JP5853715B2 - OPTICAL SYSTEM, IMAGING DEVICE HAVING THE OPTICAL SYSTEM, AND OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD - Google Patents
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Images
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- Lenses (AREA)
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Description
本発明は、光学系、この光学系を有する撮像装置、及び、光学系の製造方法に関する。 The present invention relates to an optical system, an imaging apparatus having the optical system, and a method for manufacturing the optical system.
従来、所謂ガウス型レンズは多数提案されている（例えば、特許文献１参照）。また近年、このような光学系に対しては、収差性能だけではなく、光学性能を損なう要因の一つであるゴーストやフレアに関する要求も厳しさを増しており、そのためレンズ面に施される反射防止膜にもより高い性能が要求され、要求に応えるべく多層膜設計技術や多層膜成膜技術も進歩を続けている（例えば、特許文献２参照）。 Conventionally, many so-called Gaussian lenses have been proposed (see, for example, Patent Document 1). In recent years, not only aberration performance but also ghost and flare requirements, which are one of the factors that impair optical performance, have become increasingly demanding for such optical systems. Higher performance is required for the prevention film, and multilayer film design technology and multilayer film formation technology continue to advance to meet the demand (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、従来のガウス型レンズはコマ収差の補正が不十分で、特にサジタルコマ収差の改善は困難である。このような収差を改善するために非球面を使用する場合、製造上の難易度増大やコストアップという課題があった。それと同時に、このような光学系における光学面からは、ゴーストやフレアとなる反射光が発生しやすいという課題もあった。 However, the conventional Gaussian lens has insufficient correction of coma, and it is particularly difficult to improve sagittal coma. When using an aspherical surface in order to improve such aberrations, there are problems such as an increase in manufacturing difficulty and cost. At the same time, the optical surface in such an optical system also has a problem that reflected light that becomes ghost or flare is easily generated.
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、小型で、構成枚数が少なく、ゴーストやフレアをより低減させ、高性能で、特にコマ収差、球面収差の少ない光学系、この光学系を有する撮像装置、及び、光学系の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and is compact, has a small number of components, further reduces ghosts and flares, has high performance, particularly an optical system with little coma and spherical aberration, and the optical system. It is an object of the present invention to provide an image pickup apparatus having the above and an optical system manufacturing method.
前記課題を解決するために、本発明に係る光学系は、
光軸に沿って拡大側から順に、
第１レンズ群と、正の屈折力を有する第２レンズ群とにより実質的に２個のレンズ群からなり、
前記第１レンズ群は、２枚の正レンズと、１枚の負レンズと、からなり、
前記第２レンズ群は、負レンズ及び正レンズが接合された接合レンズと、２枚の正レンズとからなり、
前記第１レンズ群及び前記第２レンズ群に含まれる前記２枚の正レンズのうちの少なくとも１枚は、以下の条件式を満足する特定正レンズであり、
前記第１レンズ群および前記第２レンズ群における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜は屈折率ｎｄが１．３０以下の層を少なくとも１層含んでいることを特徴とする光学系を提供する。
１．７９０ ＜ ｎｄ
４９．０ ＜ νｄ
但し、
ｎｄ：前記特定正レンズの媒質のｄ線に対する屈折率
νｄ：前記特定正レンズの媒質のアッベ数
In order to solve the above problems, the optical system according to the present invention is:
Along the optical axis from the magnification side,
The first lens group and the second lens group having a positive refractive power substantially consist of two lens groups ,
The first lens group includes two positive lenses and one negative lens.
The second lens group includes a cemented lens in which a negative lens and a positive lens are cemented, and two positive lenses ,
At least one of the two positive lenses included in the first lens group and the second lens group is a specific positive lens that satisfies the following conditional expression:
An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group and the second lens group, and the antireflection film includes at least one layer having a refractive index nd of 1.30 or less. An optical system is provided.
1.790 <nd
49.0 <νd
However,
nd: refractive index of the medium of the specific positive lens with respect to d-line νd: Abbe number of the medium of the specific positive lens
また、本発明は、前記光学系を有することを特徴とする撮像装置を提供する。 The present invention also provides an imaging apparatus having the optical system.
また、本発明は、
光軸に沿って拡大側から順に、第１レンズ群と、正の屈折力を有する第２レンズ群とにより実質的に２個のレンズ群からなる光学系の製造方法であって、
前記第１レンズ群および前記第２レンズ群における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含んでおり、
前記第１レンズ群として、２枚の正レンズと、１枚の負レンズと、を配置し、
前記第２レンズ群として、負レンズ及び正レンズが接合された接合レンズと、２枚の正レンズと、を配置し、
前記第１レンズ群及び前記第２レンズ群に含まれる前記２枚の正レンズのうちの少なくとも１枚が以下の条件式を満足する特定正レンズであることを特徴とする光学系の製造方法を提供する。
１．７９０ ＜ ｎｄ
４９．０ ＜ νｄ
但し、
ｎｄ：前記特定正レンズの媒質のｄ線に対する屈折率
νｄ：前記特定正レンズの媒質のアッベ数
The present invention also provides:
In order from the magnification side along the optical axis, a first lens group, a second lens group having a positive refractive power be substantially method for producing a two-lens optical system ing from the group,
An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces in the first lens group and the second lens group, and the antireflection film includes at least one layer formed using a wet process,
As the first lens group, two positive lenses and one negative lens are arranged,
As the second lens group, a cemented lens in which a negative lens and a positive lens are cemented, and two positive lenses are arranged,
An optical system manufacturing method, wherein at least one of the two positive lenses included in the first lens group and the second lens group is a specific positive lens that satisfies the following conditional expression: provide.
1.790 <nd
49.0 <νd
However,
nd: refractive index of the medium of the specific positive lens with respect to d-line νd: Abbe number of the medium of the specific positive lens
本発明によれば、小型で、構成枚数が少なく、ゴーストやフレアをより低減させ、高性能で、特にコマ収差、球面収差の少ない光学系、この光学系を有する撮像装置、及び、光学系の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, an optical system that is small in size, has a small number of components, has reduced ghosts and flares, has high performance, and has particularly low coma and spherical aberration, an image pickup apparatus having the optical system, and an optical system. A manufacturing method can be provided.
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。図１に示すように、本実施形態に係る光学系ＯＳは、光軸に沿って拡大側から順に、第１レンズ群Ｇ１と、正の屈折力を有する第２レンズ群Ｇ２と、を有して構成される。また、第１レンズ群Ｇ１は、少なくとも１枚の正レンズと、少なくとも１枚の負レンズと、を有し、第２レンズ群は、少なくとも１枚の負レンズと、少なくとも１枚の正レンズと、を有する。そして、第１レンズ群Ｇ１及び第２レンズ群Ｇ２に含まれる正レンズのうちの少なくとも１枚は、以下の条件式（１）及び条件式（２）を満足する（以下、この条件式（１）及び条件式（２）を満足する正レンズを、「特定正レンズ」と呼ぶ）。また、この光学系ＯＳにおいて、物体の拡大像が形成される方向を「拡大側」と呼び、物体の縮小像が形成される方向を「縮小側」と呼ぶ。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the optical system OS according to the present embodiment includes a first lens group G1 and a second lens group G2 having a positive refractive power in order from the magnification side along the optical axis. Configured. The first lens group G1 includes at least one positive lens and at least one negative lens, and the second lens group includes at least one negative lens and at least one positive lens. Have. At least one of the positive lenses included in the first lens group G1 and the second lens group G2 satisfies the following conditional expression (1) and conditional expression (2) (hereinafter, this conditional expression (1 ) And conditional expression (2) are called “specific positive lenses”). In this optical system OS, the direction in which the enlarged image of the object is formed is referred to as “enlarged side”, and the direction in which the reduced image of the object is formed is referred to as “reduced side”.
１．７９０ ＜ ｎｄ （１）
４９．０ ＜ νｄ （２）
但し、
ｎｄ：特定正レンズの媒質のｄ線に対する屈折率
νｄ：特定正レンズの媒質のアッベ数
1.790 <nd (1)
49.0 <νd (2)
However,
nd: refractive index with respect to d-line of medium of specific positive lens νd: Abbe number of medium of specific positive lens
本実施形態に係る光学系ＯＳは、基本的に正負負正の部分レンズ群より構成される、所謂ガウス型、クセノター型等の光学系の欠点であるサジタルコマ収差を、色収差、像面湾曲及び非点収差を悪化させること無く、非球面や回折格子などを使わなくても、良好に改善する方法を提案するものである。また、本実施形態に係る光学系ＯＳの特徴は、この光学系ＯＳを構成する正レンズ（特定正レンズ）に、今までにはない高屈折率低分散レンズを用いたことにある。光学系ＯＳの中に１枚でも屈折率ｎｄが１．７９０を超えて、かつ、アッベ数が４９.０を超えるレンズ材料を用いることで、軸上色収差及び倍率色収差を良好に保ったまま、最適なペッツバール和を保ち、かつ、高屈折率ゆえに比較的曲率半径を大きく保つことが可能になり、結果的にコマ収差、特にサジタルコマ収差の良好な補正が可能になる。したがって、特殊な非球面レンズや回折格子を使わなくとも、良好な補正が可能になるのである。 The optical system OS according to the present embodiment has a sagittal coma aberration, which is a defect of an optical system such as a Gaussian type or a Xenota type, which is basically composed of positive, negative, and positive partial lens groups. The present invention proposes a method for improving satisfactorily without deteriorating the point aberration and without using an aspherical surface or a diffraction grating. Further, the optical system OS according to the present embodiment is characterized in that an unprecedented high refractive index and low dispersion lens is used as the positive lens (specific positive lens) constituting the optical system OS. By using a lens material having a refractive index nd of more than 1.790 and an Abbe number of more than 49.0 in the optical system OS, the axial chromatic aberration and the lateral chromatic aberration are kept good. It is possible to keep the optimum Petzval sum and keep the radius of curvature relatively large because of the high refractive index, and as a result, it is possible to satisfactorily correct coma, particularly sagittal coma. Therefore, it is possible to perform good correction without using a special aspheric lens or diffraction grating.
