JP5895066B2 - 三価マンガンを含む酸性溶液を用いたプラスチックのエッチング - Google Patents

三価マンガンを含む酸性溶液を用いたプラスチックのエッチング Download PDF

Info

Publication number
JP5895066B2
JP5895066B2 JP2014553311A JP2014553311A JP5895066B2 JP 5895066 B2 JP5895066 B2 JP 5895066B2 JP 2014553311 A JP2014553311 A JP 2014553311A JP 2014553311 A JP2014553311 A JP 2014553311A JP 5895066 B2 JP5895066 B2 JP 5895066B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
manganese
ions
mol
electrolytic solution
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014553311A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015518083A (ja
Inventor
トレバー・ピアソン
クレイグ・ロビンソン
Original Assignee
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド, マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド filed Critical マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
Publication of JP2015518083A publication Critical patent/JP2015518083A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5895066B2 publication Critical patent/JP5895066B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12Chemical modification
    • C08J7/14Chemical modification with acids, their salts or anhydrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2355/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers, obtained by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, not provided for in groups C08J2323/00 - C08J2353/00
    • C08J2355/02Acrylonitrile-Butadiene-Styrene [ABS] polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • C25D5/56Electroplating of non-metallic surfaces of plastics

Description

本発明は、その上への後続のめっきのためにプラスチックを調製する方法に関する。
多様な目的のために非導電性基材(即ち、プラスチック)を金属でめっきするための方法が、当技術分野においてよく知られている。プラスチック成形品は、製造が比較的安価であり、多くの用途に金属めっきプラスチックが使用されている。例えば、金属めっきプラスチックは、装飾のためや電子装置の製造のために使用される。装飾用途の例としては、トリム等の自動車部品が挙げられる。電子用途の例としては、選択的なパターンにめっきされた金属がプリント回路基板の導体を含むプリント回路、及びEMI遮蔽のために使用される金属めっきプラスチックが挙げられる。ABS樹脂は、装飾目的で最も一般的にめっきされるプラスチックである一方、フェノール樹脂及びエポキシ樹脂は、プリント回路基板の製造のために最も一般的にめっきされるプラスチックである。
後続のめっきのためのプラスチックの調製は、多段階工程であり、典型的な工程は、
1)クロム酸エッチング液で基材をエッチングする工程と、
2)クロム中和液でエッチングされた表面を中和する工程と、
3)コロイド状パラジウム錫活性化剤を使用してエッチングされた表面を活性化する工程と、
4)促進段階で錫を除去する工程と、
5)無電解銅又は無電解ニッケルの層を堆積させ、銅又はニッケル、或いはその両方の電解めっきが続く工程と、
を含む。
プラスチック基材の最初のエッチングは、全工程の不可欠な一部であり、全ての商業的工程は、本質的に、プラスチックのエッチング工程の六価クロムの供給源として、クロム酸エッチング液を利用してきた。この工程は、多くの特性を有する。ABS及びABS/ポリカーボネート混合物を含む各種のプラスチックは、良好なめっき外観及び接着性を備えてめっきすることができる。ポリカーボネート又はポリプロピレンを高レベルで含むより難しいプラスチックをめっきするために、クロム酸エッチング液への浸漬時間又は浸漬温度、或いはその両方を増加させることができる。純粋なポリカーボネート等のエッチング耐性である極めて難しいプラスチックもまた、クロムエッチング工程の前に溶媒を組み込むことによって、めっきすることができる。
特定の種類のプラスチック部品のみがめっきに適しており、そして上述したように、電気めっき用の最も一般的な種類のプラスチックは、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン(ABS)、又はこの材料のポリカーボネートとの混合物(ABS/PC)である。ABSは、2つの相で構成されている。アクリロニトリル/スチレン共重合体からなる比較的硬質の相と、より軟らかいポリブタジエン相とが存在する。現在、この材料は、ほぼ独占的にクロム酸と硫酸との混合物を使用してエッチングされる。この酸化性酸混合物は、ABS及びABS/PC用のエッチング剤として極めて有効である。プラスチックのポリブタジエン相は、ポリマー主鎖中に二重結合を含有しており、これらはクロム酸で酸化されるので、プラスチック表面に露出したポリブタジエン相の完全な破壊及び溶解を引き起こし、プラスチック表面への効果的なエッチングを与える。
