JP5900560B2 - 基板用ガラスおよびガラス基板 - Google Patents
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Description
ところで、先に述べた熱アシスト磁気記録技術に対応できる基板としてシリコン基板が提案されている(特許文献1参照)。
また、B2O3が3%以下、Na2Oが4%以下、Li2O+Na2O+K2Oが3.5%以上である前記基板用ガラスを提供する。
また、(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)が0.04〜0.16である前記基板用ガラスを提供する。
また、情報記録媒体基板が磁気ディスク基板である前記ガラス基板を提供する。
また、情報記録媒体基板が磁気ディスク基板である前記化学強化ガラス基板を提供する。
前記ガラス基板または前記化学強化ガラス基板の上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。
また、情報記録媒体などに用いられる比弾性率が高い基板用ガラスを得ることができる。これにより、ドライブ回転中に反りやたわみが発生しにくくなり、高記録密度の情報記録媒体を得ることができる。
本発明によれば、情報記録媒体などに用いられる平均線膨張係数が大きい基板用ガラスを得ることができる。これにより、金属製のドライブ他部材との熱膨張マッチングが高くなり、温度変動時の発生応力が小さく、基板割れ等が発生しにくくなる。
SiO2はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。66%未満では、耐酸性が低下する、dが大きくなる、ガラスにキズが付きやすくなる、Tgが低下するまたは液相温度が上昇しガラスが不安定になる。好ましくは67%以上、より好ましくは68%以上である。77%超では、粘度が102dPa・sとなる温度T2および粘度が104dPa・sとなる温度T4が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、EもしくはE/dが低下する、またはαが小さくなる。好ましくは74%以下、より好ましくは72%以下、特に好ましくは70%以下である。
また、Fe2O3、Co3O4、NiOなどの着色剤を合計で2%まで含有してもよい。
磁気ディスク用ガラス基板はノートブックパソコン等に用いられる2.5インチ基板(ガラス基板外径:65mm)やポータブルMP3プレーヤなどに用いられる1.8インチ基板(ガラス基板外径:48mm)などに広く使用され、その市場は年々拡大しており、一方で低価格での供給が求められている。このようなガラス基板に使用されるガラスは、大量生産に適したものであることが好ましい。
板ガラスの大量生産はフロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形法により広く行われており、本発明のガラスは先に述べたようにたとえばフロート成形が可能なガラスであるので大量生産に好適である。
α:示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から5℃/分の割合で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から−50〜70℃における平均線膨張係数を算出した。
E:厚さが5〜10mm、大きさが3cm角のガラス板について、超音波パルス法により測定した。
これらの結果から、実施例のガラスは高いガラス転移点を有しながら、例28のガラスに比べて高い比弾性率を有し、例29のガラスに比べて高いクラック耐性を有することがわかる。
Claims (11)
- 下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を66〜77%、Al2O3を7〜17%、B2O3を0〜7%、Li2Oを2〜9%、Na2Oを0〜7%、K2Oを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%含有し、SiO2、Al2O3およびB2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3+B2O3が81〜92%、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、Na2O、K2OおよびCaO含有量の合計Na2O+K2O+CaOが0〜10%、TiO2およびZrO2の含有量の合計TiO2+ZrO2が0〜5%であり、上記10成分の含有量の合計が98%以上であり、ガラス転移点Tgが690℃以上であり、比弾性率が33.6MNm/kg以上であり、情報記録媒体基板に用いられる基板用ガラス(結晶化ガラスを除く)。
- Al2O3含有量に対するB2O3含有量の比B2O3/Al2O3が0.6以下である請求項1の基板用ガラス。
- Na2O+K2O+CaOとSiO2+Al2O3+B2O3の比(Na2O+K2O+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)が0.125以下である請求項1または2の基板用ガラス。
- Na2Oを含有する請求項1、2または3の基板用ガラス。
- B2O3が3%以下、Na2Oが4%以下、Li2O+Na2O+K2Oが3.5%以上である請求項1、2または3の基板用ガラス。
- (MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)が0.04〜0.16である請求項5の基板用ガラス。
- 請求項1〜6のいずれかの基板用ガラスからなるガラス基板。
- 情報記録媒体基板が磁気ディスク基板である請求項7のガラス基板。
- 請求項1〜6のいずれかの基板用ガラスからなるガラス板を化学強化した化学強化ガラス基板。
- 情報記録媒体基板が磁気ディスク基板である請求項9の化学強化ガラス基板。
- 請求項8のガラス基板または請求項10の化学強化ガラス基板の上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
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