条件式（１）は、上述の光学系ＯＳに含まれる少なくとも１枚の正レンズ（特定正レンズ）の媒質の屈折率を規定する条件である。この条件をはずれた場合、ペッツバール和に対する最適値の設定が損なわれ、結果的に像面湾曲が悪化する。また、この特定正レンズの曲率半径が小さくなり、コマ収差、特にサジタルコマ収差が増加し好ましくない。なお、条件式（１）の下限値を１．７９５にすることにより、良好なコマ収差及び像面湾曲の補正が可能になる。また、条件式（１）の下限値を１．８００に設定することによりさらに良好なコマ収差及び像面湾曲の補正が可能になる。また、条件式（１）の下限値を１．８１０に設定することによりさらに良好なコマ収差及び像面湾曲の補正が可能となる。また、条件式（１）の下限値を１．８２０に設定することによって、本願の効果を最大限に発揮できる。 Conditional expression (1) is a condition that defines the refractive index of the medium of at least one positive lens (specific positive lens) included in the optical system OS described above. If this condition is not met, the setting of the optimum value for the Petzval sum is impaired, and as a result, the field curvature deteriorates. Further, the radius of curvature of the specific positive lens is decreased, and coma aberration, particularly sagittal coma aberration is increased. Note that by setting the lower limit value of conditional expression (1) to 1.795, it is possible to correct coma and field curvature. Further, by setting the lower limit value of the conditional expression (1) to 1.800, it is possible to further improve coma aberration and field curvature. Further, by setting the lower limit value of conditional expression (1) to 1.810, it is possible to further correct coma aberration and field curvature. In addition, by setting the lower limit value of conditional expression (1) to 1.820, the effects of the present application can be maximized.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳにおいて、上述の特定正レンズは、上述の条件式（２）を条件式（１）と同時に満足することが必要である。この条件式（２）は光学系ＯＳに設定された特定正レンズの媒質のアッベ数を規定する条件である。この条件は条件式（１）を満足した上で設定される条件である。この条件式（２）を満足しない場合、軸上色収差と倍率色収差の補正が困難になり好ましくない。なお、条件式（２）の下限値を４９．３に設定すると、より色収差の補正が良好になる。また、条件式（２）の下限値を４９．５に設定すると、より色収差の補正が良好になる。また、条件式（２）の下限値を５０．０に設定すると、より色収差の補正が良好になる。また、条件式（２）の下限値を５０．３に設定することによって、本願の効果を最大限に発揮できる。 In the optical system OS according to the present embodiment, the specific positive lens described above must satisfy the conditional expression (2) simultaneously with the conditional expression (1). Conditional expression (2) is a condition that defines the Abbe number of the medium of the specific positive lens set in the optical system OS. This condition is a condition set after satisfying conditional expression (1). If this conditional expression (2) is not satisfied, correction of axial chromatic aberration and lateral chromatic aberration becomes difficult, which is not preferable. If the lower limit value of conditional expression (2) is set to 49.3, the chromatic aberration can be corrected more favorably. Further, when the lower limit value of conditional expression (2) is set to 49.5, the correction of chromatic aberration becomes better. Further, when the lower limit value of conditional expression (2) is set to 50.0, the correction of chromatic aberration becomes better. Further, by setting the lower limit value of conditional expression (2) to 50.3, the effects of the present application can be maximized.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群および第２レンズ群における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、この反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含んでいる。このように構成することで、本実施形態に係る光学系は、物体からの光が光学面で反射されて生じるゴーストやフレアをさらに低減することができ、高い結像性能を達成することができる。 Further, in the optical system OS according to the present embodiment, an antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces in the first lens group and the second lens group, and the antireflection film is formed using a wet process. It contains at least one layer. With this configuration, the optical system according to the present embodiment can further reduce ghosts and flares caused by reflection of light from an object on an optical surface, and can achieve high imaging performance. .
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、反射防止膜は多層膜であり、ウェットプロセスで形成された層は、多層膜を構成する層のうち最も表面の層であることが好ましい。このようにすれば、空気との屈折率差を小さくすることができるため、光の反射をより小さくすることが可能になり、ゴーストやフレアをさらに低減させることができる。 In the optical system OS according to this embodiment, the antireflection film is preferably a multilayer film, and the layer formed by the wet process is preferably the outermost layer among the layers constituting the multilayer film. In this way, since the difference in refractive index with air can be reduced, the reflection of light can be further reduced, and ghosts and flares can be further reduced.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、ウェットプロセスを用いて形成された層の屈折率をｎｄとしたとき、屈折率ｎｄが１．３０以下であることが好ましい。このようにすれば、空気との屈折率差を小さくすることができるため、光の反射をより小さくすることが可能になり、ゴーストやフレアをさらに低減させることができる。 In the optical system OS according to this embodiment, the refractive index nd is preferably 1.30 or less, where nd is the refractive index of the layer formed using the wet process. In this way, since the difference in refractive index with air can be reduced, the reflection of light can be further reduced, and ghosts and flares can be further reduced.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、開口絞りを有し、第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち反射防止膜が設けられた光学面は、開口絞りから見て凹形状のレンズ面であることが好ましい。第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このようにすれば、ゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 The optical system OS according to the present embodiment has an aperture stop, and the optical surface provided with the antireflection film among the optical surfaces in the first lens group and the second lens group has a concave shape when viewed from the aperture stop. It is preferable that it is a lens surface. Of the optical surfaces in the first lens group and the second lens group, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop. Thus, ghosts and flares can be effectively reduced. it can.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群において反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、縮小側のレンズ面であることが好ましい。第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 Further, in the optical system OS according to the present embodiment, the concave lens surface as viewed from the aperture stop in which the antireflection film is provided in the first lens group and the second lens group is a reduction-side lens surface. Is preferred. Of the optical surfaces in the first lens group and the second lens group, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop. Therefore, by forming an antireflection film on such an optical surface, ghost and flare are formed. Can be effectively reduced.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群において反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、拡大側のレンズ面であることが好ましい。第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 Further, in the optical system OS according to the present embodiment, the concave lens surface as viewed from the aperture stop in which the antireflection film is provided in the first lens group and the second lens group is a lens surface on the enlargement side. Is preferred. Of the optical surfaces in the first lens group and the second lens group, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop. Therefore, by forming an antireflection film on such an optical surface, ghost and flare are formed. Can be effectively reduced.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第１レンズ群の最も縮小側のレンズから拡大側に２番目のレンズの、縮小側レンズ面であることが好ましい。第１レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 In addition, the optical system OS according to the present embodiment has a concave lens surface as viewed from the aperture stop provided with an antireflection film among the optical surfaces of the first lens group and the second lens group. It is preferable that the lens surface is the reduction side lens surface of the second lens from the most reduction side lens to the enlargement side. Of the optical surfaces in the first lens group, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface to effectively reduce ghosts and flares. Can be made.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第１レンズ群の最も縮小側のレンズの、拡大側レンズ面であることが好ましい。第１レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 In addition, the optical system OS according to the present embodiment has a concave lens surface as viewed from the aperture stop provided with an antireflection film among the optical surfaces of the first lens group and the second lens group. It is preferable that this is the magnification side lens surface of the most reduction side lens. Of the optical surfaces in the first lens group, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface to effectively reduce ghosts and flares. Can be made.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第１レンズ群の最も縮小側のレンズの、縮小側レンズ面であることが好ましい。第１レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 In addition, the optical system OS according to the present embodiment has a concave lens surface as viewed from the aperture stop provided with an antireflection film among the optical surfaces of the first lens group and the second lens group. It is preferable that the lens surface is the reduction side lens surface of the most reduction side lens. Of the optical surfaces in the first lens group, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface to effectively reduce ghosts and flares. Can be made.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第２レンズ群の最も拡大側のレンズの、拡大側レンズ面であることが好ましい。第２レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 In addition, the optical system OS according to the present embodiment has a concave lens surface as viewed from the aperture stop provided with an antireflection film among the optical surfaces of the first lens group and the second lens group. It is preferable that the lens surface is the magnification side lens surface of the most magnification side lens. Of the optical surfaces in the second lens group, reflected light is likely to be generated on concave lens surfaces as viewed from the aperture stop, so ghosts and flares are effectively reduced by forming an antireflection film on such optical surfaces. Can be made.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、第１レンズ群及び第２レンズ群における光学面のうち反射防止膜が設けられた、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第２レンズ群の最も拡大側のレンズから縮小側へ２番目のレンズの、縮小側レンズ面であることが好ましい。第２レンズ群における光学面のうち開口絞りから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。 In addition, the optical system OS according to the present embodiment has a concave lens surface as viewed from the aperture stop provided with an antireflection film among the optical surfaces of the first lens group and the second lens group. It is preferable that the lens surface is a reduction side lens surface of the second lens from the most enlargement side lens to the reduction side. Of the optical surfaces in the second lens group, reflected light is likely to be generated on concave lens surfaces as viewed from the aperture stop, so ghosts and flares are effectively reduced by forming an antireflection film on such optical surfaces. Can be made.
また、本実施形態に係る光学系では、反射防止膜は、ウェットプロセスに限らず、ドライプロセス等により形成しても良い。この際、反射防止膜は屈折率が１．３０以下となる層を少なくとも１層含むようにすることが好ましい。反射防止膜が、屈折率が１．３０以下となる層を少なくとも１層含むようにすることで、反射防止膜をドライプロセス等で形成しても、ウェットプロセスを用いた場合と同様の効果を得ることができる。なおこの時、屈折率が１．３０以下になる層は、多層膜を構成する層のうち最も表面側の層であることが好ましい。 In the optical system according to the present embodiment, the antireflection film is not limited to a wet process, and may be formed by a dry process or the like. At this time, it is preferable that the antireflection film includes at least one layer having a refractive index of 1.30 or less. By making the antireflection film include at least one layer having a refractive index of 1.30 or less, even if the antireflection film is formed by a dry process or the like, the same effect as that obtained by using a wet process can be obtained. Can be obtained. At this time, the layer having a refractive index of 1.30 or less is preferably the most surface layer among the layers constituting the multilayer film.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳにおいて、上述の条件式（１）、（２）を満足する特定正レンズの少なくとも１枚は、以下の条件式（３）を満足することが望ましい。 In the optical system OS according to the present embodiment, it is desirable that at least one of the specific positive lenses satisfying the conditional expressions (1) and (2) satisfies the following conditional expression (3).
０．４０ ＜ ｆ／ｆ０ ＜ ７．００ （３）
但し、
ｆ：特定正レンズの焦点距離
ｆ０：無限遠合焦時の全系の焦点距離
0.40 <f / f0 <7.00 (3)
However,
f: Focal length of the specific positive lens f0: Focal length of the entire system when focusing on infinity
条件式（３）は光学系ＯＳを構成する正レンズの中で、条件式（１）、（２）を満足する特定正レンズの少なくとも１枚の焦点距離を規定する条件である。この条件式で特定正レンズの収差補正に最適な屈折力を規定するものである。 Conditional expression (3) is a condition that defines the focal length of at least one specific positive lens satisfying conditional expressions (1) and (2) among the positive lenses constituting the optical system OS. This conditional expression defines the optimum refractive power for aberration correction of the specific positive lens.
条件式（３）の上限を上回る場合、特定正レンズの屈折力が弱くなることを意味している。この場合、ペッツバール和が最適な値から悪化し、結果的に像面湾曲の補正が悪化し好ましくない。また、コマ収差の補正能力も低下し、好ましくない。なお、条件式（３）の上限値を５．００に設定すると、より上述の諸収差の補正が有利になる。また、条件式（３）の上限値を４．００に設定すると、より上述の諸収差の補正が有利になる。また、条件式（３）の上限値を３．５０に設定すると、より上述の諸収差の補正が有利になる。また、条件式（３）の上限値を３．００に設定することによって、本願の効果を最大限に発揮できる。 If the upper limit of conditional expression (3) is exceeded, it means that the refractive power of the specific positive lens becomes weak. In this case, the Petzval sum is deteriorated from the optimum value, and as a result, the correction of the field curvature is deteriorated. Moreover, the correction capability of coma aberration also decreases, which is not preferable. If the upper limit value of conditional expression (3) is set to 5.00, the above-described correction of various aberrations becomes more advantageous. Further, when the upper limit value of conditional expression (3) is set to 4.00, the above-described correction of various aberrations becomes more advantageous. If the upper limit value of conditional expression (3) is set to 3.50, the above-described correction of various aberrations becomes more advantageous. Further, by setting the upper limit value of conditional expression (3) to 3.00, the effect of the present application can be maximized.
