JP5847661B2 - 基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5847661B2 JP5847661B2 JP2012167807A JP2012167807A JP5847661B2 JP 5847661 B2 JP5847661 B2 JP 5847661B2 JP 2012167807 A JP2012167807 A JP 2012167807A JP 2012167807 A JP2012167807 A JP 2012167807A JP 5847661 B2 JP5847661 B2 JP 5847661B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- holding mechanism
- rotation
- line sensor
- rotation holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 119
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 81
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 36
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 27
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 24
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 178
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 18
- 230000006870 function Effects 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
次いで制御部からの前記回転保持機構への回転指令と、前記ラインセンサにおいて前記測定用基板の凹凸形状を検出するタイミングとを比較することで求められてもよい。
次いで前記回転保持機構への回転指令と、前記ラインセンサにおいて前記測定用基板の凹凸形状を検出するタイミングとを比較することで求められてもよい。
10 筐体
20 ウェハチャック
30 チャック駆動部
40 光源
50 ラインセンサ
60 搬送アーム
100 制御部
101 プログラム格納手段
102 演算手段
103 記憶手段
A 測定用ウェハ
E エッジ部
L 境界
P1 受渡位置
P2 アライメント位置
W ウェハ
Claims (13)
- 回転保持機構に基板を保持して回転させ、当該回転する基板の端部の位置を検出することで基板の中心位置を算出し、当該算出された基板の中心位置の情報に基づいて基板の位置調整を行う位置調整装置であって、
前記回転保持機構に保持された基板の外周縁部を挟んで上下方向に対向して設けられた、基板に平行光を照射する光源及び当該光源からの光を検出するラインセンサと、
前記ラインセンサと前記回転保持機能に保持された基板とを、基板の直径方向に沿って相対的に移動させる移動機構と、
前記光源から基板に平行光を照射しながら前記ラインセンサと前記基板とが相対的に移動するように前記移動機構を制御し、前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離と、前記ラインセンサと前記基板とを相対的に移動させた場合に前記ラインセンサで検出される光の移動する量とに基づいて、前記相対的な移動距離と前記光の移動量との相関関係を求める制御を行う制御部と、を有し、
前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離と、前記ラインセンサで検出される光の移動量との相関関係は、前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離と前記ラインセンサで検出される光の移動量との差分と、前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離との相関関係であり、
前記制御部は、前記相関関係に基づいて、前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離とラインセンサで検出される光の移動量との差分を補正する補正値を求め、当該補正値により補正した基板の中心位置の情報に基づいて、前記回転保持機構の中心位置と基板の中心位置を一致させる制御を行うことを特徴とする、位置調整装置。 - 前記制御部は、前記回転保持機構への回転数指令と当該回転保持機構の実回転数との相関関係を記憶する記憶手段を有することを特徴とする、請求項1に記載の基板の位置調整装置。
- 前記回転保持機構への回転指令と当該回転保持機構の実回転数との相関関係は、前記回転保持機構への回転指令に対する回転保持機構の実回転数の動作遅れ時間であることを特徴とする、請求項2に記載の基板の位置調整装置。
- 前記回転保持機構への回転数指令に対する前記回転保持機構の実回転数の動作遅れ時間は、前記回転保持機構により基板の外周部を凹凸に形成した測定用基板を保持した状態で前記光源から前記測定用基板に平行光を照射し、次いで前記回転保持機構を回転させて前記ラインセンサで前記測定用基板の凹凸形状を検出し、
次いで制御部からの前記回転保持機構への回転指令と、前記ラインセンサにおいて前記測定用基板の凹凸形状を検出するタイミングとを比較することで求められることを特徴とする、請求項3に記載の基板の位置調整装置。 - 前記測定用基板の凹凸は、周方向に沿って等間隔に設けられ、測定用基板の凹凸形状の検出は、前記回転保持機構の回転数が一定の状態で行なわれることを特徴とする、請求項4に記載の基板の位置調整装置。
- 前記制御部は、前記回転保持機構への回転指令を前記記憶手段に記憶された回転保持機構の実回転数の動作遅れ時間で補正し、
前記補正後の回転指令により前記回転保持機構を回転させることを特徴とする、請求項4または5のいずれかに記載の基板の位置調整装置。 - 回転保持機構に基板を保持して回転させ、当該回転する基板の端部の位置を検出することで基板の中心位置を算出し、当該算出された基板の中心位置の情報に基づいて基板の位置調整を行う位置調整方法であって、
基板の外周縁部に光源から平行光を照射しながら、前記回転保持機構を、当該回転保持機構に保持された基板の外周縁部を挟んで前記光源に対向して設けられたラインセンサに対して相対的に移動させ、
前記ラインセンサと前記基板とを相対的に移動させた場合に前記ラインセンサで検出される光の移動量と、当該ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離との差分を求め、
前記差分と、前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離との相関関係を求め、
前記相関関係に基づいて、前記ラインセンサと前記基板との相対的な移動距離とラインセンサで検出される光の移動量との差分を補正する補正値を求め、
前記補正値により補正した基板の中心位置の情報に基づいて、前記回転保持機構の中心位置と基板の中心位置を一致させることを特徴とする、基板の位置調整方法。 - 前記回転保持機構への回転指令と当該回転保持機構の実回転数との相関関係に基づいて、前記回転保持機構への回転指令を補正することを特徴とする、請求項7に記載の基板の位置調整方法。
- 前記回転保持機構への回転指令と当該回転保持機構の実回転数との相関関係は、前記回転保持機構への回転指令に対する回転保持機構の実回転の動作遅れ時間であることを特徴とする、請求項8に記載の基板の位置調整方法。
