JP5867377B2 - 円筒研削機および単結晶ウエーハの製造方法 - Google Patents
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Description
シリコンウェーハに平坦性が要求される背景としては、リソグラフィやCVDなどに代表されるLSIの製造工程プロセスにおいて面内均一性などのプロセス精度を向上させるためである。
図7にシリコンウェーハ(面方位(100))の外周部の形状を示す(点線の従来技術参照)。形状測定はTaylor Hobson社製のタリロンドを用いて行った。そして真円度は5.3μmであった。
なお、測定の際には、ウェーハのノッチ部(図7の測定図の下方)の周囲±10度の位置は除外している。
また、図7には基準円を併せて示した。この基準円とはLS(Least Squares Circle)円であり、円の中心から外周部の形状の距離の和が最小となるような円である。
例えばCZ法などにより引上げられた単結晶インゴットは、外周部を円筒研削し、ウエーハ状にスライスされる。この時点での真円度は高い。ところが、その後、エッチングを含む種々のプロセスがスライスウエーハに施される。このようなウエーハ作製プロセスにおけるエッチング工程において、結晶方位によるエッチングレートの違いにより、ウエーハ外周部の凹凸形状が形成されてしまう。
しかしながら、この方法はウェーハ1枚ずつに対する加工であり、生産性を維持するためには、面取り装置を複数台用意しなければならず、非効率的である。
しかも、円筒研削工程において、単結晶インゴットごと、つまりは単結晶ウエーハの全数分について、一度に円周方向の半径を簡便に変更でき、効率が良い。
しかも、本発明の円筒研削機により、単結晶インゴットごと、つまりは単結晶ウエーハの全数分について、一度に円周方向の半径を簡便に変更でき、効率が良い。
図1に本発明の円筒研削機の一例を示す。本発明の円筒研削機1は、まず、単結晶インゴット2を保持するとともに回転させる保持具3と、インゴット2の外周部を研削する研削砥石4とを備えている。
また研削砥石4には、高速回転させるとともに移動させる手段(研削砥石移動手段7)がさらに備えられている。この研削砥石移動手段7は、研削砥石4を、インゴット2の軸方向に沿って移動させることができる上、研削砥石4の回転軸方向(すなわち、インゴット2の軸に対して垂直方向)に沿って移動させることができる。
インゴット2は研削時に回転されているので、上記のように研削砥石4の垂直砥石送り量が周期的に変更制御されるよう設定されていると、円周方向の位置に応じてインゴット2の外周部の研削量が周期的に変化する。すなわち、研削されたインゴットは、円周方向の位置に応じてその半径が周期的に変化しているものになる。従来の円筒研削では、できるだけ研削後のインゴットの真円度を向上させるように研削がなされていたが、前述のように本発明の円筒研削機1によって、円周方向において半径をあえてばらつかせた、外周部に凹凸のあるインゴットを得ることができる。
ここで、インゴット2(結晶方位<100>)に対する垂直砥石送り量の数値制御の一例を図3に示す。なお、図3は、縦軸に垂直砥石送り量、横軸にインゴット2の横断面における結晶方位<110>からの円周方向の角度を示している。変更周期は45°であり、0〜5.0μmの間で垂直砥石送り量が周期的に変更制御されている。0°から45°間隔で、インゴット2の軸に垂直方向に沿って、インゴット2に向かって研削砥石4を5.0μm移動させている。一方、22.5°から45°間隔で、インゴット2の軸に垂直方向に沿って、インゴット2と反対方向に向かって研削砥石4を引き戻し、垂直砥石送り量を0μmにしている。
さらに図2を用いて説明すると、研削砥石4が矢印に沿ってインゴットを研削する時に、45°間隔にある点線上の領域を研削する際に垂直砥石送り量を増やす(5.0μmの垂直砥石送り量)ように設定されていることになる。
なお、当然、変更周期はこれらに限定されず、インゴット2の結晶方位等に応じて適宜決定することができる。
例えば、予備試験を有する図4で示される工程に沿ってシリコンウエーハを製造する。なお、本発明の製造方法はこれに限定されず、必ずしも予備試験を行わず、例えば過去の蓄積データ等を利用してシリコンウエーハを製造することも可能である。
まず、予備試験用としてのサンプルウエーハを準備する。例えばCZ法により育成したシリコン単結晶インゴットの外周部を円筒研削する(円筒研削工程:図4(A))。この工程において使用する円筒研削機は特に限定されず、従来と同様のものを用いることができる。従来の円筒研削方法によって、インゴットの外周部を均一に円筒研削して外周部に凹凸のないインゴットを得る。
さらにこのシリコンウエーハの少なくとも外周部をエッチング処理する(エッチング工程:図4(D))。
エッチング処理として、例えば水酸化ナトリウム水溶液および水酸化カリウム水溶液のうち、いずれか1つ以上を用いると良い。ただし、これらに限定されず、その都度適切なものを選択することが可能である。そして例えば、温度83℃で50質量%の水酸化ナトリウム水溶液を用い、10分間のエッチング処理を施すことができる。
