JP5912212B2

JP5912212B2 - Molding part of glass manufacturing apparatus and method for manufacturing glass molded product

Info

Publication number: JP5912212B2
Application number: JP2007203688A
Authority: JP
Inventors: 堯民古屋; 丸子　智弘; 智弘丸子
Original assignee: Furuya Metal Co Ltd
Current assignee: Furuya Metal Co Ltd
Priority date: 2007-08-03
Filing date: 2007-08-03
Publication date: 2016-04-27
Anticipated expiration: 2027-08-03
Also published as: WO2009020011A1; JP2009035466A

Description

本発明は、液晶ディスプレイ表示基板用板ガラス等のガラス成形品を、フュージョン法を利用して作製するときに用いられるガラス製造装置の成形部及びそれを用いたガラス成形品の製造方法に関する。 The present invention relates to a molded part of a glass manufacturing apparatus used when a glass molded product such as a plate glass for a liquid crystal display display substrate is produced using a fusion method, and a method of manufacturing a glass molded product using the same.

従来、溶融ガラスより連続的にガラス成形品を形成し、極めて薄い板厚の板ガラスを製造する方法として、フュージョン法が知られている。 Conventionally, a fusion method is known as a method for producing a glass sheet having a very thin plate thickness by continuously forming a glass molded product from molten glass.

フュージョン法は、まず、溶融した原料ガラスを樋形状の溝を有するアルミナ系、ジルコン系等の耐火セラミックス材料で形成された成形部に流し込み、成形部の溝の容量以上に流し込むと溝側面の上端から溶融したガラスが溢れ出し、成形部の下端で合流したガラスを垂直方向に引き伸ばし、冷却して固めることによって板ガラスを製造する方法である。フュージョン法では、ガラスの成形時に無理な力がかからず、ガラスへのダメージを少なくして作製することができ、かつ、ガラス成形品の表面が自由表面のみで形成されるために液晶ディスプレイ表示基板用板ガラス等の高い平坦精度が要求されるガラス成形品を製造することに適した方法である（例えば、特許文献１を参照。）。 In the fusion method, first, molten raw glass is poured into a molded part formed of an alumina-based or zircon-based refractory ceramic material having a bowl-shaped groove, and when the molten glass is poured in excess of the groove capacity of the molded part, the upper end of the groove side surface The molten glass overflows from the glass, and the glass joined together at the lower end of the forming part is stretched in the vertical direction, cooled and solidified to produce a plate glass. The fusion method does not apply excessive force when molding glass, can be manufactured with less damage to glass, and the surface of the glass molded product is formed only with a free surface, so a liquid crystal display This is a method suitable for manufacturing a glass molded product that requires high flatness accuracy such as a plate glass for a substrate (see, for example, Patent Document 1).

しかし、アルミナ系、ジルコン系等の耐火セラミックス材料で形成された成形部は、ガラス成形品の幅に対応する成形部の長さが長くなればなるほど製作することが困難になる。このため幅の広い大型のガラス成形品を製造するための成形部の製作に際しては、一体成形が望ましいが大型のガラス成形の場合、一体成形が不可能になるのでまず成形部を長手方向に幾つかの部分に分けて製作した後で、これらを連結することによって一体とした成形部を製作しなければならない。したがって完成した大型ガラス成形品製造用の成形部には継ぎ目ができてしまう。このため成形されるガラス成形品について、継ぎ目における筋の発生を防止して平坦精度を確保するために、高い精度の研磨仕上げ又は白金によるカバーが必要になる。 However, it becomes difficult to produce a molded part formed of an alumina-based or zircon-based refractory ceramic material as the length of the molded part corresponding to the width of the glass molded product increases. For this reason, in the production of a molded part for manufacturing a wide and large glass molded product, integral molding is desirable. However, in the case of large glass molding, integral molding is impossible. After the parts are manufactured separately, an integrated molded part must be manufactured by connecting them. Therefore, a seam is formed in the molded part for manufacturing the completed large glass molded product. For this reason, in order to prevent the generation | occurrence | production of the stripe | line | muscle in a seam and to ensure flat precision about the glass molded product shape | molded, a high precision grinding | polishing finish or the cover by platinum is needed.

さらにアルミナ系、ジルコン系等の耐火セラミックス材料からなる成形部は溶融ガラスとの接触によって侵食を受けるため、成形されるガラス成形品の平坦精度の低下等の経時的な品質低下を生じ、ガラス製造装置の連続使用時間を長くすることができなかった。 In addition, molded parts made of refractory ceramic materials such as alumina and zircon are eroded by contact with molten glass, resulting in deterioration in quality over time, such as a decrease in flatness accuracy of molded glass products, and glass production. The continuous use time of the device could not be extended.

そのため、成形部の表面に白金又は白金合金を被覆することによって、耐火セラミックス材料からなる成形部が溶融ガラスとの接触によって侵食されることを抑制し、併せて大型成形品製造用の成形部が有する継ぎ目を保護する方法が提案されている（例えば、特許文献２又は３を参照。）。 Therefore, by covering the surface of the molded part with platinum or a platinum alloy, the molded part made of a refractory ceramic material is prevented from being eroded by contact with the molten glass. A method for protecting a seam that has been proposed has been proposed (see, for example, Patent Document 2 or 3).

米国特許第３３３８６９６号明細書US Pat. No. 3,338,696 特開２００２−２５５５７５号公報JP 2002-255575 A 特開２００７−１５３７１３号公報JP 2007-153713 A

しかし成形部は、耐火物からなる支持部材によって長手方向の両端で支えられているため、ガラス成形品の大型化が進むと、成形部及びガラスの自重によって中央付近に反りが発生する。その結果、成形部から溶融ガラスの溢れる位置によって下方への流量が変化するため、ガラスの厚みが異なる等、均質なガラスの成形が困難になるという問題があった。 However, since the molded part is supported at both ends in the longitudinal direction by support members made of a refractory material, warping occurs near the center due to the weight of the molded part and the glass when the size of the glass molded product increases. As a result, the flow rate downward changes depending on the position where the molten glass overflows from the forming part, and there is a problem that it becomes difficult to form a homogeneous glass such as the glass thickness being different.

また、白金又は白金合金は高温時における剛性が低いことから、成形部に白金又は白金合金を被覆した場合でも成形部の経時的な変形を防止することはできず、上記の問題を解決することはできなかった。 Moreover, since platinum or platinum alloy has low rigidity at high temperature, even when the molded part is coated with platinum or platinum alloy, it is not possible to prevent the deformation of the molded part over time and solve the above problems. I couldn't.

そこで本発明は、溶融ガラスとの接触による成形部の侵食の抑制と、高温時における成形部の剛性の保持を共に満たし、ガラス成形品の大小に関わらず、長時間、安定して製造できる、フュージョン法を利用するガラス製造装置の成形部及びそれを用いたガラス成形品の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention satisfies both the suppression of the erosion of the molded part due to contact with the molten glass and the maintenance of the rigidity of the molded part at high temperatures, and can be manufactured stably for a long time regardless of the size of the glass molded product. It aims at providing the manufacturing part of the glass manufacturing apparatus using the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus using a fusion method, and it.

本発明者は、フュージョン法を利用してガラス成形品を製造するときに用いられるガラス製造装置の成形部の構造及び材料の組成を種々検討した結果、前記成形部における溶融ガラスとの接触部分を、イリジウム又はイリジウム合金で形成し、かつ、酸素との接触を避けることができる成形部であれば、白金又は白金合金と同様に溶融ガラスによる侵食を抑制することができ、かつ、高温度で高い剛性が得られることによって、上記問題を解決できることを見出し、発明を完成した。 As a result of various investigations on the structure and material composition of the molding part of a glass manufacturing apparatus used when manufacturing a glass molded article using the fusion method, the present inventor has determined the contact portion with the molten glass in the molding part. As long as it is a molded part formed of iridium or an iridium alloy and avoiding contact with oxygen, erosion by molten glass can be suppressed similarly to platinum or platinum alloy, and high at a high temperature. The inventors have found that the above problem can be solved by obtaining rigidity, and have completed the invention.

すなわち本発明に係るガラス製造装置の成形部は、フュージョン法を利用してガラス成形品を製造するときに用いられるガラス製造装置の成形部において、前記成形部は、溶融ガラスとの接触部分がイリジウム又はイリジウム合金で形成され、かつ、前記イリジウム又はイリジウム合金からなる部分の表面のうち前記溶融ガラスと接触していない表面部分と大気との接触を遮断する大気遮蔽手段を有し、該大気遮蔽手段は、前記成形部の外表面のうち前記溶融ガラスと接触していない表面部分を保護しつつ前記成形部を支持する耐火物材料からなる支持部材であり、前記成形部は、イリジウム又はイリジウム合金で形成された構造を有するか、或いは、構造体をイリジウム又はイリジウム合金が被覆している構造を有し、前記構造体を被覆しているイリジウム又はイリジウム合金の被覆層に厚みは、０．５〜３．０ｍｍであり、前記イリジウム合金は、ロジウム含有量０．５〜２５．０原子％のロジウム・イリジウム合金、レニウム含有量０．５〜４０．０原子％のレニウム・イリジウム合金、モリブデン含有量０．５〜２３．０原子％のモリブデン・イリジウム合金、タングステン含有量０．５〜１９．０原子％のタングステン・イリジウム合金、ニオブ含有量０．５〜１６．０原子％のニオブ・イリジウム合金、タンタル含有量０．５〜１６．０原子％のタンタル・イリジウム合金、ジルコニウム含有量０．５〜７．０原子％のジルコニウム・イリジウム合金又はハフニウム含有量０．５〜９．５原子％のハフニウム・イリジウム合金であることを特徴とする。イリジウム又はイリジウム合金からなる外表面のうち成形部の長手方向の両端面及びその縁部は溶融ガラスと接触しないため、支持部材によって大気との接触を遮断することによって、その外表面が酸化され揮発することを防止できる。イリジウム又はイリジウム合金の被覆層の厚みが、０．５〜３．０ｍｍであることで成形部に十分な高温強度を付与することができる。 That is, the molding part of the glass manufacturing apparatus according to the present invention is a molding part of a glass manufacturing apparatus used when manufacturing a glass molded product using the fusion method, and the molding part has a contact part with molten glass having iridium. Or an air shielding means for blocking contact between the surface portion of the surface of the portion made of iridium alloy and made of iridium or the iridium alloy and not in contact with the molten glass, and the atmosphere. is Ri support member der consisting refractory material for supporting the molding unit while protecting a surface portion not in contact with the molten glass of the outer surface of the forming section, the forming section, iridium or iridium alloy Or a structure in which the structure is covered with iridium or an iridium alloy, and the structure is covered. The iridium or iridium alloy coating layer has a thickness of 0.5 to 3.0 mm, and the iridium alloy has a rhodium / iridium alloy having a rhodium content of 0.5 to 25.0 atomic% and a rhenium content of 0. 5-40.0 atomic% rhenium-iridium alloy, molybdenum content 0.5-23.0 atomic% molybdenum-iridium alloy, tungsten content 0.5-19.0 atomic% tungsten-iridium alloy, niobium Niobium / iridium alloy having a content of 0.5 to 16.0 atomic%, tantalum / iridium alloy having a tantalum content of 0.5 to 16.0 atomic%, zirconium having a zirconium content of 0.5 to 7.0 atomic% It is an iridium alloy or a hafnium-iridium alloy having a hafnium content of 0.5 to 9.5 atomic% . Of the outer surface made of iridium or an iridium alloy, both end faces in the longitudinal direction of the molded part and its edges do not come into contact with the molten glass, so that the outer surface is oxidized and volatilized by blocking the contact with the atmosphere by the support member. Can be prevented. When the thickness of the coating layer of iridium or iridium alloy is 0.5 to 3.0 mm, sufficient high-temperature strength can be imparted to the molded part.

イリジウム又はイリジウム合金は高温度での剛性が高く、圧縮荷重によりクリープ変形も小さいため、成形部の構造材料又は被覆材料として使用すると成形部の変形を防止することができる。 Since iridium or iridium alloy has high rigidity at high temperatures and small creep deformation due to a compressive load, deformation of the molded part can be prevented when used as a structural material or a coating material of the molded part.

本発明に係るガラス製造装置の成形部には、イリジウム又はイリジウム合金で形成された中空体の構造を有し、前記大気遮蔽手段は、更に、前記中空体の内部空間に不活性ガス又は水素ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給するための配管である場合が含まれる。成形部の軽量化のためにその内部を中空構造とすることが好ましい。このとき中空体の内部空間に不活性ガス又は水素ガスと不活性ガスの混合ガスを通気する配管を設けることによって、中空体内面のイリジウム又はイリジウム合金が大気中の酸素と接触して酸化され揮発することを防止することができる。 The molding part of the glass manufacturing apparatus according to the present invention has a hollow body structure formed of iridium or an iridium alloy, and the atmospheric shielding means further includes an inert gas or hydrogen gas in the internal space of the hollow body. The case where it is piping for supplying the mixed gas of and inert gas is included. In order to reduce the weight of the molded part, it is preferable that the inside has a hollow structure. At this time, by providing a pipe for passing an inert gas or a mixed gas of hydrogen gas and inert gas in the internal space of the hollow body, iridium or an iridium alloy on the inner surface of the hollow body is oxidized and volatilized in contact with oxygen in the atmosphere. Can be prevented.

本発明に係るガラス製造装置の成形部では、大気遮蔽手段として不活性ガスを供給する配管を使用する場合、前記不活性ガスが、窒素ガスであることが好ましい。経済的に酸素を遮断することができる。 In the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which concerns on this invention, when using piping which supplies inert gas as an atmospheric shielding means, it is preferable that the said inert gas is nitrogen gas. Oxygen can be cut off economically.

本発明に係るガラス製造装置の成形部には、イリジウム又はイリジウム合金で形成された中空体の内部空間に、金属又はセラミックスの梁が通されて前記成形部が支持されている場合が含まれる。成形部の剛性を高めて変形を防止できる。 The forming part of the glass manufacturing apparatus according to the present invention includes a case where a metal or ceramic beam is passed through an internal space of a hollow body made of iridium or an iridium alloy and the forming part is supported. Deformation can be prevented by increasing the rigidity of the molded part.

本発明に係るガラス製造装置の成形部には、イリジウム又はイリジウム合金が被覆している構造体はセラミックス又は金属で形成されてなり、前記成形部は前記構造体によって支持されている場合が含まれる。 The molded part of the glass manufacturing apparatus according to the present invention includes a case where the structure covered with iridium or an iridium alloy is formed of ceramics or metal, and the molded part is supported by the structure. .

本発明に係るガラス製造装置の成形部では、前記金属又はセラミックスの梁又は前記被覆されている構造体の材質がイリジウム又はイリジウム合金である場合が含まれる。 In the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which concerns on this invention, the case where the material of the said metal or ceramic beam or the said structure covered is iridium or an iridium alloy is included.