- 前記回転保持機構への回転指令に対する前記回転保持機構の実回転数の動作遅れ時間は、前記回転保持機構により基板の外周部を凹凸に形成した測定用基板を保持した状態で前記光源から前記測定用基板に平行光を照射し、次いで前記回転保持機構を回転させて前記ラインセンサで前記測定用基板の凹凸形状を検出し、
次いで前記回転保持機構への回転指令と、前記ラインセンサにおいて前記測定用基板の凹凸形状を検出するタイミングとを比較することで求められることを特徴とする、請求項9に記載の基板の位置調整方法。 - 前記測定用基板の凹凸は、周方向に沿って等間隔に設けられ、測定用基板の凹凸形状の検出は、前記回転保持機構の回転数が一定の状態で行なわれることを特徴とする、請求項10に記載の基板の位置調整方法。
- 請求項7〜11のいずれかに記載の基板の位置調整方法を基板の位置調整装置によって実行させるように、当該基板の位置調整装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項12に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012167807A JP5847661B2 (ja) | 2012-07-27 | 2012-07-27 | 基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012167807A JP5847661B2 (ja) | 2012-07-27 | 2012-07-27 | 基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014025859A JP2014025859A (ja) | 2014-02-06 |
JP5847661B2 true JP5847661B2 (ja) | 2016-01-27 |
Family
ID=50199633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012167807A Active JP5847661B2 (ja) | 2012-07-27 | 2012-07-27 | 基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5847661B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6316082B2 (ja) * | 2014-04-30 | 2018-04-25 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN110729226B (zh) * | 2019-09-06 | 2021-11-19 | 福建省福联集成电路有限公司 | 一种晶圆圆心校准的方法和装置 |
JP7430455B2 (ja) | 2020-06-05 | 2024-02-13 | 株式会社ディスコ | エッジ位置検出装置及びエッジ位置検出方法 |
CN113948414B (zh) * | 2021-10-19 | 2024-02-09 | 无锡卓海科技股份有限公司 | 一种薄膜应力仪自动调平装置 |
-
2012
- 2012-07-27 JP JP2012167807A patent/JP5847661B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014025859A (ja) | 2014-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9539607B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
TWI502672B (zh) | 用於製造電子或非電子組件之方法、其裝置及用於製造電子或非電子組件之基板 | |
US8765034B2 (en) | Pattern formation method, pattern formation apparatus, and recording medium recorded with alignment program | |
JP5847661B2 (ja) | 基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2015017844A5 (ja) | ||
JP5235566B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
TW202238801A (zh) | 基板搬送裝置及基板搬送方法 | |
JP5930699B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法およびデバイスの製造方法 | |
TWI791041B (zh) | 曝光系統對準及校正方法 | |
JP2005101455A (ja) | 位置決め装置 | |
TW201218246A (en) | characterized by detecting the positions of a mask and a work-piece alignment marks for several times to thereby check the difference between a first alignment measure and a second alignment measure | |
JP4522142B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び基板製造方法 | |
JP6916616B2 (ja) | リソグラフィ装置、物品の製造方法、および計測装置 | |
JP2013036804A (ja) | ワークテーブルのピッチエラーの測定方法 | |
JP2008166410A (ja) | 位置決め較正方法及びそれを適用した実装装置 | |
KR102139612B1 (ko) | 기판 이송 장치를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 이송 장치의 티칭 방법 | |
US10036967B2 (en) | Lithography apparatus, lithography method, and article manufacturing method | |
CN112585539A (zh) | 用于校准物体装载过程的平台设备和方法 | |
JP4487700B2 (ja) | 近接露光装置 | |
US11982948B2 (en) | Method for determining a center of a radiation spot, sensor and stage apparatus | |
JP2011035333A (ja) | 走査型露光装置、走査型露光方法、半導体装置の製造方法およびプログラム | |
JP2013205678A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5884273B2 (ja) | 露光ユニット及び基板のプリアライメント方法 | |
TW202340877A (zh) | 搬送裝置、曝光裝置、搬送方法、曝光方法及對準標記 | |
KR20200135667A (ko) | 비접촉 방식을 이용한 디스플레이용 유리기판 정렬장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140707 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150626 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5847661 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |