JP5911178B2 - プラズマ表面処理装置 - Google Patents
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Description
本発明に係るプラズマ表面処理装置は、大気圧近傍の圧力下において、電圧印加電極と接地電極との間に処理ガスを導入しつつ高周波電界を印加することにより得られる放電プラズマを、放電空間外に配置された被処理体に導いて、被処理体の表面処理(たとえば、ぬれ性改善や有機物除去など)を行うプラズマ表面処理装置であって、図示しない処理ガスの供給源と、高周波電源と、冷却液の供給源と、図示のリアクタ部1とを主要部として構成されている。
これらの図に示す実験例は、図9に示す構造のプラズマ表面処理装置(従来品)と本発明に係るプラズマ表面処理装置(本製品)とで、被処理体Wの表面処理(ぬれ性改善)の効果を比べた実験結果である。なお、これらの実験例では、被処理体Wとして、松浪硝子工業株式会社製のカバーガラス(表面処理前の接触角53°)を用いている。また、処理ガスには、窒素(N2)ガスと空気(CDA)の混合ガスを用い、リアクタ部1には電圧印加電極4の幅寸法が730mmのものを使用している。
2 コンベア
3 装置カバー
4 電圧印加電極
41 電圧印加電極の金属電極
42 電圧印加電極の固体誘電体
5 接地電極
51 接地電極の金属電極
52 対向面形成部
52b 噴出口
10 放電空間
W 被処理体
Claims (3)
- 大気圧近傍の圧力下において、電圧印加電極と接地電極との間に処理ガスを導入しつつ高周波電界を印加することにより得られる放電プラズマを、放電空間外に配置された被処理体に導いて前記被処理体の表面処理を行うプラズマ表面処理装置であって、下方を開放した箱型の装置カバーの内部に、前記電圧印加電極および接地電極と、これら電極間に処理ガスを導入するガス導入部とを収容してリアクタ部を形成するものにおいて、
前記電圧印加電極は、断面が半円弧状を呈し、かつ、水冷用の冷却水の導入孔のない金属電極と、この金属電極の半円弧状の外周面を被覆する円筒状の固体誘電体とで構成され、前記電圧印加電極の金属電極がその半円弧状の外周面を下向きにして前記円筒状の固体誘電体の内部に収容され、
前記接地電極は、前記電圧印加電極の半円弧状の外周面を収容可能な凹状溝を有し、この凹状溝の内周面が前記電圧印加電極との電極対向面を形成する構造の金属電極で構成され、かつ、この凹状溝の底部に前記電圧印加電極の軸方向に沿って前記放電プラズマの噴出口が形成されるとともに、前記凹状溝が形成される面と反対側の面が前記被処理体と対面するように配置され、前記接地電極が前記リアクタ部の底板を兼ねる
ことを特徴とするプラズマ表面処理装置。 - 前記電圧印加電極の金属電極は、円筒状の金属部材または円筒状の金属部材を軸方向に沿って分割した金属部材で構成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記接地電極の凹状溝は、その表面が耐熱性を有する金属材料で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ表面処理装置。
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