本発明に係るガラス製造装置の成形部では、前記支持部材によってかけられる両端から内側への圧力により、前記成形部の上面が直線状に保持されることが好ましい。成形部の高温度におけるクリープ変形をさらに防止できる。 In the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which concerns on this invention, it is preferable that the upper surface of the said shaping | molding part is hold | maintained linearly by the pressure to the inside from the both ends applied with the said supporting member. Creep deformation at a high temperature of the molded part can be further prevented.

本発明に係るガラス成形品の成形方法は、本発明に係るガラス製造装置の成形部を用いて、フュージョン法によってガラス成形品を製造する方法において、前記成形部を取り囲む製造雰囲気を、不活性ガス雰囲気又は水素ガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気とすることを特徴とする。 A method for forming a glass molded product according to the present invention is a method for manufacturing a glass molded product by a fusion method using a molded part of a glass manufacturing apparatus according to the present invention, wherein the manufacturing atmosphere surrounding the molded part is an inert gas. An atmosphere or a mixed gas atmosphere of hydrogen gas and inert gas is used.

本発明は、フュージョン法を利用してガラス成形品を製造するときに、ガラス成形品の大小に関わらず、成形部及びガラスの自重による成形部の反りを低減でき、かつ、成形部が溶融ガラスとの接触によって侵食を受けることを低減できる。この結果、フュージョン法を利用してガラス成形品を長期間、安定して製造できる。 The present invention can reduce the warpage of the molded part and the molded part due to the weight of the glass regardless of the size of the glass molded article when manufacturing the glass molded article using the fusion method, and the molded part is molten glass. Erosion due to contact with can be reduced. As a result, a glass molded product can be stably produced over a long period of time using the fusion method.

以下本発明について実施形態を示して詳細に説明するが本発明はこれらの記載に限定して解釈されない。本発明の効果を奏する限り、実施形態は種々の変形をしてもよい。なお、同一部材・同一部位には同一符号を付した。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments, but the present invention is not construed as being limited to these descriptions. As long as the effect of the present invention is exhibited, the embodiment may be variously modified. In addition, the same code | symbol was attached | subjected to the same member and the same location.

図１に本実施形態に係るガラス製造装置の概略正面図を示す。ここで最初に図１を使用して、フュージョン法によるガラス成形品の製造方法について説明する。図１に示すように、成形部１の両端９，１０には、上流側支持部材２と下流側支持部材３がそれぞれ係合し、両端９，１０から内側方向へ圧力をかけることによって、成形部の上面４が直線状に保持されている。また上流側支持部材２には、溶融ガラスの導入路５が設けられている。 FIG. 1 shows a schematic front view of a glass manufacturing apparatus according to this embodiment. Here, the manufacturing method of the glass molded article by a fusion method is demonstrated first using FIG. As shown in FIG. 1, the upstream side support member 2 and the downstream side support member 3 are engaged with both ends 9 and 10 of the molding portion 1, respectively, and pressure is applied from both ends 9 and 10 to the inside, thereby forming the molding. The upper surface 4 of the part is held linearly. The upstream support member 2 is provided with a molten glass introduction path 5.

導入路５は、清澄された溶融ガラスを成形部１の溝部６に供給するために設けられていて、供給された溶融ガラスは、溝部６に沿って上流側支持部材２側から下流側支持部材３側に流動するとともに成形部１の上面４よりオーバーフローする。 The introduction path 5 is provided to supply the clarified molten glass to the groove portion 6 of the molding portion 1, and the supplied molten glass extends from the upstream support member 2 side to the downstream support member along the groove portion 6. It flows to 3 side and overflows from the upper surface 4 of the molding part 1.

オーバーフローした溶融ガラス(不図示)は、成形部１の側面７に沿って流れ、下端８において一体化し、下方に引っ張られることによって板状のガラス成形品が連続的に形成される。 Overflowing molten glass (not shown) flows along the side surface 7 of the molding part 1, is integrated at the lower end 8, and pulled downward to continuously form a plate-like glass molded product.

次に本実施形態に係るガラス製造装置の成形部について説明する。図１において、成形部１は、溶融ガラスとの接触部分がイリジウム又はイリジウム合金で形成されている。すなわち、少なくとも溝部６の表面、上面４及び側面７の表面がイリジウム又はイリジウム合金で形成されている。さらに本実施形態に係るガラス製造装置の成形部１は、イリジウム又はイリジウム合金からなる表面のうち溶融ガラスと接触していない表面部分と大気との接触を遮断する大気遮断手段を有している。 Next, the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which concerns on this embodiment is demonstrated. In FIG. 1, as for the shaping | molding part 1, the contact part with a molten glass is formed with iridium or an iridium alloy. That is, at least the surface of the groove 6, the upper surface 4 and the side surface 7 are formed of iridium or an iridium alloy. Furthermore, the shaping | molding part 1 of the glass manufacturing apparatus which concerns on this embodiment has an air | atmosphere interruption | blocking means which interrupts | blocks the contact with the surface part which is not contacting molten glass among the surfaces which consist of iridium or an iridium alloy.

イリジウム又はイリジウム合金は、溶融ガラスによる侵食を受けにくく、かつ、ガラス製造時の高温度においても高い剛性を有しているため、圧縮荷重によりクリープ変形も小さいため成形部の構造材料又は被覆材料として使用すると成形部の変形を防止することができ、成形部１は長期間、高品質のガラス成形品を製造することができる。 Iridium or an iridium alloy is less susceptible to erosion by molten glass and has high rigidity even at high temperatures during glass production, so that creep deformation is small due to compressive load. When used, deformation of the molded part can be prevented, and the molded part 1 can produce a high-quality glass molded product for a long period of time.

しかし、イリジウム又はイリジウム合金は高温度において大気中の酸素と反応して酸化され揮発し、消耗が進みやすい。そのため、本実施形態に係るガラス製造装置の成形部１では、溶融ガラスと接触していない部分は大気との接触を遮断する大気遮断手段を設けている。大気遮断手段を設けることによって、ガラス製造時の高温度においても、高い剛性を維持しつつ、消耗を抑制することができるため、高品質で精度の高いガラス成形品を長時間連続して製造することが可能となった。以下、成形部１について、５つの形態（第１実施形態から第５実施形態）に分けて説明する。大気遮断手段は各形態によって変形例があり、一緒に説明することとする。 However, iridium or an iridium alloy reacts with oxygen in the atmosphere at a high temperature and is oxidized and volatilized, so that consumption tends to proceed. Therefore, in the shaping | molding part 1 of the glass manufacturing apparatus which concerns on this embodiment, the part which is not contacting molten glass is provided with the air | atmosphere interruption | blocking means which interrupts | blocks the contact with air | atmosphere. By providing the air blocking means, it is possible to suppress wear while maintaining high rigidity even at high temperatures during glass production, so that high-quality and high-precision glass molded products are produced continuously for a long time. It became possible. Hereinafter, the molded part 1 will be described by dividing it into five forms (from the first embodiment to the fifth embodiment). There are variations in the air blocking means depending on each form, and they will be described together.

