴霧装置 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5912321B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015136690A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | ダイキン工業株式会社 | 成膜装置 |
JP2018167133A (ja) * | 2015-09-03 | 2018-11-01 | コニカミノルタ株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08153669A (ja) * | 1994-11-30 | 1996-06-11 | Hitachi Ltd | 薄膜形成方法及び形成装置 |
JP2001301154A (ja) * | 2000-04-20 | 2001-10-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 電圧印加により表面張力が低下する液体の電界ジェットによる付着方法 |
JP2006351605A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Meiko:Kk | プリント配線板に感光性レジスト液を塗装する方法およびプリント配線板 |
JP4493034B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2010-06-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜の成膜方法及びその装置 |
GB0709517D0 (en) * | 2007-05-17 | 2007-06-27 | Queen Mary & Westfield College | An electrostatic spraying device and a method of electrostatic spraying |
JP5159348B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2013-03-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | ナノ材料固定化方法及び固定化装置 |
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Publication number | Publication date |
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JP2013022551A (ja) | 2013-02-04 |
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