エッチング工程の目的は2つある。第1に、プラスチックは、表面積を増加させるためにエッチングされる。第2に、プラスチックは親水化されており、表面を後続の活性化段階及びめっき段階を受容可能にする。典型的なクロム酸エッチング液は、例えば、その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献1〜特許文献3に記載されている。
従来のクロム酸エッチング工程の1つの問題は、クロム酸が認識されている発癌物質であり、次第に規制されており、可能な限り、クロム酸の使用をより安全な代替物で置換するよう求められている点である。クロム酸エッチング剤の使用はまた、それらの廃棄を困難にするクロム化合物の毒性、無電解析出を抑制するポリマー表面上に残留するクロム酸残留物、及び調製に続くポリマー表面からのクロム酸残留物の洗浄の困難性等のよく知られた重大な欠点を有する。加えて、熱い六価クロム硫酸溶液は、当然ながら労働者に対して有害である。熱傷及び上部呼吸器官出血は、これらのクロムエッチング液に日常的に関わる労働者に共通である。従って、酸性クロムエッチング液のより安全な代替物を開発することが非常に望ましい。
その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献4には、過マンガン酸塩溶液が記載されている。特許文献4は、表面を調製するために、クロム及び硫酸の浴、又は過マンガン酸塩溶液のいずれかの適合性を示唆している。
その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献5は、次亜塩素酸ナトリウム等の材料も含み、過マンガン酸塩溶液の酸化電位よりも高い酸化電位を有し、マンガン酸イオンを過マンガン酸イオンへと酸化可能な熱いアルカリ性過マンガン酸塩溶液を記載している。その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献6は、過マンガン酸カリウム及び水酸化ナトリウムを含有するアルカリ性過マンガン酸塩溶液であって、高温、即ち約165°F〜200°Fに維持されることを特徴とするアルカリ性過マンガン酸塩溶液の使用を記載している。その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献7は、水、過マンガン酸イオン、及びマンガン酸イオンを含むエッチング液であって、マンガン酸イオンの過マンガン酸イオンに対するモル比が制御され、溶液のpHが11〜13に維持されることを特徴とするエッチング液を開示している。
その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献8は、表面を水性金属水酸化物溶液と接触させる工程と、表面を水溶性過マンガン酸塩の水性アルカリ性水溶液と接触させる工程と、還元剤と接触させることによってマンガン化合物の任意の残留物を除去する工程と、表面上に無電解金属層を堆積させる工程と、を含む、ポリカーボネート−ABS樹脂(又は他の類似の樹脂)の表面に金属層を堆積するための方法を記載している。アルカリ性過マンガン酸塩は、一般に、過マンガン酸ナトリウム又は過マンガン酸カリウムを含み、還元剤は、例えばヒドロキシルアミン塩の溶液を含んでいてもよい。
しかしながら、プラスチック(エポキシ系のプリント回路基板を除く)をエッチングするために過マンガン酸塩を使用しようとする試みは、大きな成功を収めていない。第一に、プラスチックの表面処理は一貫性がなく、時には良好な接着性が得られ、時には同一の処理条件下で接着不良を生じる。第二に、過マンガン酸塩溶液は不安定となることがあり、寿命が短く、迅速に二酸化マンガンに分解される。更に、クロムエッチング剤と比較して、過マンガン酸塩は効率的でなく、一般的な金属仕上げ操作でめっきされる広い範囲のプラスチック混合物に適していない。
過マンガン酸イオンを用いてプラスチックをエッチングするこれらの試みのいずれも、クロム酸エッチング液を用いて得られたものに匹敵するエッチング特性を生むことは出来ず、エッチング液の安定性も乏しく、二酸化マンガンのスラッジの形成をもたらす。
クロムエッチングを置換する他の試みもまた、従来技術に記載されている。例えば、その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献9〜特許文献11は、少なくとも1種の膨潤剤及び少なくとも1種の分解剤を含むエッチング液を使用した、ポリカーボネート等の機能性ポリマーの事前膨潤及びエッチングのための単一又は多段階の工程を記載している。処理された基材は、次いで、無電解ニッケル又は無電解銅でめっきされる。
その主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献12は、クロム酸エッチング液を、硫酸、及び随意的にリン酸又は硝酸、或いはその両方を含むエッチング液で置換している。処理された基材は、次いでパラジウムの水性懸濁液中に浸漬される。
酸化剤溶液が六価クロム溶液であるか又は過マンガン酸塩溶液であるかに関わらず、溶液との接触は、酸化剤残留物をプラスチック部品の表面に残留させ、それが触媒表面を汚染するように作用し、金属堆積物に干渉して多くの場合ボイド形成をもたらす。単純な水でのすすぎは、残留物を除去するには一般的に不十分であるので、技術は還元剤の溶液と接触する更なる工程に頼ってきたが、単純な減少よりも酸化剤残留物の除去には、更なる化学的性質が関与する。還元剤での過マンガン酸塩残留物の除去は、上記で参照した特許文献1及び特許文献2に開示されている。
容易に分かるように、金属化のために非導電性基材を調製するための工程におけるクロム酸の代替物として、多くのエッチング溶液が提案されてきた。しかしながら、これらの方法はいずれも、様々な経済的な、性能上の、又は環境上の理由から、或いはそれら全ての理由から申し分ないものであると証明されておらず、従って、これらの方法はいずれも商業的成功を収めておらず、又はクロム酸エッチングの好適な代替として産業界に受け入れられていない。
過マンガン酸塩系の溶液がスラッジを形成し、自己分解を受ける傾向が指摘されている。強酸性条件下では、過マンガン酸イオンは、以下の反応に従い、水素イオンと反応してマンガン(II)イオン及び水を生成することができる。
4MnO + 12H → 4Mn2+ + 6HO + 5O (1)
この反応によって形成されたマンガン(II)イオンは、次いで以下の反応に従い、過マンガン酸イオンとの更なる反応を受けて二酸化マンガンのスラッジを形成することができる。
2MnO + 2HO + 3Mn2+ → 5MnO + 4H (2)
このように、強酸性過マンガン酸塩溶液に基づく配合は、過マンガン酸イオンが過マンガン酸塩のアルカリ金属塩によって追加されるか、又は電気化学的にその場で生成されるかどうかとは無関係に、本質的に不安定である。現在使用されているクロム酸のエッチングと比較して、酸性過マンガン酸塩は、その乏しい化学的安定性によって、大規模な商業的用途には事実上使い道がない。アルカリ性過マンガン酸塩のエッチングは、より安定であり、エポキシ系プリント回路基板をエッチングするためにプリント回路基板業界で広く使用されているが、アルカリ性過マンガン酸塩は、ABS又はABS/PC等のプラスチックには効果的なエッチング剤ではない。従って、これらの材料のエッチング剤としてマンガン(VII)が商業上広く受け入れられる可能性は低い。
クロム酸を使用せずにABSをエッチングするための他の試みは、電気化学的に生成された銀(II)又はコバルト(III)の使用を含む。長年に渡り、特定の金属を、高度に酸化された酸化状態へと陽極酸化できることが知られてきた。例えば、マンガン(II)は、過マンガン酸塩(マンガンVI)に酸化することができ、コバルトは、コバルト(II)からコバルト(III)に酸化することができ、銀は、銀(I)から銀(II)に酸化することができる。
(酸又はアルカリのいずれかの形態の)過マンガン酸塩に基づく、他の酸化状態のマンガンに基づく、或いは他の酸又は酸化剤を使用した商業的に成功したプラスチックのエッチング剤は、現在のところ無い。
従って、当技術分野においては、クロム酸を含有せず、商業的に許容される、後続の電気めっきのためにプラスチック基材を調製するための改良されたエッチング剤の必要性が残されている。
米国特許第4,610,895号明細書(Tubergen等) 米国特許第6,645,557号明細書(Joshi) 米国特許第3,445,350号明細書(Klinger等) 米国特許第3,625,758号明細書(Stahl等) 米国特許第4,948,630号明細書(Courduvelis等) 米国特許第5,648,125号明細書(Cane) 米国特許第4,042,729号明細書(Polichette等) 米国特許第5,229,169号明細書(Chao) 米国特許第4,941,940号明細書(Patel等) 米国特許第5,015,329号明細書(Patel等) 米国特許第5,049,230号明細書(Patel等) 米国特許第5,160,600号明細書(Patel等)
本発明の目的は、プラスチック基材に対するクロム酸を含有しないエッチング剤を提供することにある。
本発明の別の目的は、プラスチック基材に対する商業的に受け入れられるエッチング剤を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、プラスチック基材に対するマンガンイオン系のエッチング剤を提供することにある。
本発明は、一般的に、ABS、ABS/PC、及び他のプラスチック材料のエッチングに好適な組成物、並びにこれを用いた方法に関する。
一実施形態において、本発明は、一般的に、プラスチック基材をエッチングすることが可能な溶液を調製する方法であって、
9mol/L〜15mol/Lの硫酸又はリン酸の溶液中にマンガン(II)の溶液を含む電解液を電解槽に提供する工程と、
アノードとカソードとを含む前記電解槽に電流を印加する工程と、
前記電解液を酸化して、準安定硫酸塩錯体を形成するマンガン(III)イオンを形成する工程と、
プラスチック基材を電解液中で処理する工程と、
を含むことを特徴とする方法に関する。
別の実施形態において、本発明は、一般的に、プラスチック基材をエッチングすることが可能な電解液であって、9mol/L〜15mol/Lの硫酸又はリン酸の溶液中にマンガン(III)の溶液を含むことを特徴とする電解液に関する。
好ましい一実施形態において、電解液組成物は、30℃〜80℃の温度で、ABS又はABS/PCをエッチングするために使用され得る。
本発明者らは、濃硫酸中で二価マンガンイオンを低電流密度で電気分解することにより、三価マンガンを容易に製造できることを見出した。より詳細には、本発明者らは、強酸性溶液中の三価マンガンイオンの溶液が、ABSをエッチング可能であることを発見した。
三価マンガンは不安定であり、高度に酸化性(標準水素電極に対して1.51の標準酸化還元電位)である。溶液中では、三価マンガンは、次の反応を介した不均化により極めて迅速に二酸化マンガン及び二価マンガンを生じる。
2Mn3+ + 2HO → MnO + Mn2+ + 4H (3)
しかしながら、濃硫酸溶液中では、三価マンガンイオンが準安定となり、チェリーパープル/赤色の硫酸塩錯体を形成する。本発明者らは、この硫酸塩錯体が、ABSのエッチングに好適な媒体であり、前述のクロムを使用しないエッチングに優る多くの利点を有することを見出した。
一実施形態において、本発明は、一般的に、プラスチック基材をエッチングすることが可能な溶液を調製する方法であって、
9mol/L〜15mol/Lの硫酸又はリン酸の溶液中にマンガン(II)イオンを含む電解液を電解槽に提供する工程と、
アノードとカソードとを含む電解槽に電流を印加する工程と、
電解液を酸化して、準安定硫酸塩錯体を形成するマンガン(III)イオンを形成する工程と、
プラスチック基材を電解液で処理してプラスチック基材の表面をエッチングする工程と、
を含む方法に関する。
好ましい実施形態では、プラスチック基材は、ABS又はABS/PCを含む。
リン酸及び硫酸の両方が本発明の組成物中で作用するであろうと考えられるが、好ましい実施形態では、酸は硫酸である。硫酸及びリン酸中でのマンガン(III)イオンの安定性が研究されてきた。環境温度では、7Mの硫酸中でのマンガン(III)イオンの半減期は、約2年である。比較して、7Mのリン酸中での同様の濃度のマンガン(III)イオンの半減期は、約12日であった。硫酸中のマンガン(III)イオンの遙かに高い安定性は、硫酸溶液中での、マンガン−硫酸塩錯体の形成、及び高濃度の利用可能な水素イオン濃度に起因することが示唆される。リン酸の使用での更なる問題は、マンガン(III)リン酸塩の溶解度が限定的な点である。従って、リン酸等の他の無機酸が本発明の組成物において使用可能となり得るが、一般的に硫酸を用いることが好ましい。
濃硫酸中でのマンガン(III)イオンの顕著な安定性は、使用時に以下の利点がある。
1)低電流密度でマンガン(III)イオンが形成されるので、工程の所要電力が典型的に非常に低い。
2)非常に低い電流密度でアノードが動作するので、アノード面積との関係で小さいカソードを使用して、マンガン(III)イオンのカソード還元を防止することができる。これは分離槽の必要性を除去し、エッチング剤の再生槽の工学を単純化する。
3)工程が過マンガン酸イオンを生成しないので、溶液中に七酸化二マンガン(これは激しく爆発性であるので、重大な安全上の問題である)を生成する可能性がない。
4)濃硫酸中のマンガン(III)イオンの高安定性により、エッチング剤を使用可能な状態で販売することができる。製造においては、エッチング剤は、エッチングのマンガン(III)含有量を維持してマンガン(II)イオンの蓄積を防ぐために、タンクの側に小さな再生槽を必要とするだけである。
5)他のエッチング工程は、過マンガン酸塩系であるので、過マンガン酸塩のマンガン(II)イオンとの反応の結果、二酸化マンガンでの急速な「スラッジ(sludging)」を生じ、エッチングの寿命は非常に短くなる。これは、(経時的に幾らかの不均化があるかもしれないが)マンガン(III)系のエッチングでは問題とならない。
6)本発明のマンガン(III)の電解製造は、何ら有毒ガスを発生しない。カソードで幾らかの水素が生成し得るが、低電流要求に起因し、これは多くのめっき工程によって生成するよりも少ないであろう。
本願明細書に記載するように、好ましい実施形態では、酸は硫酸である。硫酸の濃度は、約9mol/L〜約15mol/Lとすることができる。硫酸の濃度は、工程において重要である。約9mol/L未満の濃度では、使用するにはエッチング速度が遅くなり過ぎ、約14mol/Lを超えると、溶液中に有用なマンガンの濃度を得るには溶液中のマンガンイオンの溶解度が低くなり過ぎる。加えて、硫酸の濃度が非常に高いと、空気から水分を吸収する傾向があり、取扱いに危険を伴う。従って、好ましい実施形態では、硫酸の濃度は約12mol/L〜13mol/Lである。この硫酸の濃度は、エッチングへの水の安全な添加を許容するには十分に希薄であり、プラスチックのエッチング速度を最適化するには十分に強い。この硫酸の濃度では、エッチングの好ましい操作温度において最大約0.08Mの硫酸マンガンまで溶解させることができる。最適なエッチングのためには、溶液中のマンガンイオンの濃度は、それが実行可能となるだけ高くなければならない。
マンガン(II)イオンは、好ましくは、硫酸マンガン、炭酸マンガン、及び水酸化マンガンからなる群から選択されるが、当技術分野で知られた他の類似のマンガン(II)イオンの供給源もまた、本発明の実施において使用可能であろう。マンガン(II)イオンの濃度は、約0.005mol/Lと飽和濃度との間の範囲とすることができる。一実施形態において、電解液はまた、コロイド状二酸化マンガンを含む。これは、溶液中のマンガン(III)の不均化の自然な結果としてある程度まで形成してもよく、又は意図的に添加してもよい。コロイド状二酸化マンガンを調製する方法は、当技術分野で周知である。
マンガン(III)イオンは、適宜、マンガン(II)イオンの酸化による電気化学的手段によって生成することができる。三価マンガンイオンの効率的な生産のための方法論が決定され、白金又は白金めっきチタンのアノードの使用により、0.1A/dm〜0.4A/dmの電流密度で、マンガン(II)を効率的にマンガン(III)に酸化できることが見出された。これらの電流密度において、本発明者らは、これらの環境下でのマンガン(II)の変換効率が100%に近づくことを見出した。更に、白金めっきチタンのアノードを用いた0.1A/dm〜0.4A/dmの電流密度において、アノード電位は酸素放電電位を下回り、マンガン(III)イオンが高い効率で製造される。本発明者らは、この方法によってABSのエッチングを達成できることを見出した。
電極は、白金、白金めっきチタン、酸化イリジウム被覆チタン、ニオブ、及び他の好適な材料からなる群から選択される材料を含むことができる。カソードもまた、白金、白金めっきチタン、ニオブ、酸化イリジウム被覆チタン、又は他の任意の好適な材料から作製することができ、好ましくは白金又は白金めっきチタンである。アノードは、白金めっきチタン、白金、酸化イリジウム/酸化タンタル、ニオブ、又は他の任意の好適な材料から作製することができ、好ましくは白金又は白金めっきチタンである。マンガン(III)イオンの効率的な生成のためには、一般的に、カソードの面積に比較して大きなアノード面積を使用する必要がある。好ましくは、アノードのカソードに対する面積比は、少なくとも約10:1である。これにより、カソードは、電解液中に直接浸漬することができ、分離槽を有する必要がない(工程は、分離槽を配置しても動作するであろうが、これは不必要な複雑化及び費用に繋がる)。
加えて、一般的に、電解液は過マンガン酸イオンを含まないことが好ましい。
別の実施形態において、本発明は、めっき可能なプラスチックの表面をエッチングするために、めっき可能なプラスチックを準安定硫酸塩錯体中に一定時間浸漬する工程を含む。一実施形態では、めっき可能なプラスチックは、30℃〜80℃の温度で溶液中に浸漬される。エッチング速度は温度によって増加し、50℃以下では非常に遅い。温度の上限は、エッチングされるプラスチックの性質によって決定される。ABSは、70℃を超えると変形し始めるので、好ましい実施形態では、ABS材料をエッチングする場合は特に、電解液の温度は約50℃〜約70℃に維持される。プラスチックの電解液中での浸漬時間は、好ましくは約20分間〜約30分間である。
このようにエッチングされた物品は、次いで、めっきプラスチックの従来の前処理を用いて電気めっきすることができ、又はプラスチックのエッチングされた表面は、塗料、ラッカー、又は他の表面コーティングの接着性を高めるために使用することができる。
以下の実施例に記載するように、本発明者らは、本発明のエッチングにおいて使用されるマンガン(II)イオンの濃度において、酸化は拡散律速であり、電解酸化工程中にエッチング溶液の効率的な撹拌が必要であるということを、サイクリックボルタンメトリーを用いて断定した。
別の実施形態において、本発明は、一般的に、めっき可能なプラスチックをエッチングすることができる電解液であって、9mol/L〜15mol/Lの硫酸又はリン酸の溶液中にマンガン(II)の溶液を含む電解液に関する。電解液は、酸化してマンガン(III)イオンを形成し、ここで、マンガン(III)イオンは、硫酸が使用された準安定硫酸塩錯体を形成する。
本発明を、以下の非限定的な実施例により説明する。
比較例1
12.5mol/L硫酸中0.08mol/L硫酸マンガンの溶液(500mL)を70℃に加熱し、めっき可能な品位のABS片を溶液中に浸漬した。この溶液中に1時間浸漬した後であっても、試験パネルの識別可能なエッチングは見られず、すすぎ後、表面は「濡れて」おらず、水膜を切れ目なく支持しないであろう。
実施例1
1dmの面積の白金めっきチタンのアノードと0.01dmの面積の白金めっきチタンのカソードとを溶液中に浸漬し、200mAの電流を5時間印加することによって、比較例1の溶液を電解した。
この電解の間、ほぼ無色から非常に深い紫色/赤色への溶液の色の変化が観察された。過マンガン酸イオンが存在しないことを確認した。
次いで、この溶液を70℃に加熱し、めっき可能な品位のABS片を溶液中に浸漬した。10分間の浸漬後、試験片は完全に濡れており、すすぎ後に水膜を切れ目なく支持するであろう。20分間の浸漬後、サンプルを水ですすぎ、乾燥し、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて検査した。この検査により、試験片は十分にエッチングされており、多くのエッチングピットが見られることが明らかとなった。
実施例2
めっき可能な品位のABSの試験片を、70℃で30分間、実施例1と同様に調製した溶液でエッチングした。次いでサンプルをすすぎ、以下の前処理手順を用いてめっきした。
1)プラスチックのめっきのための商標調製品(MacDermid,Inc.から入手可能なM−neutralize)での処理
2)すすぎ
3)30%塩酸への事前浸漬
4)商標パラジウムコロイド活性化剤(MacDermid,Inc.から入手可能なD34 C)での活性化
5)すすぎ
6)商標調製品(MacDermid,Inc.から入手可能なMacuplex Ultracel 9369)での促進
7)すすぎ
8)無電解ニッケル処理(MacDermid,Inc.から入手可能なMacuplex J64)でのめっき
9)すすぎ
10)酸性銅処理(MacDermidから入手可能なCuMac Optima)での30μmの厚みのめっき
全ての場合において、処理パラメータは、各製品の技術データシートにおいて推奨されるものとした。
銅めっき処理が完了した後、サンプルを乾燥させて検査した。銅堆積物は、ブリスター(膨れ)の所見がなく、輝きがあり透明であり、堆積物の基材への良好な接着性を示した。
実施例3
12.5Mの硫酸及び0.08Mのマンガン(II)硫酸塩を含有する溶液を、白金めっきチタンのアノードを用いて0.2A/dmの電流密度で電解した。アノードで生成されるマンガン(III)イオンのカソード還元を防止するために、アノード面積の1%未満の面積を有する白金めっきチタンのカソードを使用した。十分な電荷が通過して全てのマンガン(II)イオンをマンガン(III)へと酸化するのに十分な時間、電解を行った。得られた溶液は、深いチェリーパープル/赤色であった。この工程中は、生成された過マンガン酸イオンが全く存在しなかった。これはまた、可視分光法によって確認され、マンガン(III)イオンは、過マンガン酸塩の溶液とは全く異なる吸収スペクトルを生成した。
実施例4
実施例3で上述したように調製したエッチング液を、マグネチックスターラー/ホットプレート上で65℃〜70℃に加熱し、ABSの試験片を、溶液中に20分間〜30分間浸漬した。これらの試験片の幾つかをSEMによって検査し、幾つかは、プラスチック前処理手順で通常のめっき処理(M−neutralizeでの還元、事前浸漬、活性化、促進、無電解ニッケル、25μm〜30μmの銅めっき)をした。これらの試験片を次いでアニールし、インストロン試験機を用いて剥離強度試験に供した。30分間めっきした片について実施した剥離強度試験は、約1.5N/cm〜4N/cmの間で変動する剥離強度を示した。
様々な回転速度で0.196cmの表面積を有する白金の回転ディスク電極(RDE)を用いて、12.5M硫酸及び0.08M硫酸マンガンを含む溶液からサイクリックボルタモグラムを得た。モデル263Aのポテンショスタット及び銀/塩化銀の参照電極を、RDEと組み合わせて使用した。
全ての場合において、順方向走査は、銀/塩化銀に対して約1.6Vのピークを示し、約1.75Vまでのプラトーが続き、電流の増加が続いた。逆方向走査は、類似の(僅かに低い電流、及び約1.52Vのピークの)プラトーを生成した。これらの結果の電極の回転速度への依存性は、質量輸送律速が機構における主要因であることを示している。プラトーは、電気化学的酸化によってマンガン(III)イオンが形成されるポテンシャルレンジを示している。
定電圧走査は、1.7Vで行った。電流が最初に下がり、次いである時間に渡り増加することが観察された。この電位での電流密度は、0.15A/dm〜0.4A/dmの間で変動した。
この実験に続いて、0.3A/dmの定電流密度で定電流測定を行った。最初は、印加される電流密度は、約1.5Vの電位により達成されるが、実験が進行するにつれて、約2400秒後は、約1.75Vへの電位の上昇が観察された。
これらの実験結果は、マンガン(III)イオンが白金又は白金めっきチタンのアノードを用いて低電流密度での電気合成によって生成することができることを示している。
10分間を超えるエッチングの後、ABS試験片の表面は完全に濡れており、すすぎ後に水膜を切れ目なく支持するであろうことが観察された。20分間又は30分間の経過後、パネルは著しくエッチングされた。

Claims (22)

  1. めっき可能なプラスチックをエッチングすることが可能な溶液を調製する方法であって
    mol/L〜15mol/Lの硫酸又はリン酸の溶液中にマンガン(II)イオンを含む電解液を電解槽に提供する工程と、
    アノードとカソードとを含む前記電解槽に電流を印加する工程と、
    前記電解液を酸化して、準安定硫酸塩錯体又は準安定リン酸塩錯体を形成するマンガン(III)イオンを形成する工程と、
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 酸が、硫酸である請求項1に記載の方法。
  3. 硫酸が、12mol/L〜13mol/Lの濃度である請求項2に記載の方法。
  4. マンガン(II)イオンが、硫酸マンガン、炭酸マンガン、及び水酸化マンガンからなる群から選択される請求項1に記載の方法。
  5. 溶液が、コロイド状二酸化マンガンを更に含む請求項1に記載の方法。
  6. 電解液を電解槽に提供する工程における前記電解液中のマンガン(II)イオンの濃度が、0.005mol/Lと飽和濃度との間である請求項1に記載の方法。
  7. カソードが、白金、白金めっきチタン、酸化イリジウム/酸化タンタル、及びニオブからなる群から選択される材料を含む請求項1に記載の方法。
  8. カソードが、白金めっきチタン又は白金である請求項7に記載の方法。
  9. アノードの面積が、カソードの面積よりも大きい請求項1に記載の方法。
  10. アノードのカソードに対する面積比が、少なくとも10:1である請求項9に記載の方法。
  11. アノードの電流密度が、0.1A/dm 〜0.4A/dmである請求項1に記載の方法。
  12. 電解液の温度が、30℃〜80℃に維持される請求項1に記載の方法。
  13. 電解液が、過マンガン酸イオンを含まない請求項1に記載の方法。
  14. めっき可能な基材をエッチングするために、めっき可能なプラスチックを準安定硫酸塩錯体中に一定時間浸漬する工程を更に含む請求項1に記載の方法。
  15. めっき可能なプラスチックが、準安定硫酸塩錯体中に、20分間〜30分間浸漬される請求項14に記載の方法。
  16. めっき可能なプラスチックが、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、又はアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン/ポリカーボネートを含む請求項15に記載の方法。
  17. めっき可能なプラスチックをエッチング可能な電解液であって、9mol/L〜15mol/Lの硫酸又はリン酸の溶液中にマンガン(III)イオンを含むことを特徴とする電解液。
  18. 酸が、硫酸である請求項17に記載の電解液。
  19. 硫酸が、12mol/L〜13mol/Lの濃度である請求項18に記載の電解液。
  20. 電解液が、コロイド状二酸化マンガンを更に含む請求項17に記載の電解液。
  21. 電解液が、過マンガン酸イオンを含まない請求項17に記載の電解液。
  22. 電解液中のマンガン(III)イオンの濃度が、0.005mol/Lと飽和濃度との間である請求項17に記載の電解液。
JP2014553311A 2012-01-23 2013-01-03 三価マンガンを含む酸性溶液を用いたプラスチックのエッチング Active JP5895066B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/356,004 2012-01-23
US13/356,004 US10260000B2 (en) 2012-01-23 2012-01-23 Etching of plastic using acidic solutions containing trivalent manganese
PCT/US2013/020115 WO2013112268A2 (en) 2012-01-23 2013-01-03 Etching of plastic using acidic solutions containing trivalent manganese

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015518083A JP2015518083A (ja) 2015-06-25
JP5895066B2 true JP5895066B2 (ja) 2016-03-30

Family

ID=48796357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014553311A Active JP5895066B2 (ja) 2012-01-23 2013-01-03 三価マンガンを含む酸性溶液を用いたプラスチックのエッチング

Country Status (12)

Country Link
US (3) US10260000B2 (ja)
EP (2) EP3406763A1 (ja)
JP (1) JP5895066B2 (ja)
KR (1) KR101626287B1 (ja)
CN (1) CN104487617B (ja)
BR (1) BR112014017638B1 (ja)
CA (1) CA2860845C (ja)
ES (1) ES2688549T3 (ja)
MX (1) MX2014008931A (ja)
PL (1) PL2807290T3 (ja)
TW (1) TWI490311B (ja)
WO (1) WO2013112268A2 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104838044B (zh) * 2012-11-15 2017-12-05 麦克德米德尖端有限公司 在强硫酸中电解产生锰(iii)离子
SI2971260T1 (sl) * 2013-03-12 2019-12-31 Macdermid Acumen, Inc. Elektrolitsko tvorjenje manganovih (III) ionov v močni žveplovi kislini
US9267077B2 (en) * 2013-04-16 2016-02-23 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Chrome-free methods of etching organic polymers with mixed acid solutions
US20140318983A1 (en) * 2013-04-25 2014-10-30 Macdermid Acumen, Inc. Regeneration of Etch Solutions Containing Trivalent Manganese in Acid Media
PL3168326T5 (pl) 2014-07-10 2024-02-05 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Sposób powlekania żywicy
US9809899B2 (en) 2014-08-07 2017-11-07 Macdermid Acumen, Inc. Treatment for electroplating racks to avoid rack metallization
US9506150B2 (en) 2014-10-13 2016-11-29 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Metallization inhibitors for plastisol coated plating tools
EP3059277B2 (en) 2015-02-23 2022-03-30 MacDermid Enthone Inc. Inhibitor composition for racks when using chrome free etches in a plating on plastics process
US20170088971A1 (en) * 2015-09-30 2017-03-30 Macdermid Acumen, Inc. Treatment of Etch Baths
CN105483715B (zh) * 2015-12-09 2018-01-30 哈尔滨工业大学 镁金属表面微‑纳米复合多级孔材料的模板‑3d刻蚀制备方法
JP6750293B2 (ja) * 2016-04-28 2020-09-02 栗田工業株式会社 プラスチック表面の処理方法
CN106245105B (zh) * 2016-08-05 2018-07-13 广州三孚新材料科技股份有限公司 Pa10t工程塑料的无铬表面微蚀方法
JP6947783B2 (ja) * 2017-09-01 2021-10-13 栗田工業株式会社 Abs系樹脂表面のめっき前処理方法、及びabs系樹脂表面のめっき処理方法
JP2019044229A (ja) * 2017-09-01 2019-03-22 栗田工業株式会社 Abs系樹脂表面のめっき前処理方法、abs系樹脂表面のめっき処理方法、及びabs系樹脂めっき製品
JP6953484B2 (ja) * 2017-09-01 2021-10-27 栗田工業株式会社 Abs系樹脂表面のめっき前処理方法、abs系樹脂表面のめっき処理方法、及びabs系樹脂めっき製品
ES2646237B2 (es) 2017-09-28 2018-07-27 Avanzare Innovacion Tecnologica S.L. Formulación para el mordentado de materiales poliméricos previo al recubrimiento de los mismos
JP6477832B1 (ja) * 2017-10-31 2019-03-06 栗田工業株式会社 ポリプロピレン樹脂の親水化処理方法
JP6477831B1 (ja) * 2017-10-31 2019-03-06 栗田工業株式会社 ポリフェニレンサルファイド樹脂の親水化処理方法
CN108421805B (zh) * 2018-02-24 2021-05-14 昆明理工大学 一种电解锰渣固化稳定化处理方法
WO2020011813A1 (en) 2018-07-13 2020-01-16 Solvay Specialty Polymers Usa, Llc Article/part comprising a polymeric component and a metallic coating
JP2021524525A (ja) 2018-07-13 2021-09-13 ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ ユーエスエー, エルエルシー ポリマー成分と金属コーティングとを含む物品/部品
US10889905B2 (en) * 2018-12-11 2021-01-12 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Methods of generating manganese (III) ions in mixed aqueous acid solutions using ozone
GB2587662A (en) 2019-10-04 2021-04-07 Macdermid Inc Prevention of unwanted plating on rack coatings for electrodeposition
JP2023539605A (ja) * 2020-08-25 2023-09-15 アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー ウント コ カーゲー 非金属基板のメタライズ方法及び前処理組成物
US20240043684A1 (en) 2020-12-11 2024-02-08 Sabic Global Technologies B.V. Thermoplastic composition with good plating performance
GB2603003A (en) * 2021-01-25 2022-07-27 Macdermid Inc Method of etching a plastic component
CN114772659B (zh) * 2022-06-20 2022-09-23 宜宾锂宝新材料有限公司 一种改性三元材料前驱体、三元材料及其制备方法
WO2024003123A1 (en) * 2022-06-29 2024-01-04 Sabic Global Technologies B.V. A sustainable solution for metal plating of plastic articles