第１実施形態から第５実施形態に係るガラス製造装置の成形部１ａ,１ｂ,１ｃ,１ｄ,１ｅの断面概略図を、図２〜図６に示す。第１実施形態に係るガラス製造装置の成形部１ａは、図２に示すように、一体型の成形部１ａであって、イリジウム又はイリジウム合金の単一材料によって成形部１ａ全体が形成されている。図１において、イリジウム又はイリジウム合金からなる成形部１の外表面であってガラスと接触しない表面としては、成形部１の両端９，１０がある。そこで、上流側支持部材２及び下流側支持部材３を大気遮蔽手段として、両端９，１０の端面及びその縁部が大気と接触しないように保護することが好ましい。イリジウム又はイリジウム合金が高温度において大気中の酸素と反応して酸化され揮発し、消耗することを防止するためである。また、上流側支持部材２と下流側支持部材３は、成形部の両端９，１０から内側方向へ圧力をかけており、これによって成形部の上面４が直線状に保持されている。直線状に保持するためには、支持部材２，３による内側への圧力を調整する圧力調整手段（不図示）を設けることが好ましい。圧力調整手段は、例えば、支持部材２，３間の距離を調整するスライド機構である。クリープ変形の程度は温度によって変化するため、支持部材による内側への圧力は、圧力調整手段によって必要に応じて調整可能である。 2 to 6 show schematic cross-sectional views of the forming portions 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e of the glass manufacturing apparatus according to the first to fifth embodiments. As shown in FIG. 2, the molding part 1a of the glass manufacturing apparatus according to the first embodiment is an integral molding part 1a, and the entire molding part 1a is formed of a single material of iridium or an iridium alloy. . In FIG. 1, the outer surfaces of the molded part 1 made of iridium or an iridium alloy and not contacting the glass include both ends 9 and 10 of the molded part 1. Therefore, it is preferable that the upstream support member 2 and the downstream support member 3 are used as atmospheric shielding means to protect the end surfaces of both ends 9 and 10 and their edges from contact with the atmosphere. This is to prevent iridium or an iridium alloy from reacting with oxygen in the atmosphere at high temperatures to be oxidized and volatilized and consumed. Further, the upstream side support member 2 and the downstream side support member 3 apply pressure inward from both ends 9 and 10 of the molded part, whereby the upper surface 4 of the molded part is held linearly. In order to hold it in a straight line, it is preferable to provide a pressure adjusting means (not shown) for adjusting the pressure inward by the support members 2 and 3. The pressure adjusting means is, for example, a slide mechanism that adjusts the distance between the support members 2 and 3. Since the degree of creep deformation varies depending on the temperature, the inward pressure by the support member can be adjusted as needed by the pressure adjusting means.

第２実施形態に係るガラス製造装置の成形部１ｂは、図３に示すように、セラミックス材料若しくは金属材料で形成される構造体１５ａをイリジウム又はイリジウム合金からなる被覆層１７によって被覆している構造を有する。なお、構造体１５ａはバルク体である。 As shown in FIG. 3, the molding part 1b of the glass manufacturing apparatus according to the second embodiment has a structure in which a structure 15a formed of a ceramic material or a metal material is covered with a coating layer 17 made of iridium or an iridium alloy. Have The structure 15a is a bulk body.

一方、第３実施形態に係るガラス製造装置の成形部１ｃは、図４に示すように、セラミック材料若しくは金属材料で形成された構造体１５ｂが内部空間２１を有する中空構造である。この場合、成形部１ｃの軽量化をすることができる。 On the other hand, the molding part 1c of the glass manufacturing apparatus according to the third embodiment has a hollow structure in which a structure 15b formed of a ceramic material or a metal material has an internal space 21, as shown in FIG. In this case, the molded part 1c can be reduced in weight.

第２実施形態又は第３実施形態では、図３又は図４において、構造体１５ａ，１５ｂとそれを被覆しているイリジウム又はイリジウム合金からなる被覆層１７との間隙３０に大気が侵入又は存在した場合に、イリジウム又はイリジウム合金が大気中の酸素と反応して酸化され揮発するため、大気遮断手段として成形部１ｂ、１ｃの間隙３０に不活性ガス又は不活性ガスと水素との混合ガスを供給する配管（図１の配管１１）を設けることが好ましい。例えば、図１に示すように、成形部１ｂ,１ｃの両端９,１０の一方にガス供給用の配管１１を設ける。ここで供給された不活性ガス又は不活性ガスと水素との混合ガスは、成形部１ｂ,１ｃの構造上の間隙より排出されるが、成形部１ｂ,１ｃの両端９，１０の他方にガス排出用の配管１２をさらに設けてガスを排出してもよい。ここで不活性ガスは、窒素ガスであることが好ましい。イリジウム又はイリジウム合金からなる被覆層１７と酸素との接触を経済的に遮断することができる。また、不活性ガス中に混合する水素の比率は、０．１〜２０％が好ましい。さらに、成形部１ｂ,１ｃの両端９,１０の外表面のイリジウム又はイリジウム合金は溶融ガラスと接触しないため、第１実施形態と同様に、支持部材２，３も大気遮断手段とし、溶融ガラスとの非接触部分を大気から支持部材２，３によって遮断してイリジウム又はイリジウム合金を保護することが好ましい。 In the second embodiment or the third embodiment, in FIG. 3 or FIG. 4, the air has entered or existed in the gap 30 between the structures 15 a and 15 b and the coating layer 17 made of iridium or iridium alloy covering the structures 15 a and 15 b. In this case, since iridium or an iridium alloy reacts with oxygen in the atmosphere and is oxidized and volatilizes, an inert gas or a mixed gas of inert gas and hydrogen is supplied to the gap 30 between the molding parts 1b and 1c as an atmospheric blocking means. It is preferable to provide a pipe (pipe 11 in FIG. 1). For example, as shown in FIG. 1, a gas supply pipe 11 is provided at one of both ends 9, 10 of the molding parts 1 b, 1 c. The inert gas or the mixed gas of inert gas and hydrogen supplied here is discharged from the structural gap between the molded parts 1b and 1c, but the gas is discharged to the other of the ends 9 and 10 of the molded parts 1b and 1c. An exhaust pipe 12 may be further provided to discharge the gas. Here, the inert gas is preferably nitrogen gas. Contact between the coating layer 17 made of iridium or an iridium alloy and oxygen can be cut off economically. Moreover, the ratio of hydrogen mixed in the inert gas is preferably 0.1 to 20%. Furthermore, since iridium or an iridium alloy on the outer surfaces of both ends 9 and 10 of the molded parts 1b and 1c does not come into contact with the molten glass, the support members 2 and 3 are also used as the air blocking means as in the first embodiment. It is preferable to protect the iridium or the iridium alloy by blocking the non-contact portion from the atmosphere by the support members 2 and 3.

第４実施形態に係るガラス製造装置の成形部１ｄは、図５に示すように、イリジウム又はイリジウム合金で形成された中空体１９ａの構造を有している。成形部の軽量化及び材料コストの低減のためには、成形部１ｄを中空構造とすることが好ましい。この場合、中空体１９ａの内部空間２１に不活性ガス又は水素ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給することによって、中空体内面のイリジウム又はイリジウム合金が大気中の酸素と接触して酸化され揮発することを防止することができる。したがって、大気遮断手段として中空構造の成形部１ｄの内部空間２１に不活性ガス又は不活性ガスと水素との混合ガスを供給する配管（図１の配管１１）を設けることが好ましい。第２実施形態と同様に、ガス排出用の配管１２をさらに設けてガスを排出してもよい。不活性ガスは窒素ガスであることが好ましい。さらに成形部１ｄにおいても、第１実施形態と同様に、支持部材２，３も大気遮断手段とすることが好ましい。 As shown in FIG. 5, the molding part 1d of the glass manufacturing apparatus according to the fourth embodiment has a structure of a hollow body 19a formed of iridium or an iridium alloy. In order to reduce the weight of the molded part and reduce the material cost, the molded part 1d preferably has a hollow structure. In this case, by supplying an inert gas or a mixed gas of hydrogen gas and inert gas to the internal space 21 of the hollow body 19a, iridium or an iridium alloy on the inner surface of the hollow body is oxidized in contact with oxygen in the atmosphere. Volatilization can be prevented. Therefore, it is preferable to provide a pipe (pipe 11 in FIG. 1) for supplying an inert gas or a mixed gas of inert gas and hydrogen to the internal space 21 of the hollow-shaped molding part 1d as an air blocking means. Similarly to the second embodiment, a gas discharge pipe 12 may be further provided to discharge the gas. The inert gas is preferably nitrogen gas. Furthermore, also in the molding part 1d, it is preferable that the supporting members 2 and 3 are also the air blocking means as in the first embodiment.