また、条件式（３）の下限値を下回る場合、特定正レンズの屈折力が強くなることを意味している。その場合、結果的に球面収差、コマ収差の補正が悪化し好ましくない。なお、条件式（３）の下限値を０．４５に設定すると、球面収差、コマ収差等の諸収差の補正に有利となる。また、条件式（３）の下限値を０．５０に設定すると、球面収差、コマ収差等の諸収差の補正に有利となる。また、条件式（３）の下限値を０．５５に設定すると、球面収差、コマ収差等の諸収差の補正に有利となる。また、条件式（３）の下限値を０.６０に設定することによって、本願の効果を最大限に発揮できる。 Further, when the lower limit of conditional expression (3) is not reached, it means that the refractive power of the specific positive lens becomes strong. In this case, the correction of spherical aberration and coma aberration deteriorates as a result, which is not preferable. Note that setting the lower limit of conditional expression (3) to 0.45 is advantageous for correcting various aberrations such as spherical aberration and coma. Setting the lower limit of conditional expression (3) to 0.50 is advantageous for correcting various aberrations such as spherical aberration and coma. Setting the lower limit of conditional expression (3) to 0.55 is advantageous for correcting various aberrations such as spherical aberration and coma. Further, by setting the lower limit value of conditional expression (3) to 0.60, the effect of the present application can be maximized.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳにおいて、第１レンズ群Ｇ１は２枚の正レンズと１枚の負レンズを有することで良好に球面収差、色収差を補正することができ、接合レンズを含んでも、単体レンズでも良い。その場合、接合レンズは正でも負でも良い。 In the optical system OS according to the present embodiment, the first lens group G1 includes two positive lenses and one negative lens, so that spherical aberration and chromatic aberration can be corrected well, and includes a cemented lens. However, a single lens may be used. In that case, the cemented lens may be positive or negative.
また、第２レンズ群中Ｇ２は負レンズと正レンズとの接合よりなる接合レンズと少なくとも１枚の正レンズとを有することがコマ収差、軸上色収差、倍率色収差の補正に好ましい。その場合、接合レンズは正でも負でも良い。 In addition, it is preferable that G2 in the second lens group includes a cemented lens formed by cementing a negative lens and a positive lens and at least one positive lens in order to correct coma, axial chromatic aberration, and lateral chromatic aberration. In that case, the cemented lens may be positive or negative.
また、第１レンズ群Ｇ１と第２レンズ群Ｇ２との間には開口絞りＳがあることが倍率色収差、歪曲収差の補正に好ましい。 In addition, an aperture stop S is preferably provided between the first lens group G1 and the second lens group G2 in order to correct lateral chromatic aberration and distortion.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、次の条件式（４）を満足することが望ましい。 In addition, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (4).
０．２０ ＜ ｆ２／ｆ０ ＜ ３．００ （４）
但し、
ｆ２：第２レンズ群Ｇ２の焦点距離
ｆ０：無限遠合焦時の全系の焦点距離
0.20 <f2 / f0 <3.00 (4)
However,
f2: focal length of the second lens group G2 f0: focal length of the entire system when focusing on infinity
条件式（４）は、第２レンズ群Ｇ２の焦点距離、言い換えれば屈折力を規定する条件である。 Conditional expression (4) is a condition that defines the focal length of the second lens group G2, in other words, the refractive power.
この条件式（４）の上限値を上回る場合、第２レンズ群Ｇ２の焦点距離が大きくなり、言い換えれば第２レンズ群Ｇ２の屈折力が弱くなることを意味する。この場合、第１レンズ群Ｇ１との屈折力バランスが崩れ、収差補正上は倍率色収差、歪曲が悪化し好ましくない。なお、条件式（４）の上限値を２．００に設定すると、諸収差の補正が有利になる。また、条件式（４）の上限値を１．５０に設定すると、諸収差の補正がさらに有利になる。また、条件式（４）の上限値を１．２０に設定すると、諸収差の補正がさらに有利になる。また、条件式（４）の上限値を０．９０に設定することによって、本願の効果を最大限に発揮できる。 When the upper limit value of the conditional expression (4) is exceeded, it means that the focal length of the second lens group G2 becomes large, in other words, the refractive power of the second lens group G2 becomes weak. In this case, the refractive power balance with the first lens group G1 is lost, and chromatic aberration of magnification and distortion are deteriorated in terms of aberration correction. If the upper limit value of conditional expression (4) is set to 2.00, it becomes advantageous to correct various aberrations. If the upper limit value of conditional expression (4) is set to 1.50, correction of various aberrations becomes more advantageous. If the upper limit value of conditional expression (4) is set to 1.20, it becomes more advantageous to correct various aberrations. Further, by setting the upper limit value of conditional expression (4) to 0.90, the effects of the present application can be maximized.
また、条件式（４）の下限値を下回る場合、第２レンズ群Ｇ２の焦点距離が小さくなり、言い換えれば第２レンズ群Ｇ２の屈折力が強くなることを意味する。この場合、特に球面色収差、コマ収差が悪化するので好ましくない。なお、条件式（４）の下限値を０．３０に設定すると、より諸収差の補正が良好にできる。また、条件式（４）の下限値を０．４０に設定すると、より諸収差の補正が良好にできる。また、条件式（４）の下限値を０．５０に設定すると、より諸収差の補正が良好にできる。また、条件式（４）の下限値を０．５５に設定することによって、本願の効果を最大限に発揮できる。 On the other hand, if the lower limit value of conditional expression (4) is not reached, it means that the focal length of the second lens group G2 becomes small, in other words, the refractive power of the second lens group G2 becomes strong. In this case, spherical chromatic aberration and coma are particularly deteriorated, which is not preferable. If the lower limit of conditional expression (4) is set to 0.30, various aberrations can be corrected more favorably. If the lower limit value of conditional expression (4) is set to 0.40, various aberrations can be corrected more favorably. If the lower limit value of conditional expression (4) is set to 0.50, various aberrations can be corrected more favorably. Moreover, by setting the lower limit value of conditional expression (4) to 0.55, the effect of the present application can be maximized.
また、本実施形態に係る光学系ＯＳは、上述の条件式（１）及び条件式（２）を同時に満足する特定正レンズを少なくとも２枚有すると最適なペッツバール和の設定に効果があり好ましい。また、この特定正レンズを、第１レンズ群Ｇ１及び第２レンズ群Ｇ２のそれぞれに少なくとも１枚ずつ有することが像面湾曲、コマ収差の補正を更に好ましいものにする。また、本実施形態に係る光学系ＯＳを構成するすべての正レンズが、条件式（１）及び条件式（２）を同時に満足する特定正レンズであると、本願の効果を最大限に発揮できる。 In addition, it is preferable that the optical system OS according to the present embodiment has at least two specific positive lenses that simultaneously satisfy the conditional expression (1) and the conditional expression (2) because it is effective in setting an optimal Petzval sum. Further, at least one specific positive lens is provided in each of the first lens group G1 and the second lens group G2, so that correction of field curvature and coma aberration is further preferable. In addition, when all the positive lenses constituting the optical system OS according to the present embodiment are specific positive lenses that simultaneously satisfy the conditional expression (1) and the conditional expression (2), the effects of the present application can be maximized. .
図８に、上述の光学系ＯＳを備える撮像装置として、一眼レフカメラ１（以後、単にカメラと記す）の略断面図を示す。このカメラ１において、不図示の物体（被写体）からの光は、撮影レンズ２（光学系ＯＳ）で集光されて、クイックリタ−ンミラ−３を介して焦点板４に結像される。そして、焦点板４に結像された光は、ペンタプリズム５中で複数回反射されて接眼レンズ６へと導かれる。これにより、撮影者は、物体（被写体）像を、接眼レンズ６を介して正立像として観察することができる。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a single-lens reflex camera 1 (hereinafter simply referred to as a camera) as an imaging apparatus including the optical system OS described above. In this
また、撮影者によって不図示のレリ−ズボタンが押されると、クイックリタ−ンミラ−３が光路外へ退避し、撮影レンズ２で集光された不図示の物体（被写体）の光は撮像素子７上に被写体像を形成する。これにより、物体（被写体）からの光は、当該撮像素子７により撮像され、物体（被写体）画像として不図示のメモリに記録される。このようにして、撮影者は本カメラ１による物体（被写体）の撮影を行うことができる。なお、図８に記載のカメラ１は、撮影レンズ２を着脱可能に保持するものでも良く、撮影レンズ２と一体に成形されるものでも良い。また、カメラ１は、いわゆる一眼レフカメラでも良く、クイックリタ−ンミラ−等を有さないコンパクトカメラ若しくはミラ−レスカメラでも良い。
When the release button (not shown) is pressed by the photographer, the
ここで、本カメラ１に撮影レンズ２として上述した光学系ＯＳを搭載することにより、その特徴的なレンズ構成によって、球面収差、像面湾曲、コマ収差の少ない大口径レンズを実現している。これにより本カメラ１は、球面収差、像面湾曲、コマ収差の少なく、大口径を有し、広角撮影可能な撮像装置を実現することができる。
Here, by mounting the above-described optical system OS on the
また、以下に記載の内容は、光学性能を損なわない範囲で適宜採用可能である。 In addition, the contents described below can be appropriately adopted as long as the optical performance is not impaired.
本実施形態では、２群構成の光学系ＯＳを示したが、以上の構成条件等は、３群、４群等の他の群構成にも適用可能である。また、最も拡大側にレンズまたはレンズ群を追加した構成や、最も縮小側にレンズまたはレンズ群を追加した構成でも構わない。また、レンズ群とは、上述のように開口絞りＳで分離された、少なくとも１枚のレンズを有する部分、または、変倍時若しくは合焦時に変化する空気間隔で分離された、少なくとも１枚のレンズを有する部分を示す。 In the present embodiment, the optical system OS having the two-group configuration is shown, but the above-described configuration conditions and the like can be applied to other group configurations such as the third group, the fourth group, and the like. Further, a configuration in which a lens or a lens group is added on the most enlargement side, or a configuration in which a lens or a lens group is added on the most reduction side may be used. The lens group is a portion having at least one lens separated by the aperture stop S as described above, or at least one piece separated by an air interval that changes at the time of zooming or focusing. The part which has a lens is shown.
また、本実施形態では全体（全群）繰り出しによって無限遠物体から近距離物体に対して合焦するが、単独または複数のレンズ群、または部分レンズ群を光軸方向に移動させて、無限遠物体から近距離物体への合焦を行う合焦レンズ群としても良い。すなわち、第１レンズ群Ｇ１を用いる方式や第２レンズ群Ｇ２を用いたリヤフォーカスでも良い。この場合、前記合焦レンズ群はオートフォーカスにも適用でき、オートフォーカス用の（超音波モーター等を用いた）モーター駆動にも適している。 In this embodiment, the entire (all groups) feed is used to focus on an object at a short distance from an object at infinity. A focusing lens group that performs focusing from an object to a short-distance object may be used. That is, a method using the first lens group G1 or a rear focus using the second lens group G2 may be used. In this case, the focusing lens group can be applied to autofocus, and is also suitable for driving a motor for autofocus (using an ultrasonic motor or the like).
また、レンズ群または部分レンズ群を光軸に垂直な方向の成分を持つように移動させ、または、光軸を含む面内方向に回転移動（揺動）させて、手ぶれによって生じる像ぶれを補正する防振レンズ群としても良い。特に、第２レンズ群Ｇ２の少なくとも一枚を防振レンズ群とするのが好ましい。 Also, by moving the lens group or partial lens group so that it has a component in the direction perpendicular to the optical axis, or rotating (swinging) in the in-plane direction including the optical axis, image blur caused by camera shake is corrected. An anti-vibration lens group may be used. In particular, it is preferable that at least one of the second lens group G2 is an anti-vibration lens group.
また、レンズ面は、球面または平面で形成されても、非球面で形成されても構わない。レンズ面が球面または平面の場合、レンズ加工及び組立調整が容易になり、加工及び組立調整の誤差による光学性能の劣化を妨げるので好ましい。また、光軸方向に像面がずれた場合でも描写性能の劣化が少ないので好ましい。レンズ面が非球面の場合、非球面は、研削加工による非球面、ガラスを型で非球面形状に形成したガラスモ−ルド非球面、ガラスの表面に樹脂を非球面形状に形成した複合型非球面のいずれの非球面でも構わない。また、レンズ面は回折面としても良く、レンズを屈折率分布型レンズ（ＧＲＩＮレンズ）あるいはプラスチックレンズとしても良い。 Further, the lens surface may be formed as a spherical surface, a flat surface, or an aspheric surface. It is preferable that the lens surface is a spherical surface or a flat surface because lens processing and assembly adjustment are facilitated, and deterioration of optical performance due to errors in processing and assembly adjustment is prevented. Further, even when the image plane is shifted in the optical axis direction, it is preferable because there is little deterioration in the drawing performance. When the lens surface is an aspheric surface, the aspheric surface is an aspheric surface by grinding, a glass mold aspheric surface made of glass with an aspheric shape, or a composite aspheric surface made of resin on the glass surface. Any of the aspherical surfaces may be used. The lens surface may be a diffractive surface, and the lens may be a gradient index lens (GRIN lens) or a plastic lens.
また、開口絞りＳは光学系ＯＳの中央近傍に配置されるのが好ましいが、開口絞りとしての部材を設けずに、レンズの枠でその役割を代用しても良い。 The aperture stop S is preferably arranged near the center of the optical system OS. However, the role of the aperture stop may be substituted by a lens frame without providing a member as an aperture stop.
さらに、各レンズ面には、フレアやゴ−ストを軽減し高コントラストの高い光学性能を達成するために、広い波長域で高い透過率を有する反射防止膜を施しても良い。 Further, each lens surface may be provided with an antireflection film having a high transmittance in a wide wavelength range in order to reduce flare and ghost and achieve high optical performance with high contrast.
また、本実施形態では、物体の拡大像が形成される方向を「拡大側」、物体の縮小像が形成される方向を「縮小側」と定義しているが、物体と像の大きさが同じ、すなわち等倍結像の場合であっても、前述の条件式が適用できることは言うまでもない。 In this embodiment, the direction in which the enlarged image of the object is formed is defined as “enlarged side”, and the direction in which the reduced image of the object is formed is defined as “reduced side”. Needless to say, the above-described conditional expression can be applied even in the case of the same magnification, that is, in the case of equal magnification imaging.
以下、本実施形態に係る光学系ＯＳの製造方法の概略を、図９を参照して説明する。この光学系ＯＳの製造方法は、光軸に沿って拡大側から順に、第１レンズ群Ｇ１、及び、正の屈折力を有する第２レンズ群Ｇ２を配置する。そして、第１レンズ群および第２レンズ群における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含んでいる。 Hereinafter, an outline of a method for manufacturing the optical system OS according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In the manufacturing method of the optical system OS, the first lens group G1 and the second lens group G2 having a positive refractive power are arranged in this order from the magnification side along the optical axis. An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group and the second lens group, and the antireflection film includes at least one layer formed using a wet process.
具体的に、本実施形態では、例えば、第１レンズ群Ｇ１として、拡大側から順に、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ２、及び、拡大側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３を配置し（ステップＳ１００）、第２レンズ群Ｇ２として、拡大側から順に、両凹形状の負レンズＬ４と両凸形状の正レンズＬ５とが接合された接合レンズＣＬ、縮小側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ６、及び、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ７を配置する（ステップＳ２００）。このとき、第１レンズ群Ｇ１及び第２レンズ群Ｇ２に含まれる正レンズのうちの少なくとも１枚は、上述の条件式（１）及び条件式（２）を満足する。 Specifically, in the present embodiment, for example, as the first lens group G1, in order from the magnification side, a positive meniscus lens L1 having a convex surface on the magnification side, a positive meniscus lens L2 having a convex surface on the magnification side, and magnification A negative meniscus lens L3 having a convex surface on the side is disposed (step S100), and a biconcave negative lens L4 and a biconvex positive lens L5 are joined in order from the enlargement side as the second lens group G2. A cemented lens CL, a positive meniscus lens L6 having a convex surface on the reduction side, and a positive meniscus lens L7 having a convex surface on the enlargement side are disposed (step S200). At this time, at least one of the positive lenses included in the first lens group G1 and the second lens group G2 satisfies the conditional expressions (1) and (2).
以上説明したように、本実施形態に係る光学系ＯＳによれば、カメラ等の撮像装置、印刷用レンズ、複写用レンズに好適な、小型で、構成枚数が少なく、ゴーストやフレアをより低減させ、高性能で、特にコマ収差、球面収差の少ない光学系ＯＳ、及び、この光学系ＯＳを用いた撮像装置を提供することができる。 As described above, according to the optical system OS according to the present embodiment, it is suitable for an imaging apparatus such as a camera, a printing lens, and a copying lens, and is small in size, has a small number of components, and further reduces ghosts and flares. It is possible to provide an optical system OS having high performance and particularly low coma and spherical aberration, and an image pickup apparatus using the optical system OS.
以下、光学系ＯＳの実施例を、図面に基づいて説明する。なお、図１、図４及び図６は、各実施例に係る光学系ＯＳ（ＯＳ１〜ＯＳ３）の構成を示している。 Hereinafter, embodiments of the optical system OS will be described with reference to the drawings. 1, 4 and 6 show the configuration of the optical system OS (OS1 to OS3) according to each embodiment.
［第１実施例］
図１は、第１実施例に係る光学系ＯＳ１のレンズ構成を示す断面図である。
[First embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a lens configuration of an optical system OS1 according to the first example.
この光学系ＯＳ１は、光軸に沿って拡大側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群Ｇ１と、開口絞りＳと、正の屈折力を有する第２レンズ群Ｇ２と、を有して構成されている。 The optical system OS1 includes, in order from the enlargement side along the optical axis, a first lens group G1 having a positive refractive power, an aperture stop S, and a second lens group G2 having a positive refractive power. Configured.
第１レンズ群Ｇ１は、光軸に沿って拡大側から順に、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１、拡大側に凸面を向け、曲率のより強い正メニスカスレンズＬ２、及び、拡大側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３より構成されている。 The first lens group G1, in order from the magnifying side along the optical axis, is a positive meniscus lens L1 having a convex surface on the magnifying side, a positive meniscus lens L2 having a stronger curvature with a convex surface on the magnifying side, and on the magnifying side. It is composed of a negative meniscus lens L3 having a convex surface.
第２レンズ群Ｇ２は、光軸に沿って拡大側から順に、両凹形状の負レンズＬ４と両凸形状の正レンズＬ５との接合によりなり、縮小側に凸面を向けた接合負レンズＣＬ、縮小側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ６、及び、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ７から構成されている。 The second lens group G2 is formed by cementing a biconcave negative lens L4 and a biconvex positive lens L5 in order from the magnification side along the optical axis, and a cemented negative lens CL with a convex surface facing the reduction side. It is composed of a positive meniscus lens L6 having a convex surface on the reduction side and a positive meniscus lens L7 having a convex surface on the enlargement side.
本第１実施例に係る光学系は、第１レンズ群Ｇ１の負メニスカスレンズＬ３の縮小側レンズ面（面番号６）と、第２レンズ群Ｇ２の両凹形状の負レンズＬ４の拡大側レンズ面（面番号８）に、後述する反射防止膜が形成されている。 The optical system according to the first example includes a reduction-side lens surface (surface number 6) of the negative meniscus lens L3 of the first lens group G1 and an enlargement-side lens of the biconcave negative lens L4 of the second lens group G2. An antireflection film to be described later is formed on the surface (surface number 8).
以下の表１に、本第１実施例に係る光学系ＯＳ１の諸元の値を掲げる。この表１の全体諸元において、ｆは焦点距離、ＦＮＯはＦナンバー、ωは半画角（単位：度）、Ｙは像高、ＴＬは光学系ＯＳ１の全長、Σｄは光学系ＯＳ１の最も拡大側のレンズ面（第１面）から最も縮小側のレンズ面（第１４面）までの光軸上の距離、及び、Ｂｆはバックフォーカスをそれぞれ表している。なお、全長ＴＬは、この光学系ＯＳ１の最も拡大側のレンズ面（第１面）から像面までの光軸上の距離を示し、バックフォーカスＢｆは、この光学系ＯＳ１の最も縮小側のレンズ面（第１４面）から像面までの光軸上の距離を表している。また、レンズデータにおいて、第１欄ｍは、光線の進行する方向に沿った拡大側からの光学面の順序（面番号）を、第２欄ｒは、各光学面の曲率半径を、第３欄ｄは、各光学面から次の光学面までの光軸上の距離（面間隔）を、第４欄νｄ及び第５欄ｎｄは、それぞれｄ線（波長λ＝５８７．６ｎｍ）に対するアッべ数及び屈折率を示している。なお、この表１に示す面番号１〜１４は、図１に示す番号１〜１４に対応している。また、物面及び像面の曲率半径「∞」、曲率半径0.0000は平面を示す。また、空気の屈折率1.00000は省略してある。また、レンズ群焦点距離は、各レンズ群が開始する面番号（始面）および各レンズ群の焦点距離をそれぞれ示している。
Table 1 below lists values of specifications of the optical system OS1 according to the first example. In the overall specifications of Table 1, f is the focal length, FNO is the F number, ω is the half angle of view (unit: degree), Y is the image height, TL is the total length of the optical system OS1, and Σd is the most of the optical system OS1. A distance on the optical axis from the enlargement side lens surface (first surface) to the most reduction side lens surface (14th surface), and Bf represent back focus. The total length TL indicates the distance on the optical axis from the most magnified lens surface (first surface) of the optical system OS1 to the image plane, and the back focus Bf is the most demagnifying lens of the optical system OS1. It represents the distance on the optical axis from the surface (14th surface) to the image surface. In the lens data, the first column m indicates the order (surface number) of the optical surfaces from the magnifying side along the traveling direction of the light beam, the second column r indicates the curvature radius of each optical surface, The column d shows the distance (surface interval) on the optical axis from each optical surface to the next optical surface, and the fourth column νd and the fifth column nd show the Ab for the d-line (wavelength λ = 587.6 nm), respectively. Number and refractive index are shown. The
ここで、以下の全ての諸元値において掲載されている焦点距離ｆ、曲率半径ｒ、面間隔ｄ、その他長さの単位は一般に「ｍｍ」が使われるが、光学系は、比例拡大または比例縮小しても同等の光学性能が得られるので、これに限られるものではない。また、これらの符号の説明及び諸元表の説明は以降の実施例においても同様である。 Here, the focal length f, the radius of curvature r, the surface interval d, and other length units listed in all the following specification values are generally “mm”, but the optical system is proportionally enlarged or proportional. Since the same optical performance can be obtained even if the image is reduced, the present invention is not limited to this. The description of these symbols and the description of the specification table are the same in the following embodiments.
