JP5848901B2 - 配線基板 - Google Patents
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Description
する。
行なう電子部品(図示せず)を搭載(電子部品を配線基板に電気的および機械的に接続して電子装置とするための実装、または電子部品に対して電気的なチェックを施すための一時的な載置)するための部位として使用される。電子部品としては、ICやLSI等の半導体集積回路素子およびLED(発光ダイオード)やPD(フォトダイオード),CCD(電荷結合素子)等の光半導体素子を含む半導体素子,弾性表面波素子や水晶振動子等の圧電素子,容量素子,抵抗器,半導体基板の表面に微小な電子機械機構が形成されてなるマイクロマシン(いわゆるMEMS素子)等の種々の電子部品が挙げられる。
配線導体6は、例えばタングステンからなる場合であれば、タングステンの粉末を有機溶剤およびバインダとともに混練して作製したタングステンのペーストを、絶縁板1となるセラミックグリーンシートの主面にスクリーン印刷法等の方法で所定パターンに塗布し、その後、セラミックグリーンシートと同時焼成することによって形成することができる。
、タングステン,モリブデン,マンガン、アルミニウム等の金属材料またはこれらの金属材料の合金材料からなる。貫通導体2は、例えば上下の配線導体6等の、絶縁板1の上下にそれぞれ配置される導体の間を電気的に接続するためのものであるため、貫通導体2の電気抵抗を低く抑えることを考慮すれば、導体材料4としては銅または銀が特に適している。
〜20体積%程度含まれるように設定すればよい。
散している例であり、導体ペーストを貫通孔3内に充填する作業が容易で配線基板としての生産性を高く確保する上で有利である。図3(b)は、図3(a)に示す例よりも小さい非充填部5が貫通孔3の長さ方向に加えて幅方向にも分散している例であり、貫通導体2の熱膨張を貫通導体2の全域においてより同じ程度に吸収できるようにした例である。
この横断面における非充填部5の面積を差し引いた面積、つまり通電に有効な貫通導体2の横断面の面積が貫通導体2の長さ方向の一部において他の部分よりも著しく小さくなる(一部において電気抵抗が大きくなる)ようなことを抑制して、貫通導体2の電気抵抗を低く抑える上でも有利である。
、直径が約100〜200μmの球形状等)なるように設定すればよい。この場合には、個々の非形成部5の大きさが比較的大きいため、前述したように(導体ペーストを入れる際に間をおいた時間等で)非形成部5の大きさを調整する際に、多少個々の非形成部5の大きさがばらついたとしても、複数の非形成部5の大きさの比を1に近くすることができる。
法により、非充填部5を容易に形成することができる。
3内への加圧等による充填をより容易とすることができるものの、この場合には、貫通孔3の開口が大きい側において導体材料4(貫通導体2)の突出や剥離が生じやすくなる可能性がある。これに対して、上記のように非充填部5を配置しておけば、この導体材料4の膨張を効果的に非充填部5で吸収して、貫通導体2の突出等をより効果的に抑制することができる。
μmの貫通孔をレーザ加工で形成し、この貫通孔の内側に導体ペーストとして銀ペーストを充填し、約900℃で加熱して貫通導体を形成して、以下に述べる実施例1,2および比
較例の配線基板をそれぞれ100個ずつ作製した。作製した配線基板について、貫通導体の
絶縁板主面からの突出の有無および寸法を表面粗さ計で測定した。
イクル試験(−20℃〜+125℃、1000サイクル)の後、貫通導体の電気抵抗を測定し、抵
抗値が変化したものについては貫通導体を断面観察して確認し、絶縁板からの剥離の有無を確認した。
貫通導体を形成する導体材料内に、直径が約150〜200μmの球形状、または長軸が約150〜200μmで短軸が約120〜180μmの楕円球状の非充填部を1個ずつ含むようにして作製した。非充填部の位置は、貫通導体の長さ方向の中央部に設定した。
貫通導体を形成する導体材料内に、直径が約100〜150μmの球形状、または長軸が約100〜150μmで短軸が約50〜100μm程度の楕円球状の非充填部を5個または6個ずつ含む
ようにして作製とした。非充填部の位置は、貫通導体の長さ方向にほぼ200〜250μm程度間隔で上下1列に並ぶように設定した。
非充填部を含まない導体材料を用いて貫通導体を形成した。
その結果、実施例の配線基板では貫通導体の絶縁板からの突出および剥離が見られなかったのに対し、比較例の配線基板では1個の配線基板において2つの貫通導体に、他の1個の配線基板において1つの貫通導体に、それぞれ約20μm程度の突出が発生していた。また、比較例の配線基板では、1個の配線基板において貫通導体の端部が貫通孔の内側面から数μm程度の幅で剥がれているのが確認された。
2・・・貫通導体
3・・・貫通孔
4・・・導体材料
5・・・非充填部
6・・・配線導体
7・・・搭載部
Claims (5)
- セラミック焼結体からなる絶縁板に、該絶縁板を厚み方向に貫通する貫通導体を形成してなる配線基板であって、
前記貫通導体は、内部に非充填部を有する導体材料が前記絶縁板を厚み方向に貫通する貫通孔内に充填されて形成されており、
前記貫通導体の長さ方向の断面において前記非充填部が円形状または楕円形状であり、
複数の前記非充填部が前記貫通導体の長さ方向に分散して配置されており、
前記貫通孔がテーパー状であり、前記非充填部が前記貫通孔の横断面における中央部に偏って配置されていることを特徴とする配線基板。 - 複数の前記非充填部は互いに大きさが揃っていることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 複数の前記非充填部は、前記貫通導体の長さ方向に一定の間隔で配列されていることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 前記非充填部が前記貫通導体の端面に接しないように配置されていることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 前記貫通孔がテーパー状であり、前記導体材料が前記貫通孔の上端から下端にかけて該貫通孔の内側面に層状に付着していることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
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