JP5890207B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。以下で説明する実施の形態は、半導体装置として1つの昇圧回路によって出力される出力電圧から複数の昇圧電圧を生成する電圧生成回路について説明する。
実施の形態2では、実施の形態1にかかる半導体装置1に関する技術を接地電圧よりも低い負の昇圧電圧を生成する負昇圧回路に適用した実施例について説明する。
実施の形態3では、実施の形態1にかかる半導体装置1に関する技術により生成する昇圧電圧の種類を増加させる実施例について説明する。そこで、図15に実施の形態3にかかる半導体装置3のブロック図を示す。なお、実施の形態3にかかる半導体装置3において、実施の形態1にかかる半導体装置1と同じ構成要素については実施の形態1と同じ符号を付して説明を省略する。
実施の形態4では、実施の形態3にかかる半導体装置3の電圧検知回路52の別の形態について説明する。図20に、実施の形態4にかかる電圧検知回路521のブロック図を示す。図20に示した電圧検知回路521は、1つのコンパレータCMP521と検出電圧制御回路53とを用いて昇圧回路10の出力電圧が2つの保持電圧レベルを上回ったことを検出する。
実施の形態5では、実施の形態1にかかる電圧保持回路14の別の形態について説明する。図23に実施の形態5にかかる電圧レベル変換回路141の回路図を示す。電圧保持回路141は、実施の形態1で説明した電圧保持回路14の変形例の第1の例である。
実施の形態6では、実施の形態2にかかる電圧保持回路34の別の形態について説明する。図26に実施の形態6にかかる電圧レベル変換回路341の回路図を示す。電圧保持回路341は、実施の形態2で説明した電圧保持回路34の変形例の第1の例である。
実施の形態7では、実施の形態5にかかる電圧保持回路142の変形例について説明する。実施の形態7にかかる電圧保持回路143の回路図を図29に示す。図29に示す電圧保持回路143は、実施の形態1にかかる電圧保持回路14の変形例でもある。
実施の形態8にかかる半導体装置4のブロック図を図31に示す。図31に示すように、実施の形態8にかかる半導体装置4は、実施の形態1にかかる半導体装置1の別の形態を示すものである。実施の形態8にかかる半導体装置4は、第2の昇圧電圧V1のオーバーシュート量を低減するための構成を有する。なお、実施の形態8の説明において実施の形態1と同じ構成要素については、実施の形態1と同じ符号を用いて説明を省略する。
実施の形態9においても第2の昇圧電圧のオーバーシュートを防止するための構成を有する半導体装置について説明する。つまり、実施の形態9にかかる半導体装置5は、実施の形態8にかかる半導体装置4の別の形態を示すものである。なお、実施の形態9にかかる説明においては以前の実施の形態において説明した構成要素については、以前の実施の形態と同じ符号を付して説明を省略する。
実施の形態10では、上記実施の形態で説明した昇圧電圧を利用する不揮発性メモリセルを有する半導体装置6について説明する。図36に実施の形態10にかかる半導体装置6のブロック図を示す。
10、30 昇圧回路
11、31、51 制御回路
12、32、52、521、522 電圧検知回路
13、13a、13b、33 電圧レベル変換回路
14、14a、14b、34 電圧保持回路
141〜143、341、342 電圧保持回路
20 逆流防止回路
21〜2n 昇圧段回路
41〜4n 昇圧段回路
53、54 検出電圧制御回路
60 電流制御回路
61 制御論理回路
62 制御電圧生成回路
70、80 制御回路
71、81 電圧検知回路
72 発振回路
73、83 周波数制御回路
82 遅延回路
90 CPU
91 メモリ制御回路
92 Yデコーダ回路
93 Xデコーダ回路
94 メモリセルアレイ
95 センスラッチ
96 電源回路
97 電圧分配回路
SW1、SW1a、SW1b、SW3 第1のスイッチ
SW2、SW4 第2のスイッチ
SW11〜SW14 スイッチ
C21、C41 昇圧コンデンサ
Tr21、Tr41 トランジスタ