（表１）第１実施例
［全体諸元］
ｆ ＝ 51.6
ＦＮＯ＝ Ｆ1.21
ω ＝ 23.25°
Ｙ ＝ 21.6
ＴＬ ＝ 92.60
Σｄ ＝ 54.30
Ｂｆ ＝ 38.30
［レンズデータ］
ｍ r d νｄ ｎd
（物面） ∞
1 67.8449 5.5000 53.87 1.840160
2 776.2097 0.6000
3 29.9380 6.3000 53.87 1.840160
4 62.7808 2.0000
5 103.2918 1.3000 42.26 1.799520
6 21.1640 9.5000
7 0.0000 9.5000 開口絞りＳ
8 -20.2169 1.3000 28.69 1.795040
9 686.2595 9.0000 50.55 1.854300
10 -31.3427 0.1000
11 -125.2254 5.3000 50.55 1.854300
12 -40.9197 0.1000
13 72.4810 3.8000 50.55 1.854300
14 530.8218 Bf
（像面） ∞
［レンズ群焦点距離］
レンズ群 始面 焦点距離
第１レンズ群 1 205.5192
第２レンズ群 8 40.1807
(Table 1) First Example [Overall Specifications]
f = 51.6
FNO = F1.21
ω = 23.25 °
Y = 21.6
TL = 92.60
Σd = 54.30
Bf = 38.30
[Lens data]
m rd νd nd
(Surface) ∞
1 67.8449 5.5000 53.87 1.840160
2 776.2097 0.6000
3 29.9380 6.3000 53.87 1.840160
4 62.7808 2.0000
5 103.2918 1.3000 42.26 1.799520
6 21.1640 9.5000
7 0.0000 9.5000 Aperture stop S
8 -20.2169 1.3000 28.69 1.795040
9 686.2595 9.0000 50.55 1.854300
10 -31.3427 0.1000
11 -125.2254 5.3000 50.55 1.854300
12 -40.9197 0.1000
13 72.4810 3.8000 50.55 1.854300
14 530.8218 Bf
(Image plane) ∞
[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length
次の表２に、この第１実施例に係る光学系ＯＳ１に対する各条件式対応値を示す。なお、この第１実施例において、上述の条件式（１）及び条件式（２）を満たす正レンズ（特定正レンズ）は、第１レンズ群Ｇ１に含まれる正メニスカスレンズＬ１と、第２レンズ群Ｇ２に含まれる両凸形状の正レンズＬ５及び正メニスカスレンズＬ７である。また、この表２において、ｎｄは特定正レンズの媒質のｄ線に対する屈折率、νｄは特定正レンズの媒質のアッベ数、ｆは特定正レンズの焦点距離、ｆ０は無限遠合焦時の光学系ＯＳ１の全系の焦点距離、ｆ２は第２レンズ群Ｇ２の焦点距離をそれぞれ表している。これらの符号の説明は以降の実施例においても同様である。 Table 2 below shows values corresponding to the conditional expressions for the optical system OS1 according to the first example. In the first embodiment, the positive lens (specific positive lens) satisfying the conditional expressions (1) and (2) is the positive meniscus lens L1 included in the first lens group G1, and the second lens. A biconvex positive lens L5 and a positive meniscus lens L7 included in the group G2. In Table 2, nd is the refractive index of the medium of the specific positive lens with respect to the d-line, νd is the Abbe number of the medium of the specific positive lens, f is the focal length of the specific positive lens, and f0 is the optical at the time of focusing on infinity. The focal length of the entire system OS1, f2 represents the focal length of the second lens group G2. The description of these symbols is the same in the following embodiments.
（表２）
（１）ｎｄ
Ｌ１のｎｄ＝1.84016
Ｌ５のｎｄ＝1.85430
Ｌ７のｎｄ＝1.85430
（２）νｄ
Ｌ１のνｄ＝53.87
Ｌ５のνｄ＝50.55
Ｌ７のνｄ＝50.55
（３）ｆ／ｆ０
Ｌ１のｆ／ｆ０＝1.7088
Ｌ５のｆ／ｆ０＝0.6839
Ｌ７のｆ／ｆ０＝1.8970
（４）ｆ２／ｆ０＝0.7787
(Table 2)
(1) nd
Nd of L1 = 1.84016
Nd of L5 = 1.85430
L7 nd = 1.85430
(2) νd
Νd of L1 = 53.87
Νd of L5 = 50.55
Νd of L7 = 50.55
(3) f / f0
F / f0 of L1 = 1.7088
F / f0 of L5 = 0.6839
F / f0 of L7 = 1.8970
(4) f2 / f0 = 0.7787
このように、第１実施例に係る光学系ＯＳ１は、上記条件式（１）〜（４）を全て満足している。 Thus, the optical system OS1 according to the first example satisfies all the conditional expressions (1) to (4).
図２に、この第１実施例に係る光学系ＯＳ１の無限遠合焦状態における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。各収差図において、ＦＮＯはＦナンバーを、Ｙは像高を、ωは半画角［単位：度］を、それぞれ示している。また、各収差図において、ｄはｄ線（波長λ＝５８７．６ｎｍ）、及び、ｇはｇ線（波長λ＝４３５．８ｎｍ）に対する収差を表している。また、非点収差図において、実線はサジタル像面を示し、破線はメリジオナル像面を示している。また、コマ収差図は、各半画角ωにおいて、実線はｄ線及びｇ線に対するメリジオナルコマ収差を表し、原点より左側の破線はｄ線に対してメリジオナル方向に発生するサジタルコマ収差、原点より右側の破線はｄ線に対してサジタル方向に発生するサジタルコマ収差を表している。なお、この収差図の説明は以降の実施例においても同様である。この図２に示す各収差図から明らかなように、この第１実施例に係る光学系ＯＳ１では、球面収差、像面湾曲、非点収差、コマ収差を含め諸収差が良好に補正されており、高い光学性能を有していることが分かる。 FIG. 2 shows various aberration diagrams of spherical aberration, astigmatism, distortion aberration, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinitely focused state of the optical system OS1 according to the first example. In each aberration diagram, FNO represents an F number, Y represents an image height, and ω represents a half angle of view [unit: degree]. In each aberration diagram, d represents the aberration with respect to the d-line (wavelength λ = 587.6 nm), and g represents the aberration with respect to the g-line (wavelength λ = 435.8 nm). In the astigmatism diagram, the solid line indicates the sagittal image plane, and the broken line indicates the meridional image plane. In the coma aberration diagram, at each half angle of view ω, the solid line represents the meridional coma aberration with respect to the d-line and the g-line, and the broken line on the left side from the origin represents the sagittal coma aberration generated in the meridional direction with respect to the d-line. The broken line represents the sagittal coma generated in the sagittal direction with respect to the d line. The description of this aberration diagram is the same in the following examples. As apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 2, in the optical system OS1 according to the first example, various aberrations including spherical aberration, curvature of field, astigmatism, and coma are corrected well. It can be seen that the optical performance is high.
図３において、拡大側からの光線ＢＭが図示のように光学系に入射すると、両凹形状の負レンズＬ４における拡大側のレンズ面（第１番目の反射光発生面でありその面番号は８）で反射し、その反射光は負メニスカスレンズＬ３における縮小側のレンズ面（第２番目の反射光発生面でありその面番号は６）で再度反射して像面Ｉに到達し、ゴーストやフレアを発生させてしまう。なお、第１番目の反射光発生面８は、開口絞りから見て凹形状のレンズ面、第２番目の反射光発生面６は開口絞りから見て凹形状のレンズ面である。このような面に、より広い波長範囲で広入射角に対応した反射防止膜を形成することで、ゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。
In FIG. 3, when a light beam BM from the enlargement side enters the optical system as shown, the enlargement side lens surface (the first reflected light generation surface, whose surface number is 8) in the biconcave negative lens L4. ), And the reflected light is reflected again by the reduction-side lens surface of the negative meniscus lens L3 (the second reflected light generation surface, whose surface number is 6) to reach the image surface I, and the ghost or Flares will be generated. The first reflected
［第２実施例］
図４は、第２実施例に係る光学系ＯＳ２のレンズ構成を示す断面図である。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the lens configuration of the optical system OS2 according to the second example.
この光学系ＯＳ２は、光軸に沿って拡大側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群Ｇ１と、開口絞りＳと、正の屈折力を有する第２レンズ群Ｇ２と、を有して構成されている。 The optical system OS2 includes, in order from the magnification side along the optical axis, a first lens group G1 having a positive refractive power, an aperture stop S, and a second lens group G2 having a positive refractive power. Configured.
第１レンズ群Ｇ１は、光軸に沿って拡大側から順に、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１、拡大側に凸面を向け、曲率のより強い正メニスカスレンズＬ２、及び、拡大側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３より構成されている。 The first lens group G1, in order from the magnifying side along the optical axis, is a positive meniscus lens L1 having a convex surface on the magnifying side, a positive meniscus lens L2 having a stronger curvature with a convex surface on the magnifying side, and on the magnifying side. It is composed of a negative meniscus lens L3 having a convex surface.
第２レンズ群Ｇ２は、光軸に沿って拡大側から順に、両凹形状の負レンズＬ４と両凸形状の正レンズＬ５との接合によりなり、縮小側に凸面を向けた接合負レンズＣＬ、縮小側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ６、及び、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ７より構成されている。 The second lens group G2 is formed by cementing a biconcave negative lens L4 and a biconvex positive lens L5 in order from the magnification side along the optical axis, and a cemented negative lens CL with a convex surface facing the reduction side. It is composed of a positive meniscus lens L6 having a convex surface facing the reduction side and a positive meniscus lens L7 having a convex surface facing the enlargement side.
本第２実施例に係る光学系は、第１レンズ群Ｇ１の正メニスカスレンズＬ２の縮小側レンズ面（面番号４）と、第１レンズ群Ｇ１の負メニスカスレンズＬ３の拡大側レンズ面（面番号５）に、後述する反射防止膜が形成されている。 The optical system according to the second example includes a reduction side lens surface (surface number 4) of the positive meniscus lens L2 of the first lens group G1 and an enlargement side lens surface (surface) of the negative meniscus lens L3 of the first lens group G1. In No. 5), an antireflection film described later is formed.
以下の表３に、本第２実施例に係る光学系ＯＳ２の諸元の値を掲げる。なお、この表３に示す面番号１〜１４は、図４に示す番号１〜１４に対応している。
Table 3 below lists values of specifications of the optical system OS2 according to the second example. The
（表３）第２実施例
［全体諸元］
ｆ ＝ 51.6
ＦＮＯ＝ Ｆ1.21
ω ＝ 23.27°
Ｙ ＝ 21.6
ＴＬ ＝ 94.2965
Σｄ ＝ 56.0000
Ｂｆ ＝ 38.2965
［レンズデータ］
ｍ r d νｄ ｎd
（物面） ∞
1 55.1887 6.5000 53.87 1.840160
2 351.5830 0.6000
3 29.5385 6.0000 53.87 1.840160
4 54.1748 1.6000
5 85.0733 1.3000 42.26 1.799520
6 20.0545 9.0000
7 0.0000 10.0000 開口絞りＳ
8 -19.5111 1.3000 28.69 1.795040
9 617.0843 9.0000 50.55 1.854300
10 -31.0463 0.1000
11 -122.3433 6.0000 50.55 1.854300
12 -39.8141 0.1000
13 80.7453 4.5000 50.55 1.854300
14 6742.3794 Bf
（像面） ∞
［レンズ群焦点距離］
レンズ群 始面 焦点距離
第１レンズ群 1 210.04648
第２レンズ群 8 39.52651
(Table 3) Second Example [Overall Specifications]
f = 51.6
FNO = F1.21
ω = 23.27 °
Y = 21.6
TL = 94.2965
Σd = 56.0000
Bf = 38.2965
[Lens data]
m rd νd nd
(Surface) ∞
1 55.1887 6.5000 53.87 1.840160
2 351.5830 0.6000
3 29.5385 6.0000 53.87 1.840160
4 54.1748 1.6000
5 85.0733 1.3000 42.26 1.799520
6 20.0545 9.0000
7 0.0000 10.0000 Aperture stop S
8 -19.5111 1.3000 28.69 1.795040
9 617.0843 9.0000 50.55 1.854300
10 -31.0463 0.1000
11 -122.3433 6.0000 50.55 1.854300
12 -39.8141 0.1000
13 80.7453 4.5000 50.55 1.854300
14 6742.3794 Bf
(Image plane) ∞
[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length
次の表４に、この第２実施例に係る光学系ＯＳ２に対する各条件式対応値を示す。なお、この第２実施例において、上述の条件式（１）及び条件式（２）を満たす正レンズ（特定正レンズ）は、第１レンズ群Ｇ１に含まれる正メニスカスレンズＬ１と、第２レンズ群Ｇ２に含まれる両凸形状の正レンズＬ５及び正メニスカスレンズＬ７である。 Table 4 below shows values corresponding to the conditional expressions for the optical system OS2 according to the second example. In the second embodiment, the positive lens (specific positive lens) that satisfies the conditional expressions (1) and (2) is the positive meniscus lens L1 included in the first lens group G1, and the second lens. A biconvex positive lens L5 and a positive meniscus lens L7 included in the group G2.
（表４）
（１）ｎｄ
Ｌ１のｎｄ＝1.84016
Ｌ５のｎｄ＝1.85430
Ｌ７のｎｄ＝1.85430
（２）νｄ
Ｌ１のνｄ＝53.87
Ｌ５のνｄ＝50.55
Ｌ７のνｄ＝50.55
（３）ｆ／ｆ０
Ｌ１のｆ／ｆ０＝1.4951
Ｌ５のｆ／ｆ０＝0.6749
Ｌ７のｆ／ｆ０＝1.8533
（４）ｆ２／ｆ０＝0.7660
(Table 4)
(1) nd
Nd of L1 = 1.84016
Nd of L5 = 1.85430
L7 nd = 1.85430
(2) νd
Νd of L1 = 53.87
Νd of L5 = 50.55
Νd of L7 = 50.55
(3) f / f0
F / f0 of L1 = 1.4951
F / f0 of L5 = 0.6749
F / f0 of L7 = 1.8533
(4) f2 / f0 = 0.7660
このように、第２実施例に係る光学系ＯＳ２は、上記条件式（１）〜（４）を全て満足している。 Thus, the optical system OS2 according to the second example satisfies all the conditional expressions (1) to (4).
図５に、この第２実施例に係る光学系ＯＳ２の無限遠合焦状態における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。この図５に示す各収差図から明らかなように、この第２実施例に係る光学系ＯＳ２では、球面収差、像面湾曲、非点収差、コマ収差を含め諸収差が良好に補正されており、高い光学性能を有していることが分かる。 FIG. 5 shows various aberration diagrams of spherical aberration, astigmatism, distortion aberration, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinitely focused state of the optical system OS2 according to the second example. As apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 5, in the optical system OS2 according to the second example, various aberrations including spherical aberration, curvature of field, astigmatism, and coma are corrected well. It can be seen that the optical performance is high.
［第３実施例］
図６は、第３実施例に係る光学系ＯＳ３のレンズ構成を示す断面図である。
[Third embodiment]
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the lens configuration of the optical system OS3 according to the third example.
この光学系ＯＳ３は、光軸に沿って拡大側から順に、正の屈折力を有する第１レンズ群Ｇ１と、開口絞りＳと、正の屈折力を有する第２レンズ群Ｇ２と、を有して構成されている。 The optical system OS3 includes, in order from the magnification side along the optical axis, a first lens group G1 having a positive refractive power, an aperture stop S, and a second lens group G2 having a positive refractive power. Configured.
第１レンズ群Ｇ１は、光軸に沿って拡大側から順に、拡大側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１、拡大側に凸面を向け、曲率のより強い正メニスカスレンズＬ２、及び、拡大側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３より構成されている。 The first lens group G1, in order from the magnifying side along the optical axis, is a positive meniscus lens L1 having a convex surface on the magnifying side, a positive meniscus lens L2 having a stronger curvature with a convex surface on the magnifying side, and on the magnifying side. It is composed of a negative meniscus lens L3 having a convex surface.
第２レンズ群Ｇ２は、光軸に沿って拡大側から順に、両凹形状の負レンズＬ４と両凸形状の正レンズＬ５との接合によりなり、縮小側に凸面を向けた接合負レンズＣＬ、縮小側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ６、及び、両凸形状の正レンズＬ７より構成されている。 The second lens group G2 is formed by cementing a biconcave negative lens L4 and a biconvex positive lens L5 in order from the magnification side along the optical axis, and a cemented negative lens CL with a convex surface facing the reduction side. It is composed of a positive meniscus lens L6 having a convex surface facing the reduction side and a biconvex positive lens L7.
本第３実施例に係る光学系は、第２レンズ群Ｇ２の両凹形状の負レンズＬ４の拡大側レンズ面（面番号８）と、第２レンズ群Ｇ２の両凸形状の正レンズＬ５の縮小側レンズ面（面番号１０）に、後述する反射防止膜が形成されている。 The optical system according to the third example includes the enlargement side lens surface (surface number 8) of the biconcave negative lens L4 of the second lens group G2 and the biconvex positive lens L5 of the second lens group G2. An antireflection film, which will be described later, is formed on the reduction side lens surface (surface number 10).
以下の表５に、本第３実施例に係る光学系ＯＳ３の諸元の値を掲げる。なお、この表５に示す面番号１〜１４は、図６に示す番号１〜１４に対応している。
Table 5 below lists values of specifications of the optical system OS3 according to the third example. The
（表５）第３実施例
［全体諸元］
ｆ ＝ 60.90
ＦＮＯ＝ Ｆ1.21
ω ＝ 19.81°
Ｙ ＝ 21.6
ＴＬ ＝ 92.0997
Σｄ ＝ 53.8000
Ｂｆ ＝ 38.2997
［レンズデータ］
ｍ r d νｄ ｎd
（物面） ∞
1 51.8779 7.0000 53.87 1.840160
2 268.4277 0.6000
3 31.6257 7.0000 53.87 1.840160
4 50.4632 2.2000
5 85.9824 1.3000 31.59 1.756920
6 22.0110 9.0000
7 0.0000 8.0000 開口絞りＳ
8 -24.6101 1.3000 33.27 1.806100
9 198.5789 7.7000 50.55 1.854300
10 -37.0077 0.1000
11 -50.0306 4.5000 50.55 1.854300
12 -36.6923 0.1000
13 79.4705 5.0000 50.55 1.854300
14 -275.4600 Bf
（像面） ∞
［レンズ群焦点距離］
レンズ群 始面 焦点距離
第１レンズ群 1 143.29418
第２レンズ群 8 50.88052
(Table 5) Third Example [Overall Specifications]
f = 60.90
FNO = F1.21
ω = 19.81 °
Y = 21.6
TL = 92.0997
Σd = 53.8000
Bf = 38.2997
[Lens data]
m rd νd nd
(Surface) ∞
1 51.8779 7.0000 53.87 1.840160
2 268.4277 0.6000
3 31.6257 7.0000 53.87 1.840160
4 50.4632 2.2000
5 85.9824 1.3000 31.59 1.756920
6 22.0110 9.0000
7 0.0000 8.0000 Aperture stop S
8 -24.6101 1.3000 33.27 1.806100
9 198.5789 7.7000 50.55 1.854300
10 -37.0077 0.1000
11 -50.0306 4.5000 50.55 1.854300
12 -36.6923 0.1000
13 79.4705 5.0000 50.55 1.854300
14 -275.4600 Bf
(Image plane) ∞
[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length
次の表６に、この第３実施例に係る光学系ＯＳ３に対する各条件式対応値を示す。なお、この第３実施例において、上述の条件式（１）及び条件式（２）を満たす正レンズ（特定正レンズ）は、第１レンズ群Ｇ１に含まれる正メニスカスレンズＬ１と、第２レンズ群Ｇ２に含まれる両凸形状の正レンズＬ５及び正メニスカスレンズＬ６である。 Table 6 below shows values corresponding to the conditional expressions for the optical system OS3 according to the third example. In the third embodiment, the positive lens (specific positive lens) satisfying the conditional expressions (1) and (2) is the positive meniscus lens L1 included in the first lens group G1, and the second lens. These are a biconvex positive lens L5 and a positive meniscus lens L6 included in the group G2.
（表６）
（１）ｎｄ
Ｌ１のｎｄ＝1.84016
Ｌ５のｎｄ＝1.85430
Ｌ６のｎｄ＝1.85430
（２）νｄ
Ｌ１のνｄ＝53.87
Ｌ５のνｄ＝50.55
Ｌ６のνｄ＝50.55
（３）ｆ／ｆ０
Ｌ１のｆ／ｆ０＝1.2385
Ｌ５のｆ／ｆ０＝0.6087
Ｌ６のｆ／ｆ０＝2.2895
（４）ｆ２／ｆ０＝0.8355
(Table 6)
(1) nd
Nd of L1 = 1.84016
Nd of L5 = 1.85430
Nd of L6 = 1.85430
(2) νd
Νd of L1 = 53.87
Νd of L5 = 50.55
Νd of L6 = 50.55
(3) f / f0
F / f0 of L1 = 1.2385
F / f0 of L5 = 0.6087
F / f0 of L6 = 2.2895
(4) f2 / f0 = 0.8355
このように、第３実施例に係る光学系ＯＳ３は、上記条件式（１）〜（４）を全て満足している。 Thus, the optical system OS3 according to the third example satisfies all the conditional expressions (1) to (4).
図７に、この第３実施例に係る光学系ＯＳ３の無限遠合焦状態における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。この図７に示す各収差図から明らかなように、この第３実施例に係る光学系ＯＳ３では、球面収差、像面湾曲、非点収差、コマ収差を含め諸収差が良好に補正されており、高い光学性能を有していることが分かる。 FIG. 7 shows various aberration diagrams of spherical aberration, astigmatism, distortion aberration, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinitely focused state of the optical system OS3 according to the third example. As is apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 7, in the optical system OS3 according to the third example, various aberrations including spherical aberration, field curvature, astigmatism, and coma are corrected well. It can be seen that the optical performance is high.