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3445350A (en) 1965-10-11 1969-05-20 Borg Warner Metal plating of plastic materials
AT310285B (de) 1966-02-22 1973-09-25 Photocircuits Corp Verfahren zur Herstellung eines Schichtkörpers für gedruckte Schaltungen
US4042729A (en) 1972-12-13 1977-08-16 Kollmorgen Technologies Corporation Process for the activation of resinous bodies for adherent metallization
US3941677A (en) * 1974-06-27 1976-03-02 Carrier Corporation Electrolytic regeneration cell
AU4083878A (en) 1977-11-02 1980-04-24 Diamond Shamrock Techn Dislodging electrolytic manganese dioxide
US4235695A (en) 1977-12-09 1980-11-25 Diamond Shamrock Technologies S.A. Novel electrodes and their use
US4279705A (en) 1980-02-19 1981-07-21 Kerr-Mcgee Corporation Process for oxidizing a metal of variable valence by constant current electrolysis
IT1132194B (it) 1980-07-15 1986-06-25 Anic Spa Processo elettrochimico per la sintesi di composti organici
DE3278880D1 (en) 1981-03-05 1988-09-15 Ciba Geigy Ag Electrochemical process for producing benzanthrones and planar polycyclic aromatic oxo compounds
JPS58502027A (ja) * 1981-11-23 1983-11-24 バロ−ス・コ−ポレ−ション 低デ−タ転送率の直列入出力インタ−フェイスをモニタするようにされた周辺装置
GB2140034B (en) * 1983-05-18 1986-07-09 Electricity Council Electrolytic oxidation of manganous ion
JPS6013087A (ja) * 1983-07-05 1985-01-23 Kawasaki Kasei Chem Ltd 硫酸第一セリウムの電解法
US4610895A (en) 1984-02-01 1986-09-09 Shipley Company Inc. Process for metallizing plastics
US4948630A (en) 1984-06-07 1990-08-14 Enthone, Inc. Three step process for treating plastics with alkaline permanganate solutions
JPS63250479A (ja) * 1987-04-06 1988-10-18 Tosoh Corp 粒子状二酸化マンガンの電解合成法
US5213665A (en) 1988-02-29 1993-05-25 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo, Co., Ltd. Process for producing 1-aminoanthraquinones
US4853095A (en) 1988-03-09 1989-08-01 Macdermid, Incorporated Conversion of manganese dioxide to permanganate
US5015329A (en) 1988-11-07 1991-05-14 Jp Laboratories, Inc. Pre-swelling and etching of plastics for plating
US4941940A (en) 1988-11-07 1990-07-17 Jp Laboratories, Inc. Pre-swelling and etching of plastics for plating
US5049230A (en) 1988-11-07 1991-09-17 Jp Laboratories, Inc. Single step pre-swelling and etching of plastics for plating
US5160600A (en) 1990-03-05 1992-11-03 Patel Gordhanbai N Chromic acid free etching of polymers for electroless plating
US5229169A (en) 1992-01-21 1993-07-20 General Electric Company Adhesion of electroless coatings to resinous articles by treatment with permanganate
US5246553A (en) 1992-03-05 1993-09-21 Hydro-Quebec Tetravalent titanium electrolyte and trivalent titanium reducing agent obtained thereby
US5556787A (en) * 1995-06-07 1996-09-17 Hach Company Manganese III method for chemical oxygen demand analysis
US6200440B1 (en) 1995-11-03 2001-03-13 Huron Tech Corp Electrolysis cell and electrodes
US5648125A (en) 1995-11-16 1997-07-15 Cane; Frank N. Electroless plating process for the manufacture of printed circuit boards
CN1238777A (zh) * 1996-11-27 1999-12-15 大正制药株式会社 红霉素a衍生物
GB9714275D0 (en) * 1997-07-08 1997-09-10 Ciba Geigy Ag Oxidation process
GB9722028D0 (en) 1997-10-17 1997-12-17 Shipley Company Ll C Plating of polymers
US6616828B2 (en) 2001-08-06 2003-09-09 Micron Technology, Inc. Recovery method for platinum plating bath
US20040241078A1 (en) 2001-10-16 2004-12-02 Mikio Inoue Fuel cell-use carbon fiber woven fabric, electrode element, fuel cell mobile unit, and production method for fuel cell-use carbon fiber woven fabric
US6645557B2 (en) 2001-10-17 2003-11-11 Atotech Deutschland Gmbh Metallization of non-conductive surfaces with silver catalyst and electroless metal compositions
US20030169558A1 (en) 2002-03-11 2003-09-11 Olson John B. Multi-function carbon composite capacitor electrode
CA2408951C (en) 2002-10-18 2008-12-16 Kvaerner Canada Inc. Mediated hydrohalic acid electrolysis
US6984303B2 (en) 2003-02-25 2006-01-10 Noveon Ip Holdings Corp. Electrochemical production of dyes using graphite felt electrodes
US20050199587A1 (en) 2004-03-12 2005-09-15 Jon Bengston Non-chrome plating on plastic
WO2006054996A1 (en) 2004-11-19 2006-05-26 Honeywell International Inc. Selective removal chemistries for semiconductor applications, methods of production and uses thereof
DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
WO2007122869A1 (ja) 2006-04-18 2007-11-01 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. 樹脂成形体に対するエッチング処理用組成物
US8734992B2 (en) 2007-02-14 2014-05-27 Tosoh Corporation Electrolytic manganese dioxide, and method for its production and its application
ATE445667T1 (de) 2007-08-10 2009-10-15 Enthone Chromfreie beize für kunststoffoberflächen
US8652685B2 (en) 2010-01-29 2014-02-18 Eveready Battery Co., Inc. Method of making an electrochemical cell with a catalytic electrode including manganese dioxide
CN102341946B (zh) 2010-03-12 2013-05-01 住友电气工业株式会社 氧化还原液流电池
US8603352B1 (en) 2012-10-25 2013-12-10 Rohm and Haas Electroncis Materials LLC Chrome-free methods of etching organic polymers

Also Published As

Publication number Publication date
TWI490311B (zh) 2015-07-01
US10260000B2 (en) 2019-04-16
CN104487617A (zh) 2015-04-01
BR112014017638A8 (pt) 2017-07-11
CN104487617B (zh) 2017-07-21
ES2688549T3 (es) 2018-11-05
TW201339281A (zh) 2013-10-01
US20140360980A1 (en) 2014-12-11
BR112014017638A2 (ja) 2017-06-20
CA2860845C (en) 2016-12-20
EP2807290A2 (en) 2014-12-03
US10221357B2 (en) 2019-03-05
EP3406763A1 (en) 2018-11-28
US20130186774A1 (en) 2013-07-25
EP2807290A4 (en) 2016-02-24
EP2807290B1 (en) 2018-08-15
US10280367B2 (en) 2019-05-07
US20180208844A1 (en) 2018-07-26
KR101626287B1 (ko) 2016-06-01
WO2013112268A3 (en) 2015-02-19
CA2860845A1 (en) 2013-08-01
BR112014017638B1 (pt) 2021-04-20
PL2807290T3 (pl) 2019-04-30
KR20140114063A (ko) 2014-09-25
MX2014008931A (es) 2015-06-02
JP2015518083A (ja) 2015-06-25
WO2013112268A2 (en) 2013-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10221357B2 (en) Etching of plastic using acidic solutions containing trivalent manganese
US10895016B2 (en) Electrolytic generation of manganese (III) ions in strong sulfuric acid
JP6167222B2 (ja) 濃硫酸中でのマンガン(iii)イオンの電解生成
JP6060270B2 (ja) 濃硫酸中でのマンガン(iii)イオンの電解生成
US10246788B2 (en) Electrolytic generation of manganese (III) ions in strong sulfuric acid using an improved anode

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20151119

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160118

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160209

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160229

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5895066

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250