CV1、CV2 電圧保持コンデンサ
CMP12、CMP32、CMP52a、CMP52b、CMP521 比較器
BUF1、BUF2 バッファ回路
S11、S11a、S11b、S31 電圧検出信号
S11d 遅延電圧検出信号
S12、S12a、S12b、S32 切替信号
S71 周波数切替信号
S81 クロック切替信号
Claims (8)
- 入力電圧を昇圧して第1の昇圧電圧を生成する昇圧回路と、
前記第1の昇圧電圧よりも絶対値が小さい第2の昇圧電圧を保持する電圧保持回路と、
前記第1の昇圧電圧が出力される第1の出力端子と、
前記第2の昇圧電圧が出力される第2の出力端子と、
前記第1、第2の出力端子の間に設けられる第1のスイッチと、
前記昇圧回路の出力電圧が前記電圧保持回路に対して設定された保持電圧レベルに達したことに応じて前記第1のスイッチを閉状態から開状態に切り替える切替信号を生成する制御回路と、を有し、
前記電圧保持回路は、
前記切替信号に応じて前記出力電圧が前記保持電圧レベルよりも高い期間に開状態に制御される第2のスイッチと、
一端が前記第2のスイッチを介して前記出力電圧が生成される昇圧ノードに接続され、他端が所定の電圧が供給されるバイアス端子に接続される電圧保持コンデンサと、を有し、
前記電圧保持回路は、
前記切替信号が前記第1のスイッチを閉状態とすることを指示する期間は前記昇圧回路の前記出力電圧に応じて出力する前記第2の昇圧電圧の電圧値を上昇させ、
前記切替信号が前記第1のスイッチを開状態とすることを指示する期間は前記切替信号の値が切り替わった時点における前記第2の昇圧電圧の電圧値を維持する半導体装置。 - 前記制御回路は、
電源電圧と接地電圧とに基づき動作し、前記出力電圧が前記保持電圧レベルを超えたことを検出して電圧検出信号を出力する電圧検出回路と、
前記電圧検出信号の振幅の最大値を前記出力電圧に応じた電圧に変換する電圧レベル変換回路と、を有する請求項1に記載の半導体装置。 - 前記電圧保持回路は、複数の前記電圧保持回路を含み、
前記第1のスイッチは、複数の前記電圧保持回路に対応した複数の前記第1のスイッチを含み、
前記制御回路は、
前記出力電圧が複数の前記電圧保持回路のそれぞれに対して設定された複数の前記保持電圧レベルに達する毎に、検出した出力電圧の電圧値に対応した前記保持電圧レベルが設定される前記第1のスイッチと前記電圧保持回路との組みに前記切替信号を出力する請求項1に記載の半導体装置。 - 前記制御回路は、
前記出力電圧が生成される昇圧ノードと所定の電圧が供給されるバイアス端子との間に直列に接続された第1、第2の抵抗と、
前記第1の抵抗と前記第2の抵抗との接続ノードに生成される検出対象電圧と予め設定された基準電圧とを比較する比較器と、
前記比較器の出力がイネーブル状態となったことに応じて複数の前記切替信号のいずれかをイネーブル状態とする検出電圧制御回路と、を有する請求項3に記載の半導体装置。 - 前記昇圧回路の動作クロックを生成する発振回路と、
前記動作クロックの周波数を切り替える周波数制御回路と、を有し、
前記制御回路は、前記出力電圧が、前記保持電圧レベルよりも絶対値が小さな周波数切替電圧レベルに達したことに応じて、所定の期間、前記周波数制御回路に前記動作クロックの周波数を低くすることを指示する請求項1に記載の半導体装置。 - 前記昇圧回路の動作クロックを生成する発振回路と、
前記昇圧回路に対する前記動作クロックの供給状態を制御する周波数制御回路と、を有し、
前記制御回路は、前記出力電圧が前記保持電圧レベルに達したことに応じて、所定の期間前記周波数制御回路に前記動作クロックの供給と前記動作クロックの停止とを所定の間隔で切り替える指示を行う請求項1に記載の半導体装置。 - 少なくとも前記第1の昇圧電圧と前記第2の昇圧電圧とを制御電圧として利用するメモリセルアレイを備える請求項1に記載の半導体装置。
- 前記昇圧回路は、接地電圧よりも低い負の昇圧電圧を生成する負昇圧回路である請求項1に記載の半導体装置。
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