ここで、本願の光学系に用いられる反射防止膜（多層広帯域反射防止膜とも言う）について説明する。図１０は、反射防止膜の膜構成の一例を示す図である。この反射防止膜１０１は７層からなり、レンズ等の光学部材１０２の光学面に形成される。第１層１０１ａは真空蒸着法で蒸着された酸化アルミニウムで形成されている。また、この第１層１０１ａの上に更に真空蒸着法で蒸着された酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物からなる第２層１０１ｂが形成される。さらに、この第２層１０１ｂの上に真空蒸着法で蒸着された酸化アルミニウムからなる第３層１０１ｃが形成され、この第３層１０１ｃの上に真空蒸着法で蒸着された酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物からなる第４層１０１ｄが形成される。またさらに、この第４層１０１ｄの上に真空蒸着法で蒸着された酸化アルミニウムからなる第５層１０１ｅが形成され、この第５層１０１ｅの上に真空蒸着法で蒸着された酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物からなる第６層１０１ｆが形成される。
Here, an antireflection film (also referred to as a multilayer broadband antireflection film) used in the optical system of the present application will be described. FIG. 10 is a diagram illustrating an example of the film configuration of the antireflection film. The
そして、このようにして形成された第６層１０１ｆの上に、ウェットプロセスによりフッ化マグネシウムとシリカの混合物からなる第７層１０１ｇが形成されて本実施形態の反射防止膜１０１が形成される。第７層１０１ｇの形成には、ウェットプロセスの一種であるゾル−ゲル法を用いている。ゾル−ゲル法とは、原料を混合することにより得られたゾルを、加水分解・重縮合反応などにより流動性のないゲルとし、このゲルを加熱・分解して生成物を得る方法であり、光学薄膜の作製においては、光学部材の光学面上に光学薄膜材料ゾルを塗布し、乾燥固化によりゲル膜とすることで膜を生成することができる。なお、ウェットプロセスとして、ゾル−ゲル法に限らず、ゲル状態を経ないで固体膜を得る方法を用いるようにしてもよい。
Then, a seventh layer 101g made of a mixture of magnesium fluoride and silica is formed on the
このように、この反射防止膜１０１の第１層１０１ａ〜第６層１０１ｆまではドライプロセスである電子ビーム蒸着により形成され、最上層である第７層１０１ｇは、フッ酸／酢酸マグネシウム法で調製したゾル液を用いるウェットプロセスにより以下の手順で形成されている。まず、予めレンズ成膜面（上述の光学部材１０２の光学面）に真空蒸着装置を用いて第１層１０１ａとなる酸化アルミニウム層、第２層１０１ｂとなる酸化チタン−酸化ジルコニウム混合層、第３層１０１ｃとなる酸化アルミニウム層、第４層１０１ｄとなる酸化チタン−酸化ジルコニウム混合層、第５層１０１ｅとなる酸化アルミニウム層、第６層１０１ｆとなる酸化チタン−酸化ジルコニウム混合層を順に形成する。そして、蒸着装置より光学部材１０２を取り出した後、フッ酸／酢酸マグネシウム法により調製したゾル液にシリコンアルコキシドを加えたものをスピンコート法により塗布することにより、第７層１０１ｇとなるフッ化マグネシウムとシリカの混合物からなる層を形成する。フッ酸／酢酸マグネシウム法によって調製される際の反応式を以下の式（ａ）に示す。
Thus, the
（ａ） ２ＨＦ＋Ｍｇ（ＣＨ3ＣＯＯ）2→ＭｇＦ2＋２ＣＨ3ＣＯＯＨ (A) 2HF + Mg (CH3COO) 2 → MgF2 + 2 + CH3COOH
この成膜に用いたゾル液は、原料混合後、オートクレーブで１４０℃、２４時間高温加圧熟成処理を施した後、成膜に用いられる。この光学部材１０２は、第７層１０１ｇの成膜終了後、大気中で１６０℃、１時間加熱処理して完成される。このようなゾル−ゲル法を用いることにより、大きさが数ｎｍから数十ｎｍの粒子が空隙を残して堆積することにより第７層１０１ｇが形成される。
The sol solution used for the film formation is used for film formation after mixing raw materials and subjecting to an autoclave at 140 ° C. for 24 hours at a high temperature and pressure. The
このようにして形成された反射防止膜１０１を有する光学部材の光学的性能について図１１に示す分光特性を用いて説明する。
The optical performance of the optical member having the
本実施形態に係る反射防止膜を有する光学部材（レンズ）は、以下の表７に示す条件で形成されている。ここで表７は、基準波長をλとし、基板（光学部材）の屈折率が１．６２、１．７４及び１．８５について反射防止膜１０１の各層１０１ａ（第１層）〜１０１ｇ（第７層）の光学膜厚をそれぞれ求めたものである。なお、表７では、酸化アルミニウムをAl2O3、酸化チタンと酸化ジルコニウム混合物をZrO2＋TiO2、フッ化マグネシウムとシリカの混合物をMgF2＋SiO2とそれぞれ表している。
The optical member (lens) having the antireflection film according to this embodiment is formed under the conditions shown in Table 7 below. Here, Table 7 shows that the reference wavelength is λ, and the
（表７）
物質 屈折率 光学膜厚 光学膜厚 光学膜厚
媒質 空気 1
第７層 MgF2＋SiO2 1.26 0.268λ 0.271λ 0.269λ
第６層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.057λ 0.054λ 0.059λ
第５層 Al2O3 1.65 0.171λ 0.178λ 0.162λ
第４層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.127λ 0.13λ 0.158λ
第３層 Al2O3 1.65 0.122λ 0.107λ 0.08λ
第２層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.059λ 0.075λ 0.105λ
第１層 Al2O3 1.65 0.257λ 0.03λ 0.03λ
基板の屈折率 1.62 1.74 1.85
(Table 7)
Substance Refractive index Optical film thickness Optical film thickness Optical film thickness
7th layer MgF2 + SiO2 1.26 0.268λ 0.271λ 0.269λ
6th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.057λ 0.054λ 0.059λ
5th layer Al2O3 1.65 0.171λ 0.178λ 0.162λ
4th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.127λ 0.13λ 0.158λ
3rd layer Al2O3 1.65 0.122λ 0.107λ 0.08λ
Second layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.059λ 0.075λ 0.105λ
1st layer Al2O3 1.65 0.257λ 0.03λ 0.03λ
Refractive index of substrate 1.62 1.74 1.85
図１１は、表７において基準波長λを５５０ｎｍとして反射防止膜１０１の各層の光学膜厚を設計した光学部材に光線が垂直入射する時の分光特性を表している。
FIG. 11 shows the spectral characteristics when light rays are perpendicularly incident on an optical member in which the reference wavelength λ is 550 nm in Table 7 and the optical film thickness of each layer of the
図１１から、基準波長λを５５０ｎｍで設計した反射防止膜１０１を有する光学部材は、光線の波長が４２０ｎｍ〜７２０ｎｍの全域で反射率を０．２％以下に抑えられることが判る。また、表７において基準波長λをｄ線（波長５８７．６ｎｍ）として各光学膜厚を設計した反射防止膜１０１を有する光学部材でも、その分光特性にはほとんど影響せず、図１１に示す基準波長λが５５０ｎｍの場合とほぼ同等の分光特性を有する。
From FIG. 11, it can be seen that the optical member having the
次に、本反射防止膜の変形例について説明する。この反射防止膜は５層からなり、表７と同様、以下の表８で示される条件で基準波長λに対する各層の光学膜厚が設計される。本変形例では、第５層の形成に前述のゾル−ゲル法を用いている。 Next, a modified example of the antireflection film will be described. This antireflection film consists of five layers, and similarly to Table 7, the optical film thickness of each layer with respect to the reference wavelength λ is designed under the conditions shown in Table 8 below. In this modification, the above-described sol-gel method is used for forming the fifth layer.
（表８）
物質 屈折率 光学膜厚 光学膜厚
媒質 空気 1
第５層 MgF2＋SiO2 1.26 0.275λ 0.269λ
第４層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.045λ 0.043λ
第３層 Al2O3 1.65 0.212λ 0.217λ
第２層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.077λ 0.066λ
第１層 Al2O3 1.65 0.288λ 0.290λ
基板の屈折率 1.46 1.52
(Table 8)
Material Refractive index Optical film thickness Optical film
5th layer MgF2 + SiO2 1.26 0.275λ 0.269λ
4th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.045λ 0.043λ
3rd layer Al2O3 1.65 0.212λ 0.217λ
Second layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.077λ 0.066λ
1st layer Al2O3 1.65 0.288λ 0.290λ
Refractive index of substrate 1.46 1.52
図１２は、表８において、基板の屈折率が１．５２及び基準波長λを５５０ｎｍとして各光学膜厚を設計した反射防止膜を有する光学部材に光線が垂直入射する時の分光特性を示している。図１２から本変形例の反射防止膜は、光線の波長が４２０ｎｍ〜７２０ｎｍの全域で反射率が０．２％以下に抑えられることがわかる。なお、表８において基準波長λをｄ線（波長５８７．６ｎｍ）として各光学膜厚を設計した反射防止膜を有する光学部材でも、その分光特性にはほとんど影響せず、図１２に示す分光特性とほぼ同等の特性を有する。 FIG. 12 shows the spectral characteristics in Table 8 when light rays are perpendicularly incident on an optical member having an antireflection film with a refractive index of the substrate of 1.52 and a reference wavelength λ of 550 nm and each optical film thickness designed. Yes. From FIG. 12, it can be seen that the antireflection film of this modification has a reflectance of 0.2% or less over the entire wavelength range of 420 nm to 720 nm. In Table 8, even an optical member having an antireflection film whose optical film thickness is designed with the reference wavelength λ as the d-line (wavelength 587.6 nm) hardly affects the spectral characteristics, and the spectral characteristics shown in FIG. Has almost the same characteristics.
図１３は、図１２に示す分光特性を有する光学部材への光線の入射角が３０度、４５度、６０度の場合の分光特性をそれぞれ示す。なお、図１２、図１３には表８に示す基板の屈折率が１．４６の反射防止膜を有する光学部材の分光特性が図示されていないが、基板の屈折率が１．５２とほぼ同等の分光特性を有していることは言うまでもない。 FIG. 13 shows the spectral characteristics in the case where the incident angle of the light beam to the optical member having the spectral characteristics shown in FIG. 12 is 30 degrees, 45 degrees, and 60 degrees. 12 and 13 do not show the spectral characteristics of the optical member having the antireflection film whose refractive index of the substrate shown in Table 8 is 1.46, but the refractive index of the substrate is almost equal to 1.52. Needless to say, it has the following spectral characteristics.
また比較のため、図１４に、従来の真空蒸着法などのドライプロセスのみで成膜した反射防止膜の一例を示す。図１４は、表８と同じ基板の屈折率１．５２に以下の表９で示される条件で構成される反射防止膜を設計した光学部材に光線が垂直入射する時の分光特性を示す。また、図１５は、図１４に示す分光特性を有する光学部材への光線の入射角が３０度、４５度、６０度の場合の分光特性をそれぞれ示す。 For comparison, FIG. 14 shows an example of an antireflection film formed only by a dry process such as a conventional vacuum deposition method. FIG. 14 shows the spectral characteristics when a light beam is perpendicularly incident on an optical member designed with an antireflection film configured under the conditions shown in Table 9 below at a refractive index of 1.52 of the same substrate as in Table 8. FIG. 15 shows the spectral characteristics when the incident angles of the light rays to the optical member having the spectral characteristics shown in FIG. 14 are 30, 45, and 60 degrees, respectively.
（表９）
物質 屈折率 光学膜厚
媒質 空気 1
第７層 MgF2 1.39 0.243λ
第６層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.119λ
第５層 Al2O3 1.65 0.057λ
第４層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.220λ
第３層 Al2O3 1.65 0.064λ
第２層 ZrO2＋TiO2 2.12 0.057λ
第１層 Al2O3 1.65 0.193λ
基板の屈折率 1.52
(Table 9)
Material Refractive index Optical film
7th layer MgF2 1.39 0.243λ
6th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.119λ
5th layer Al2O3 1.65 0.057λ
4th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.220λ
3rd layer Al2O3 1.65 0.064λ
Second layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.057λ
1st layer Al2O3 1.65 0.193λ
Refractive index of substrate 1.52
図１１〜図１３で示される本実施形態に係る反射防止膜を有する光学部材の分光特性を、図１４および図１５で示される従来例の分光特性と比較すると、本反射防止膜はいずれの入射角においてもより低い反射率を有し、しかもより広い帯域を有することが良くわかる。 When comparing the spectral characteristics of the optical member having the antireflection film according to this embodiment shown in FIGS. 11 to 13 with the spectral characteristics of the conventional example shown in FIGS. It can be seen that the corner also has a lower reflectivity and a wider band.