第５実施形態に係るガラス製造装置の成形部１ｅは、図６に示すように、イリジウム又はイリジウム合金で形成された中空体１９ｂの内部空間２１に、金属又はセラミックス材料の梁２３が通されて成形部１ｅが支持されている。梁２３によって成形部１ｅの剛性を高めて変形を防止することができる。梁２３は、金属であれば加工性がよいため、断面が、Ｉ形（例えば図６に示した）、Ｈ形、Ｔ形、溝形、山形（Ｌ形）の部材を使用できる。また、成形部１ｅにおいても、第４実施形態と同様の大気遮断手段、すなわち、不活性ガス又は不活性ガスと水素との混合ガスを供給する配管を設けることが好ましい。また、ガス排出用の配管１２をさらに設けてもよい。不活性ガスは窒素ガスであることが好ましい。さらに第１実施形態と同様に、支持部材２，３も大気遮断手段とすることが好ましい。 As shown in FIG. 6, in the molding unit 1 e of the glass manufacturing apparatus according to the fifth embodiment, a beam 23 of a metal or ceramic material is passed through an internal space 21 of a hollow body 19 b formed of iridium or an iridium alloy. The molding part 1e is supported. The beam 23 can increase the rigidity of the molded portion 1e to prevent deformation. Since the beam 23 has good workability if it is a metal, a member having a cross section of I shape (for example, shown in FIG. 6), H shape, T shape, groove shape, or mountain shape (L shape) can be used. Also in the molding part 1e, it is preferable to provide the same air blocking means as in the fourth embodiment, that is, a pipe for supplying an inert gas or a mixed gas of inert gas and hydrogen. Further, a gas discharge pipe 12 may be further provided. The inert gas is preferably nitrogen gas. Furthermore, as in the first embodiment, the support members 2 and 3 are preferably air blocking means.

ここで第２、第３及び第５実施形態におけるセラミックス材料の例としては、アルミナ系、ジルコン系、ムライト系、シリカアルミナ等の耐火物セラミックス材料が挙げられ、金属材料の例としては、高温で強度を有するイリジウム、イリジウム合金、モリブデン、モリブデン合金、タングステン、タングステン合金、ニッケル合金等の耐熱性金属材料が挙げられる。 Here, examples of the ceramic material in the second, third, and fifth embodiments include refractory ceramic materials such as alumina, zircon, mullite, and silica alumina. Examples of the metal material include high temperatures. Examples thereof include heat-resistant metal materials such as iridium, iridium alloy, molybdenum, molybdenum alloy, tungsten, tungsten alloy, and nickel alloy having strength.

本実施形態に係るガラス製造装置の成形部では、第１〜第５の実施形態のいずれも、支持部材２，３は耐火物材料、例えばアルミナ、ジルコニア、ジルコン、シリコンナイトライド、ボロンナイトライドからなることが好ましい。 In the molding part of the glass manufacturing apparatus according to this embodiment, in any of the first to fifth embodiments, the support members 2 and 3 are made of a refractory material such as alumina, zirconia, zircon, silicon nitride, boron nitride. It is preferable to become.

本実施形態に係るガラス製造装置の成形部では、イリジウム又はイリジウム合金の被覆層１７の厚みが、０．５〜３．０ｍｍであることが好ましい。０．５ｍｍより薄いと、自重等によって板材が変形するおそれがあり、３．０ｍｍより厚いと板としての表面の平坦性を保つことが難しくなる。 In the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which concerns on this embodiment, it is preferable that the thickness of the coating layer 17 of iridium or an iridium alloy is 0.5-3.0 mm. If it is thinner than 0.5 mm, the plate material may be deformed by its own weight or the like, and if it is thicker than 3.0 mm, it becomes difficult to maintain the flatness of the surface as a plate.

本実施形態に係るイリジウム合金として適した組成を次に説明する。例えば、イリジウムにロジウムを添加することによって、強度向上及び揮発抑制の効果がある。また、レニウム、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、ジルコニウム又はハフニウムを１種類又はこれらのうち２種類以上を組み合わせて添加することによって、強度、加工性及び溶接性が向上する効果がある。上記の添加金属がイリジウムと固溶する範囲においてイリジウム合金を作製し、本実施形態に係るイリジウム合金として使用することが好ましい。 A composition suitable as the iridium alloy according to this embodiment will be described below. For example, adding rhodium to iridium has an effect of improving strength and suppressing volatilization. Further, adding rhenium, molybdenum, tungsten, niobium, tantalum, zirconium, or hafnium alone or in combination of two or more thereof has an effect of improving strength, workability, and weldability. It is preferable to produce an iridium alloy within the range in which the additive metal is dissolved in iridium and use it as the iridium alloy according to the present embodiment.

本実施形態に係るロジウムを含有したイリジウム合金では、ロジウムの含有量として０．５〜２５．０原子％、より好ましくは、５．０〜２０．０原子％である。なお、この場合、イリジウムの含有量は、７５．０〜９９．５原子％、好ましくは、８０.０〜９５.０％である。以下、イリジウムの含有量の記載は省略する。ロジウムの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、２５．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing rhodium according to the present embodiment, the rhodium content is 0.5 to 25.0 atomic%, more preferably 5.0 to 20.0 atomic%. In this case, the iridium content is 75.0 to 99.5 atomic%, preferably 80.0 to 95.0%. Hereinafter, the description of the iridium content is omitted. If the rhodium content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, when the content is more than 25.0 atomic%, it is difficult to deform due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るレニウムを含有したイリジウム合金では、レニウムの含有量として０．５〜４０．０原子％、より好ましくは、１．０〜１０．０原子％である。レニウムの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、４０．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing rhenium according to the present embodiment, the rhenium content is 0.5 to 40.0 atomic%, and more preferably 1.0 to 10.0 atomic%. If the rhenium content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, if it is more than 40.0 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るモリブデンを含有したイリジウム合金では、モリブデンの含有量として０．５〜２３．０原子％、より好ましくは、１．０〜１０．０原子％である。モリブデンの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、２３．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing molybdenum according to the present embodiment, the molybdenum content is 0.5 to 23.0 atomic%, more preferably 1.0 to 10.0 atomic%. If the molybdenum content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, if it is more than 23.0 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るタングステンを含有したイリジウム合金では、タングステンの含有量として０．５〜１９．０原子％、より好ましくは、５．０〜１５．０原子％である。タングステンの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、１９．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing tungsten according to the present embodiment, the tungsten content is 0.5 to 19.0 atomic%, more preferably 5.0 to 15.0 atomic%. If the tungsten content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, when the content is more than 19.0 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るニオブを含有したイリジウム合金では、ニオブの含有量として０．５〜１６．０原子％、より好ましくは、１．０〜５．０原子％である。ニオブの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、１６．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing niobium according to the present embodiment, the niobium content is 0.5 to 16.0 atomic%, more preferably 1.0 to 5.0 atomic%. If the niobium content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, if it is more than 16.0 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るタンタルを含有したイリジウム合金では、タンタルの含有量として０．５〜１６．０原子％、より好ましくは、１．０〜５．０原子％である。タンタルの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、１６．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing tantalum according to the present embodiment, the content of tantalum is 0.5 to 16.0 atomic%, and more preferably 1.0 to 5.0 atomic%. If the tantalum content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, if it is more than 16.0 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るジルコニウムを含有したイリジウム合金では、ジルコニウムの含有量として０．５〜７．０原子％、より好ましくは、０．５〜３．０原子％である。ジルコニウムの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、７．０原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing zirconium according to the present embodiment, the zirconium content is 0.5 to 7.0 atomic%, and more preferably 0.5 to 3.0 atomic%. If the zirconium content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, if it is more than 7.0 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るハフニウムを含有したイリジウム合金では、ハフニウムの含有量として０．５〜９．５原子％、より好ましくは、０．５〜５．０原子％である。ハフニウムの含有量が０．５原子％より少ないと、熱歪みにより変形が生じてしまう。また、９．５原子％より多いと、強度があるために変形しづらく、製品の加工時に割れの発生等が起こってしまう。 In the iridium alloy containing hafnium according to the present embodiment, the hafnium content is 0.5 to 9.5 atomic%, more preferably 0.5 to 5.0 atomic%. If the hafnium content is less than 0.5 atomic%, deformation occurs due to thermal strain. On the other hand, if it exceeds 9.5 atomic%, it is difficult to be deformed due to its strength, and cracking or the like occurs during processing of the product.

本実施形態に係るガラス成形品の製造方法は、第１〜第５の各実施形態の成形部１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅを使用して製造する方法の他に、例えば、図１に示すようなフュージョン法を利用したガラス製造装置において、成形部１を取り囲む製造雰囲気を、不活性ガス雰囲気又は水素ガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気として製造することもできる。この方法によれば、第１〜第５の各実施形態と同様に成形部のイリジウム又はイリジウム合金が大気と接触することが遮断されて、酸化され揮発することが抑制される。したがって長期間のガラス製造をすることができる。 The glass molded product manufacturing method according to the present embodiment includes, for example, FIG. 1 in addition to the method of manufacturing using the molded portions 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e of the first to fifth embodiments. In the glass manufacturing apparatus using the fusion method as shown, the manufacturing atmosphere surrounding the molding part 1 can be manufactured as an inert gas atmosphere or a mixed gas atmosphere of hydrogen gas and inert gas. According to this method, the iridium or the iridium alloy of the molding part is blocked from coming into contact with the atmosphere, and is oxidized and volatilized as in the first to fifth embodiments. Therefore, it is possible to produce glass for a long time.

図１に示すガラス製造装置において、図２、図３及び図６に示したガラス製造装置の成形部を作製し、イリジウム及びイリジウム合金で形成された箇所については、その加工状態（材料加工時の割れの有無、表面の平坦性）を確認した。その後、以下の条件で用いて、窒素ガス雰囲気で、成形部の両端９，１０に支持部材２，３によって内側へ圧力をかけながら、溶融したアルミノシリケートガラスを導入路５より成形部１の溝部６に供給し、上面４よりオーバーフローさせ、１００〜３００ｍ／時間の速度で下方に引っ張り、板ガラスを連続的に製造した。成形部の良否の判別は、連続１週間の使用後冷却、再度１週間使用したときの成形部の状態（表面の揮発の有無、上部の反りの有無）を目視することによって行なった。 In the glass manufacturing apparatus shown in FIG. 1, the molded part of the glass manufacturing apparatus shown in FIGS. 2, 3, and 6 is produced, and the portion formed of iridium and an iridium alloy is in its processed state (at the time of material processing). The presence of cracks and the flatness of the surface were confirmed. Thereafter, the molten aluminosilicate glass is introduced into the groove portion of the molded portion 1 from the introduction path 5 while applying pressure to both ends 9 and 10 of the molded portion inward by the support members 2 and 3 in a nitrogen gas atmosphere under the following conditions. 6, overflowed from the upper surface 4, and pulled downward at a speed of 100 to 300 m / hour to continuously produce plate glass. The determination of the quality of the molded part was made by visually checking the state of the molded part (presence of volatilization of the surface, presence of warpage of the upper part) when it was used again for one week after continuous use for one week.

（実施例１）
図２の成形部１をイリジウムで作製した。 Example 1
The molded part 1 of FIG. 2 was made of iridium.

（実施例２）
図２の成形部１ａをイリジウムにロジウムを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 2)
The formed part 1a of FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% rhodium in iridium.

（実施例３）
図２の成形部１ａをイリジウムにロジウムを２５原子％含有した合金で作製した。 (Example 3)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 25 atomic% rhodium in iridium.

（実施例４）
図２の成形部１ａをイリジウムにレニウムを０．５原子％含有した合金で作製した。 Example 4
The formed part 1a of FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% rhenium in iridium.

（実施例５）
図２の成形部１ａをイリジウムにレニウムを４０．０原子％含有した合金で作製した。 (Example 5)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 40.0 atomic% rhenium in iridium.

（実施例６）
図２の成形部１ａをイリジウムにモリブデンを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 6)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% of molybdenum in iridium.

（実施例７）
図２の成形部１ａをイリジウムにモリブデンを４０．０原子％含有した合金で作製した。 (Example 7)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 40.0 atomic% of molybdenum in iridium.

（実施例８）
図２の成形部１ａをイリジウムにタングステンを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 8)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% of tungsten in iridium.

（実施例９）
図２の成形部１ａをイリジウムにタングステンを１９．０原子％含有した合金で作製した。 Example 9
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 19.0 atomic% tungsten in iridium.

（実施例１０）
図２の成形部１ａをイリジウムにニオブを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 10)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% of niobium in iridium.

（実施例１１）
図２の成形部１ａをイリジウムにニオブを１６．０原子％含有した合金で作製した。 (Example 11)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 16.0 atomic% niobium in iridium.

（実施例１２）
図２の成形部１ａをイリジウムにタンタルを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 12)
The formed part 1a of FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% of tantalum in iridium.

（実施例１３）
図２の成形部１ａをイリジウムにタンタルを１６．０原子％含有した合金で作製した。 (Example 13)
The formed part 1a of FIG. 2 was made of an alloy containing 16.0 atomic% of tantalum in iridium.

（実施例１４）
図２の成形部１ａをイリジウムにジルコニウムを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 14)
2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% of zirconium in iridium.

（実施例１５）
図２の成形部１ａをイリジウムにジルコニウムを７．０原子％含有した合金で作製した。 (Example 15)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 7.0 atomic% zirconium in iridium.

（実施例１６）
図２の成形部１ａをイリジウムにハフニウムを０．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 16)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 0.5 atomic% of hafnium in iridium.

（実施例１７）
図２の成形部１ａをイリジウムにハフニウムを９．５原子％含有した合金で作製した。 (Example 17)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 9.5 atomic% of hafnium in iridium.

（実施例１８）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムを０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 18)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the covering layer 17 was coated with iridium to a thickness of 0.5 mm.

（実施例１９）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムを３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 19)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was coated with iridium to a thickness of 3.0 mm.

（実施例２０）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにロジウムを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 20)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 0.5 atomic% rhodium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例２１）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにロジウムを２５．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 21)
Tungsten was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 25.0 atomic% rhodium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例２２）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにロジウムを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 22)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% rhodium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例２３）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにロジウムを２５．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 23)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 25.0 atomic% rhodium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例２４）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにレニウムを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 24)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 0.5 atomic% rhenium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例２５）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにレニウムを４０．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 25)
Tungsten was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 40.0 atomic% rhenium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例２６）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにレニウムを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 26)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 0.5 atomic% rhenium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例２７）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにレニウムを４０．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 27)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 40.0 atomic% rhenium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例２８）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにモリブデンを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 28)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of molybdenum in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例２９）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにモリブデンを２３．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 29)
The structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 was made of tungsten, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 23.0 atomic% of molybdenum in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例３０）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにモリブデンを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 30)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of molybdenum in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例３１）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにモリブデンを２３．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 31)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 23.0 atomic% of molybdenum in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例３２）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタングステンを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 32)
3 was formed by using molybdenum as the structure 15a of the molded portion 1b in FIG. 3 and coating the coating layer 17 with an alloy containing 0.5 atomic% of tungsten in iridium to a thickness of 0.5 mm.

（実施例３３）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタングステンを１９．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 33)
Tungsten was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was made by coating an alloy containing 19.0 atomic% of tungsten in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例３４）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタングステンを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 34)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of tungsten in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例３５）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにタングステンを１９．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 35)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 19.0 atomic% tungsten on iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例３６）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにニオブを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 36)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of iridium with niobium in a thickness of 0.5 mm.

（実施例３７）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにニオブを１６．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 37)
The structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 was made of tungsten, and the coating layer 17 was made by coating an alloy containing 16.0 atomic% of niobium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例３８）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにニオブを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 38)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 0.5 atomic% of niobium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例３９）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにニオブを１６．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 39)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 16.0 atomic% of niobium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例４０）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタンタルを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 40)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 0.5 atomic% of tantalum in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例４１）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタンタルを１６．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 41)
Tungsten was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 16.0 atomic% tantalum in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例４２）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタンタルを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 42)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of tantalum in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例４３）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにタンタルを１６．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 43)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing iridium with 16.0 atomic% in a thickness of 3.0 mm.

（実施例４４）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにジルコニウムを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 44)
3 was formed by using molybdenum as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 and coating the coating layer 17 with an alloy containing 0.5 atomic% of iridium and zirconium at a thickness of 0.5 mm.

（実施例４５）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにジルコニウムを７．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 45)
The structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 was made of tungsten, and the coating layer 17 was made by coating an alloy containing 7.0 atomic% of iridium with zirconium at a thickness of 0.5 mm.

（実施例４６）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにジルコニウムを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 46)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of zirconium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（実施例４７）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにジルコニウムを７．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 47)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 7.0 atomic% of iridium with zirconium at a thickness of 3.0 mm.

（実施例４８）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにハフニウムを０．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 48)
Molybdenum was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 0.5 atomic% of iridium and hafnium in a thickness of 0.5 mm.

（実施例４９）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにハフニウムを９．５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 49)
Tungsten was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 9.5 atomic% of iridium and hafnium with a thickness of 0.5 mm.

（実施例５０）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにハフニウムを０．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 50)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 0.5 atomic% of iridium and hafnium in a thickness of 3.0 mm.

（実施例５１）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにハフニウムを９．５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Example 51)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 9.5 atomic% of hafnium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例１）
図２の成形部１ａをジルコンで作製した。 (Comparative Example 1)
The molding part 1a of FIG. 2 was produced with zircon.

（比較例２）
図２の成形部１ａをイリジウムにロジウムを２７原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 2)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 27 atomic% rhodium in iridium.

（比較例３）
図２の成形部１ａをイリジウムにレニウムを４２原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 3)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 42 atomic% rhenium in iridium.

（比較例４）
図２の成形部１ａをイリジウムにモリブデンを２５原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 4)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 25 atomic% of molybdenum in iridium.

（比較例５）
図２の成形部１ａをイリジウムにタングステンを２１原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 5)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 21 atomic% of tungsten in iridium.

（比較例６）
図２の成形部１ａをイリジウムにニオブを１８原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 6)
The formed part 1a in FIG. 2 was made of an alloy containing 18 atomic% niobium in iridium.

（比較例７）
図２の成形部１ａをイリジウムにタンタルを１８原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 7)
The formed part 1a of FIG. 2 was made of an alloy containing 18 atomic% of tantalum in iridium.

（比較例８）
図２の成形部１ａをイリジウムにジルコニウムを９．０原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 8)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 9.0 atomic% of zirconium in iridium.

（比較例９）
図２の成形部１ａをイリジウムにハフニウムを１１．０原子％含有した合金で作製した。 (Comparative Example 9)
The formed part 1a shown in FIG. 2 was made of an alloy containing 11.0 atomic% of hafnium in iridium.

（比較例１０）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムを０．３ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 10)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was coated with iridium to a thickness of 0.3 mm.

（比較例１１）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムを３．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 11)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was coated with iridium to a thickness of 3.5 mm.

（比較例１２）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにロジウムを２７原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 12)
3 was formed by using molybdenum as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 and coating the coating layer 17 with an alloy containing 27 atomic% rhodium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例１３）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにロジウムを２７原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 13)
Tungsten was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 27 atomic% rhodium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例１４）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにレニウムを４２原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 14)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 42 atomic% rhenium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例１５）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにレニウムを４２原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 15)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 42 atomic% rhenium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例１６）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにモリブデンを２５原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 16)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 25 atomic% of molybdenum in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例１７）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにモリブデンを２５原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 17)
The structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 was made of tungsten, and the coating layer 17 was made by coating an alloy containing 25 atomic% of molybdenum in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例１８）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタングステンを２１原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 18)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 21 atomic% tungsten in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例１９）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにタングステンを２１原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 19)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 21 atomic% of tungsten in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例２０）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにニオブを１８原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 20)
3 was formed by using molybdenum as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 and coating the coating layer 17 with an alloy containing 18 atomic% niobium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例２１）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにニオブを１８原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 21)
3 was formed using tungsten as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 and coating the coating layer 17 with an alloy containing 18 atomic% of niobium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例２２）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにタンタルを１８原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 22)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing iridium and 18% by atom of tantalum with a thickness of 0.5 mm.

（比較例２３）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにタンタルを１８原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 23)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 18 atomic% of tantalum in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例２４）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてモリブデンを用い、その被覆層１７にイリジウムにジルコニウムを９．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 24)
The molybdenum 15 was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was produced by coating an alloy containing 9.0 atomic% of zirconium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例２５）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてタングステンを用い、その被覆層１７にイリジウムにジルコニウムを９．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 25)
The structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3 was made of tungsten, and the coating layer 17 was made by coating an alloy containing 9.0 atomic% of zirconium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

（比較例２６）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてジルコンを用い、その被覆層１７にイリジウムにハフニウムを１１．０原子％含有した合金を０．５ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 26)
Zircon was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 11.0 atomic% of hafnium in iridium with a thickness of 0.5 mm.

（比較例２７）
図３の成形部１ｂの構造体１５ａとしてイリジウムを用い、その被覆層１７にイリジウムにハフニウムを１１．０原子％含有した合金を３．０ｍｍの厚さで被覆して作製した。 (Comparative Example 27)
The iridium was used as the structure 15a of the molded part 1b in FIG. 3, and the coating layer 17 was formed by coating an alloy containing 11.0 atomic% of hafnium in iridium with a thickness of 3.0 mm.

結果を表１〜表４に示した。実施例１〜５１については、使用後冷却時及び再使用後も反り等もなく、問題がないことが確認されたが、比較例１及び１０については、上部で反り等が確認され、再度使用することができなかった。また、比較例２〜９及び１１については、表面の平坦性に差があり、ガラスの厚みが箇所によって差が生じる恐れがある為、使用することができなかった。また、比較例１２〜２７については、板材の加工時に割れが確認され、ガラス製造装置の成形部として使用することができなかった。 The results are shown in Tables 1 to 4. For Examples 1 to 51, it was confirmed that there was no problem even after cooling after use and after re-use, and there was no problem, but for Comparative Examples 1 and 10, warpage was confirmed at the top, and it was used again. I couldn't. Moreover, about Comparative Examples 2-9 and 11, there was a difference in the flatness of the surface, and since there was a possibility that a difference might arise in the thickness of glass by a location, it could not be used. Moreover, about Comparative Examples 12-27, the crack was confirmed at the time of processing of a board | plate material, and it could not be used as a shaping | molding part of a glass manufacturing apparatus.

