JP5848135B2 - 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
を備えることを特徴とする。
12 第1の領域
14 第2の領域
100 描画装置
122 イベント情報受領部
124 領域情報取得部
126 時間間隔パターン選択部
128 ドリフト診断制御部
150 描画部
152 メモリ(時間間隔パターン記憶部)
Claims (5)
- 荷電粒子ビームのドリフト量の診断を実行する時間間隔を定義する複数の時間間隔パターンを記憶する工程と、
前記荷電粒子ビームを試料上に照射し、前記試料上に所定の描画パターンを描画する工程と、
複数の種別のイベントの内の一つである第1のイベントの発生と、前記第1のイベントの種別を含む第1のイベント情報を受領する工程と、
前記荷電粒子ビームが描画中の領域を特定する領域情報を取得する工程と、
前記第1のイベントの種別と前記領域情報とに基づき、前記複数の時間間隔パターンの中から特定の時間間隔パターンを選択する工程と、
前記第1のイベント情報を受領後、前記複数の種別のイベントの内の一つである第2のイベントの発生と、前記第2のイベントの種別を含む第2のイベント情報を受領するまでの期間、前記特定の時間間隔パターンに基づき前記荷電粒子ビームのドリフト量の診断を行う工程と、
前記診断に基づき、前記荷電粒子ビームのドリフト補正を行いながら前記試料上に所定の描画パターンを描画する工程と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。 - 前記特定の時間間隔パターンを選択する工程において、前記領域中の描画パターンの最小寸法に基づき前記特定の時間間隔パターンの選択が行われることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画方法。
- 前記特定の時間間隔パターンを選択する工程において、前記領域のショット密度に基づき前記特定の時間間隔パターンの選択が行われることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画方法。
- 荷電粒子ビームのドリフト量の診断を実行する時間間隔を定義する複数の時間間隔パターンを記憶する手順と、
前記荷電粒子ビームを試料上に照射し、前記試料上に所定の描画パターンを描画する手順と、
複数の種別のイベントの内の一つである第1のイベントの発生と、前記第1のイベントの種別を含む第1のイベント情報を受領する手順と、
前記荷電粒子ビームが描画中の領域を特定する領域情報を取得する手順と、
前記第1のイベントの種別と前記領域情報とに基づき、前記複数の時間間隔パターンの中から特定の時間間隔パターンを選択する手順と、
前記第1のイベント情報を受領後、前記複数の種別のイベントの内の一つである第2のイベントの発生と、前記第2のイベントの種別を含む第2のイベント情報を受領するまでの期間、前記特定の時間間隔パターンに基づき前記荷電粒子ビームのドリフト量の診断を行う手順と、
前記診断に基づき、前記荷電粒子ビームのドリフト補正を行いながら前記試料上に所定のパターンを描画する手順と、
を荷電粒子ビーム描画装置に搭載されるコンピュータに実行させることを特徴とする荷電粒子ビーム描画プログラム。 - 荷電粒子ビームのドリフト量の診断を実行する時間間隔を定義する複数の時間間隔パターンを記憶する記憶部と、
前記荷電粒子ビームを試料上に照射し、前記試料上に所定の描画パターンを描画する描画部と、
複数の種別のイベントの内の一つである第1のイベントの発生と、前記第1のイベントの種別を含む第1のイベント情報を受領するイベント情報受領部と、
前記荷電粒子ビームが描画中の領域を特定する領域情報を取得する領域情報取得部と、
前記第1のイベントの種別と前記領域情報とに基づき、前記複数の時間間隔パターンの中から特定の時間間隔パターンを選択する時間間隔パターン選択部と、
前記第1のイベント情報を受領後、前記複数の種別のイベントの内の一つである第2のイベントの発生と、前記第2のイベントの種別を含む第2のイベント情報を受領するまでの期間、前記特定の時間間隔パターンに基づき前記荷電粒子ビームのドリフト量の診断を行うドリフト診断制御部と、を備え、
前記描画部が前記診断に基づき、前記荷電粒子ビームのドリフト補正を行いながら前記試料上に所定の描画パターンを描画することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
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