次に、本願の第１実施例から第３実施例に、上記表７および表８に示す反射防止膜を適用した例について説明する。 Next, examples in which the antireflection films shown in Tables 7 and 8 are applied to the first to third examples of the present application will be described.
本第１実施例の光学系において、
第１レンズ群Ｇ１の負メニスカスレンズＬ３の屈折率は、表１に示すように、ｎｄ＝１．７９９５２０であり、
第２レンズ群Ｇ２の両凹形状の負レンズＬ４の屈折率は、ｎｄ＝１．７９５０４０であるため、
負メニスカスレンズＬ３における縮小側のレンズ面に基板の屈折率が１．８５に対応する反射防止膜１０１（表７参照）を用い、
両凹形状の負レンズＬ４の拡大側のレンズ面に、基板の屈折率が１．８５に対応する反射防止膜（表７参照）を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。
In the optical system of the first embodiment,
The refractive index of the negative meniscus lens L3 of the first lens group G1 is nd = 1.79520 as shown in Table 1.
The refractive index of the biconcave negative lens L4 of the second lens group G2 is nd = 1.7995040.
An antireflection film 101 (see Table 7) having a refractive index of the substrate corresponding to 1.85 is used on the reduction-side lens surface of the negative meniscus lens L3.
By using an antireflection film (see Table 7) with a refractive index of the substrate of 1.85 on the lens surface on the enlargement side of the biconcave negative lens L4, the reflected light from each lens surface can be reduced, and the ghost And flare can be reduced.
本第２実施例の光学系において、
第１レンズ群Ｇ１の正メニスカスレンズＬ２の屈折率は、表３に示すように、ｎｄ＝１．８４０１６０であり、
第１レンズ群Ｇ１の負メニスカスレンズＬ３の屈折率は、ｎｄ＝１．７９９５２０であるため、
正メニスカスレンズＬ２における縮小側のレンズ面に基板の屈折率が１．８５に対応する反射防止膜１０１（表７参照）を用い、
負メニスカスレンズＬ３の拡大側のレンズ面に、基板の屈折率が１．８５に対応する反射防止膜（表７参照）を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。
In the optical system of the second embodiment,
As shown in Table 3, the refractive index of the positive meniscus lens L2 of the first lens group G1 is nd = 1.840160,
Since the refractive index of the negative meniscus lens L3 of the first lens group G1 is nd = 1.79520,
An antireflection film 101 (see Table 7) corresponding to a refractive index of the substrate of 1.85 is used on the lens surface on the reduction side of the positive meniscus lens L2,
By using an antireflection film (see Table 7) with a refractive index of the substrate corresponding to 1.85 on the lens surface on the enlargement side of the negative meniscus lens L3, reflected light from each lens surface can be reduced, and ghost and flare can be reduced. Can be reduced.
本第３実施例の光学系において、
第２レンズ群Ｇ２の両凹形状の負レンズＬ４の屈折率は、表５に示すように、ｎｄ＝１．８０６１００であり、
第２レンズ群Ｇ２の両凸形状の正レンズＬ５の屈折率は、ｎｄ＝１．８５４３００であるため、
両凹形状の負レンズＬ４における拡大側のレンズ面に基板の屈折率が１．８５に対応する反射防止膜１０１（表７参照）を用い、
両凸形状の正レンズＬ５の縮小側のレンズ面に、基板の屈折率が１．８５に対応する反射防止膜（表７参照）を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。
In the optical system of the third embodiment,
As shown in Table 5, the refractive index of the biconcave negative lens L4 of the second lens group G2 is nd = 1.806100,
Since the refractive index of the biconvex positive lens L5 of the second lens group G2 is nd = 1.854300,
An antireflection film 101 (see Table 7) corresponding to a refractive index of the substrate of 1.85 is used on the enlargement side lens surface of the biconcave negative lens L4.
By using an antireflection film (see Table 7) corresponding to the refractive index of the substrate of 1.85 on the reduction-side lens surface of the biconvex positive lens L5, the reflected light from each lens surface can be reduced, and the ghost And flare can be reduced.
以上の各実施例によれば、２ω＝３９．６２〜４６．５°程度の包括角を有し、さらに大口径Ｆ１．２の口径を有し、ゴーストやフレアをより低減させ、比較的小型で高性能で球面収差、像面湾曲、コマ収差が良好に補正された光学系ＯＳが実現できる。 According to each of the above embodiments, it has a comprehensive angle of about 2ω = 39.62 to 46.5 °, further has a large diameter F1.2, further reduces ghost and flare, and is relatively small. Thus, an optical system OS in which spherical aberration, curvature of field, and coma aberration are satisfactorily corrected can be realized.
なお、以上の各実施例に示す光学系ＯＳ１〜ＯＳ３を、上述したカメラ１に搭載することにより、上述した効果を奏することは言うまでもない。また、上記各実施例は本発明の一具体例を示しているものであり、本発明はこれらに限定されるものではない。
Needless to say, the above-described effects can be obtained by mounting the optical systems OS <b> 1 to OS <b> 3 shown in the above embodiments in the above-described
ＯＳ（ＯＳ１〜ＯＳ３） 光学系
Ｇ１ 第１レンズ群
Ｌ１ 第１レンズ群内正レンズ
Ｌ２ 第１レンズ群内正レンズ
Ｌ３ 第１レンズ群内負レンズ
Ｇ２ 第２レンズ群
Ｌ４ 第２レンズ群内負レンズ
Ｌ５ 第２レンズ群内正レンズ
Ｌ６ 第２レンズ群内正レンズ
Ｌ７ 第２レンズ群内正レンズ
ＣＬ 第２レンズ群内接合レンズ
Ｓ 開口絞り
Ｉ 像面
１ 一眼レフカメラ（撮像装置）
１０１ 反射防止膜
１０１ａ 第１層
１０１ｂ 第２層
１０１ｃ 第３層
１０１ｄ 第４層
１０１ｅ 第５層
１０１ｆ 第６層
１０１ｇ 第７層
１０２ 光学部材
OS (OS1 to OS3) Optical system G1 First lens group
L1 Positive lens in the first lens group L2 Positive lens in the first lens group
L3 Negative lens G2 in the first lens group Second lens group
L4 Negative lens in the second lens group L5 Positive lens in the second lens group
L6 Positive lens in the second lens group L7 Positive lens in the second lens group
CL Second lens group cemented lens S Aperture stop
101
Claims (18)
第１レンズ群と、正の屈折力を有する第２レンズ群とにより実質的に２個のレンズ群からなり、
前記第１レンズ群は、２枚の正レンズと、１枚の負レンズと、からなり、
前記第２レンズ群は、負レンズ及び正レンズが接合された接合レンズと、２枚の正レンズとからなり、
前記第１レンズ群及び前記第２レンズ群に含まれる前記２枚の正レンズのうちの少なくとも１枚は、以下の条件式を満足する特定正レンズであり、
前記第１レンズ群および前記第２レンズ群における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜は屈折率ｎｄが１．３０以下の層を少なくとも１層含んでいることを特徴とする光学系。
１．７９０ ＜ ｎｄ
４９．０ ＜ νｄ
但し、
ｎｄ：前記特定正レンズの媒質のｄ線に対する屈折率
νｄ：前記特定正レンズの媒質のアッベ数 Along the optical axis from the magnification side,
The first lens group and the second lens group having a positive refractive power substantially consist of two lens groups ,
The first lens group includes two positive lenses and one negative lens.
The second lens group includes a cemented lens in which a negative lens and a positive lens are cemented, and two positive lenses ,
At least one of the two positive lenses included in the first lens group and the second lens group is a specific positive lens that satisfies the following conditional expression:
An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group and the second lens group, and the antireflection film includes at least one layer having a refractive index nd of 1.30 or less. Characteristic optical system.
1.790 <nd
49.0 <νd
However,
nd: refractive index of the medium of the specific positive lens with respect to d-line νd: Abbe number of the medium of the specific positive lens
前記多層膜を構成する層のうち最も表面側の層が、屈折率ｎｄが１．３０以下の層であることを特徴とする請求項１に記載の光学系。 The antireflection film is a multilayer film,
2. The optical system according to claim 1, wherein the layer on the most surface side among the layers constituting the multilayer film is a layer having a refractive index nd of 1.30 or less .
前記反射防止膜が設けられた前記光学面は、前記開口絞りから見て凹形状のレンズ面であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学系。 Having an aperture stop,
Wherein the optical surface of the antireflection film is provided, an optical system according to claim 1 or 2, characterized in that when viewed from the aperture stop is a concave lens surface.
０．４０ ＜ ｆ／ｆ０ ＜ ７．０
但し、
ｆ：前記特定正レンズの焦点距離
ｆ０：無限遠合焦時の全系の焦点距離 The optical system according to any one of claims 1 to 10 , wherein at least one of the specific positive lenses satisfies the following conditional expression.
0.40 <f / f0 <7.0
However,
f: Focal length of the specific positive lens f0: Focal length of the entire system when focusing on infinity
０．２０ ＜ ｆ２／ｆ０ ＜ ３．００
但し、
ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離
ｆ０：無限遠合焦時の全系の焦点距離 Optical system according to any one of claims 1 to 12, characterized by satisfying the following conditional expression.
0.20 <f2 / f0 <3.00
However,
f2: focal length of the second lens group f0: focal length of the entire system when focusing on infinity
前記第１レンズ群および前記第２レンズ群における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含んでおり、
前記第１レンズ群として、２枚の正レンズと、１枚の負レンズと、を配置し、
前記第２レンズ群として、負レンズ及び正レンズが接合された接合レンズと、２枚の正レンズと、を配置し、
前記第１レンズ群及び前記第２レンズ群に含まれる前記２枚の正レンズのうちの少なくとも１枚が以下の条件式を満足する特定正レンズであることを特徴とする光学系の製造方法。
１．７９０ ＜ ｎｄ
４９．０ ＜ νｄ
但し、
ｎｄ：前記特定正レンズの媒質のｄ線に対する屈折率
νｄ：前記特定正レンズの媒質のアッベ数 In order from the magnification side along the optical axis, a first lens group, a second lens group having a positive refractive power be substantially method for producing a two-lens optical system ing from the group,
An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces in the first lens group and the second lens group, and the antireflection film includes at least one layer formed using a wet process,
As the first lens group, two positive lenses and one negative lens are arranged,
As the second lens group, a cemented lens in which a negative lens and a positive lens are cemented, and two positive lenses are arranged,
An optical system manufacturing method, wherein at least one of the two positive lenses included in the first lens group and the second lens group is a specific positive lens that satisfies the following conditional expression.
1.790 <nd
49.0 <νd
However,
nd: refractive index of the medium of the specific positive lens with respect to d-line νd: Abbe number of the medium of the specific positive lens
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| JP2001051190A (en) * | 1999-08-12 | 2001-02-23 | Mamiya Op Co Ltd | Large aperture lens |
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| US7738183B2 (en) * | 2007-12-19 | 2010-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Zoom lens and image pickup apparatus having the same |
| JP5422895B2 (en) * | 2008-02-18 | 2014-02-19 | 株式会社ニコン | Lens system and optical apparatus having the same |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105676425A (en) * | 2016-03-17 | 2016-06-15 | 沈阳师范大学 | Digital camera full frame lens device |
| CN105676425B (en) * | 2016-03-17 | 2018-07-03 | 沈阳师范大学 | A kind of digital camera silent frame lens assembly |
| CN106526717A (en) * | 2016-12-16 | 2017-03-22 | 福建福光光电科技有限公司 | Spherical lens bonding product poor appearance repair technology |
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