本発明の実施形態の一例を示すガラス製造装置の正面概略図である。It is a front schematic diagram of a glass manufacturing device showing an example of an embodiment of the present invention. 本発明の第１実施形態を示すガラス製造装置の成形部の断面概略図である。It is a section schematic diagram of a forming part of a glass manufacture device showing a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第２実施形態を示すガラス製造装置の成形部の断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which shows 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態を示すガラス製造装置の成形部の断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which shows 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第４実施形態を示すガラス製造装置の成形部の断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which shows 4th Embodiment of this invention. 本発明の第５実施形態を示すガラス製造装置の成形部の断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus which shows 5th Embodiment of this invention.

１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ成形部
２上流側支持部材
３下流側支持部材
４上面
５導入路
６溝部
７側面
８下端
９，１０側端
１１ガス供給用配管
１２ガス排出用配管
１５ａ、１５ｂ構造体
１７被覆層
１９ａ、１９ｂ中空体
２１内部空間
２３梁
３０間隙
1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e Molded portion 2 Upstream support member 3 Downstream support member 4 Upper surface 5 Inlet path 6 Groove portion 7 Side surface 8 Lower end 9, 10 Side end 11 Gas supply piping 12 Gas discharge piping 15a 15b Structure 17 Coating layer 19a, 19b Hollow body 21 Internal space 23 Beam 30 Gap

Claims

フュージョン法を利用してガラス成形品を製造するときに用いられるガラス製造装置の成形部において、
前記成形部は、溶融ガラスとの接触部分がイリジウム又はイリジウム合金で形成され、かつ、前記イリジウム又はイリジウム合金からなる部分の表面のうち前記溶融ガラスと接触していない表面部分と大気との接触を遮断する大気遮蔽手段を有し、
該大気遮蔽手段は、前記成形部の外表面のうち前記溶融ガラスと接触していない表面部分を保護しつつ前記成形部を支持する耐火物材料からなる支持部材であり、
前記成形部は、イリジウム又はイリジウム合金で形成された構造を有するか、或いは、構造体をイリジウム又はイリジウム合金が被覆している構造を有し、
前記構造体を被覆しているイリジウム又はイリジウム合金の被覆層に厚みは、０．５〜３．０ｍｍであり、
前記イリジウム合金は、ロジウム含有量０．５〜２５．０原子％のロジウム・イリジウム合金、レニウム含有量０．５〜４０．０原子％のレニウム・イリジウム合金、モリブデン含有量０．５〜２３．０原子％のモリブデン・イリジウム合金、タングステン含有量０．５〜１９．０原子％のタングステン・イリジウム合金、ニオブ含有量０．５〜１６．０原子％のニオブ・イリジウム合金、タンタル含有量０．５〜１６．０原子％のタンタル・イリジウム合金、ジルコニウム含有量０．５〜７．０原子％のジルコニウム・イリジウム合金又はハフニウム含有量０．５〜９．５原子％のハフニウム・イリジウム合金であることを特徴とするガラス製造装置の成形部。 In the molding part of the glass manufacturing apparatus used when manufacturing a glass molded product using the fusion method,
The molded part is formed of iridium or an iridium alloy in contact with the molten glass, and the surface part of the surface made of the iridium or iridium alloy is not in contact with the molten glass and is in contact with the atmosphere. Having air shielding means to shut off,
Atmosphere-shielding means, Ri support member der consisting refractory material for supporting the molding unit while protecting a surface portion not in contact with the molten glass of the outer surface of the molded part,
The molded part has a structure formed of iridium or an iridium alloy, or has a structure in which the structure is covered with iridium or an iridium alloy,
The thickness of the coating layer of iridium or iridium alloy covering the structure is 0.5 to 3.0 mm,
The iridium alloy includes a rhodium / iridium alloy having a rhodium content of 0.5 to 25.0 atomic%, a rhenium / iridium alloy having a rhenium content of 0.5 to 40.0 atomic%, and a molybdenum content of 0.5 to 23. 0 atomic% molybdenum-iridium alloy, tungsten-iridium alloy with tungsten content of 0.5-19.0 atomic%, niobium-iridium alloy with niobium content of 0.5-16.0 atomic%, tantalum content of 0.1. A tantalum-iridium alloy having a content of 5 to 16.0 atomic percent, a zirconium-iridium alloy having a zirconium content of 0.5 to 7.0 atomic percent, or a hafnium-iridium alloy having a hafnium content of 0.5 to 9.5 atomic percent. The forming part of the glass manufacturing apparatus characterized by the above-mentioned.

前記成形部は、イリジウム又はイリジウム合金で形成された中空体の構造を有し、前記大気遮蔽手段は、更に、前記中空体の内部空間に不活性ガス又は水素ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給するための配管であることを特徴とする請求項１に記載のガラス製造装置の成形部。 The molded part has a hollow body structure formed of iridium or an iridium alloy, and the atmospheric shielding means further includes an inert gas or a mixed gas of hydrogen gas and inert gas in the internal space of the hollow body. The forming part of the glass manufacturing apparatus according to claim 1 , wherein the forming part is a pipe for supplying the glass.

前記不活性ガスが、窒素ガスであることを特徴とする請求項２に記載のガラス製造装置の成形部。 The molding part of the glass manufacturing apparatus according to claim 2 , wherein the inert gas is nitrogen gas.

前記イリジウム又はイリジウム合金で形成された中空体の内部空間に、金属又はセラミックスの梁が通されて前記成形部が支持されていることを特徴とする請求項２に記載のガラス製造装置の成形部。 The molded part of the glass manufacturing apparatus according to claim 2 , wherein a metal or ceramic beam is passed through an internal space of a hollow body formed of the iridium or the iridium alloy and the molded part is supported. .

前記イリジウム又はイリジウム合金が被覆している構造体はセラミックス又は金属で形成されてなり、前記成形部は前記構造体によって支持されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のガラス製造装置の成形部。 The iridium or structure iridium alloy is coated it will be formed of ceramics or metal, said shaped portion to any one of claims 1 to 4, characterized in that it is supported by the structure The shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus of description.

前記金属がイリジウム又はイリジウム合金であることを特徴とする請求項４又は５に記載のガラス製造装置の成形部。 The said metal is iridium or an iridium alloy, The shaping | molding part of the glass manufacturing apparatus of Claim 4 or 5 characterized by the above-mentioned.

前記成形部は、前記支持部材によってかけられる両端から内側への圧力により、前記成形部の上面が直線状に保持されることを特徴とする請求項１に記載のガラス製造装置の成形部。 The molding unit of the glass manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the molding unit is configured such that the upper surface of the molding unit is linearly held by pressure from both ends to the inside applied by the support member.

請求項１〜７のいずれか一つに記載のガラス製造装置の成形部を用いて、フュージョン法によってガラス成形品を製造する方法において、前記成形部を取り囲む製造雰囲気を、不活性ガス雰囲気又は水素ガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気とすることを特徴とするガラス成形品の製造方法。 Using a molding portion of the glass manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7, a method for producing a molded glass article by fusion process, the manufacturing atmosphere surrounding the molding portion, an inert gas atmosphere or hydrogen A method for producing a glass molded article, characterized in that a mixed gas atmosphere of a gas and an inert gas is used.