このようなアルカリエッチングであれば、酸エッチングよりも、ウエーハの表裏面の形状維持性能が比較的高く、顧客からの平坦度要求を達成しやすいので好ましい。
これらのエッチング前後の半径の値から、円周方向の位置に応じたエッチングによる周期的な半径変化量を求めることができる。
このようにして得られた半径変化量に基づいて本試験での円筒研削工程における条件を設定する(図4(E))。
より具体的には、エッチングによる周期的な半径変化量を相殺するように、予め円筒研削工程において、円周方向の位置に応じて周期的に不均一に垂直砥石送り量を変更制御し、インゴットの外周部を凹凸にして半径が変化するような条件を設定する。
すなわち、エッチング工程で多くエッチングされる箇所では予め円筒研削される量を減らしておき(垂直砥石送り量を小さくしておき)、少なくエッチングされる箇所では予め円筒研削される量を比較的増やしておく(垂直砥石送り量を大きくしておく)。
このように垂直砥石送り量の変更周期が45°の円筒研削条件を設定することで、エッチング後において、最終的に円周方向の半径のばらつきが抑制されることが見込まれる。
このようにして円筒研削条件の設定を行った後、本試験を行う。まず、予備試験と同様にしてCZ法によりシリコン単結晶インゴットを育成し、上記のようにして得られた円筒研削条件をもとにして、円周方向において研削量が均一な円筒研削ではなく、円筒研削機1の制御装置8により、インゴット2の回転に同期させ、研削砥石4をインゴット2の軸方向に移動させつつ垂直砥石送り量を周期的に変更制御し、インゴット2の外周部の円筒研削を行う。これによって円周方向の位置に応じて周期的に半径が変化しているインゴットを得る(図4(F))。
しかしながら、本発明の製造方法では、もともと、エッチング工程での結晶方位に依存するエッチングの異方性を考慮した上で、それによって生じる円周方向の位置に応じた不均一なエッチングを打ち消すように、円筒研削工程(図4(F))で、予め、わざと外周部が凹凸になるように(半径が不均一になるように)円筒研削を行っている。その結果、エッチング工程後においては、エッチドウエーハの円周方向の半径のばらつきは従来品に比べて極めて抑制されており、真円度の高い高品質のウエーハを得ることができる。
さらに図6には、円周方向の位置に応じた、本発明および従来法によるシリコンウエーハの半径と、基準円の半径との差異をグラフで示した。
5…クランプ、 6…回転手段、 7…研削砥石移動手段、 8…制御装置。
Claims (7)
- 研削砥石を用いて単結晶インゴットの外周部を円筒研削する工程と、該円筒研削工程後に前記単結晶インゴットをウエーハ状にスライスする工程と、該スライス工程後の単結晶ウエーハの少なくとも外周部をエッチング処理する工程を有する単結晶ウエーハの製造方法であって、
前記エッチング工程における単結晶ウエーハの円周方向の位置に応じたエッチングによる周期的な半径変化量に基づいて、該周期的な半径変化量を相殺するように、前記単結晶インゴットの円周方向の位置に応じて、前記研削砥石の単結晶インゴット軸に対する垂直方向の砥石送り量を周期的に変更制御して前記単結晶インゴットの半径を変化させながら前記円筒研削工程を行った後、前記スライス工程およびエッチング工程を行い、単結晶ウエーハを製造することを特徴とする単結晶ウエーハの製造方法。 - 前記単結晶インゴットの結晶方位を<100>または<111>とし、それぞれ、前記砥石送り量の変更周期を45°または120°とすることを特徴とする請求項1に記載の単結晶ウエーハの製造方法。
- 前記単結晶ウエーハの円周方向の位置に応じたエッチングによる周期的な半径変化量を、予め試験を行い求めることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の単結晶ウエーハの製造方法。
- 前記エッチング工程を、水酸化ナトリウム水溶液および水酸化カリウム水溶液のうちいずれか1つ以上を用いて行うことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の単結晶ウエーハの製造方法。
- 前記エッチング工程後の単結晶ウエーハの真円度を3.0μm以下とすることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の単結晶ウエーハの製造方法。
- 研削砥石を用いて単結晶インゴットの外周部を円筒研削する円筒研削機であって、
前記単結晶インゴットを保持するとともに回転させる保持具と、該保持具に保持された単結晶インゴットの外周部を研削する研削砥石と、該研削砥石の単結晶インゴット軸に対する垂直方向の砥石送り量を数値制御により制御して、円周方向の位置に応じて単結晶インゴットの半径を制御するための制御装置を具備し、
該制御装置は、前記保持具に保持された単結晶インゴットの円周方向の位置に応じ、研削するときの前記研削砥石の単結晶インゴット軸に対する垂直方向の砥石送り量を周期的に変更制御するものであることを特徴とする円筒研削機。 - 前記単結晶インゴットの結晶方位が<100>または<111>であり、それぞれ、前記砥石送り量の変更周期が45°または120°であることを特徴とする請求項6に記載の円筒研削機。
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