JP5842502B2 - ガラス基板搬送方法、及び、該ガラス基板搬送方法を用いたガラス基板積層体形成方法、ガラス基板搬送装置、前記ガラス基板搬送装置を有するガラス基板積層体形成システム、さらに、前記ガラス基板搬送方法を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、前記ガラス基板積層体形成方法を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
ガラス基板搬送方法、及び、該ガラス基板搬送方法を用いたガラス基板積層体形成方法、ガラス基板搬送装置、前記ガラス基板搬送装置を有するガラス基板積層体形成システム、さらに、前記ガラス基板搬送方法を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、前記ガラス基板積層体形成方法を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
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Description
本実施の形態では、スペーサを介してガラス基板を保持具によって保持し、スペーサとガラス基板とを同時に搬送するガラス基板搬送方法について説明する。
これは、搬送時にガラス基板やスペーサが落下することを防ぐためである。特に、保持力Fは、F>2mgを満たしていることが好ましく、F>10mgを満たしていることがより好ましい。これは搬送工程において、機器の回転等によって保持具にガラス基板等の質量以上の負荷がかかる場合があり、そのような場合にもガラス基板やスペーサが落下しないようにするためである。
[第2の実施形態]
本実施の形態では、第1の実施形態で説明したガラス基板搬送方法を用いて、スペーサとガラス基板とを同時に搬送し、ガラス基板積層体を形成することを特徴とするガラス基板積層体形成方法について説明する。
(工程1)ガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工した後、内周端面と外周端面を面取り加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程3)前記ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程。
(工程4)前記ガラス基板を精密洗浄して乾燥する洗浄工程
そして、上記各工程を含む製造方法により得られた磁気記録媒体用ガラス基板はその上に磁性層などの薄膜を形成する工程をさらに行うことによって、磁気ディスクとすることができる。
[第3の実施形態]
本実施の形態では、ガラス基板搬送装置について説明を行う。
スペーサが載置されているスペーサ載置部
ガラス基板の表面にスペーサを配置するガラス基板−スペーサ対形成部
前記ガラス基板載置部からガラス基板を前記ガラス基板−スペーサ対形成部に搬送するガラス基板搬送機構
前記スペーサ載置部から前記ガラス基板−スペーサ対形成部にスペーサを搬送するスペーサ搬送機構
ガラス基板−スペーサ対形成部で形成したガラス基板−スペーサ対を搬送する、ガラス基板−スペーサ対搬送機構
上記ガラス基板搬送装置について図3を用いて説明する。
11、25 スペーサ
12 吸着治具
24、324 液体
27 ガラス基板積層体
30 ガラス基板搬送装置
31 ガラス基板載置部
32 ガラス基板搬送機構
326 スペーサ載置部
325 ガラス基板−スペーサ対形成部
327 スペーサ搬送機構
329 ガラス基板−スペーサ対搬送機構
Claims (9)
- スペーサとガラス基板とを同時に搬送する前に前記ガラス基板と前記スペーサの位置決めを行ない、スペーサを介してガラス基板を保持具である吸着治具又は静電治具によって保持し、前記ガラス基板と前記スペーサはその間に配置された液体、又は、静電気によって吸着され、スペーサとガラス基板とを同時に搬送するガラス基板搬送方法。
- 前記ガラス基板と対向する前記スペーサ表面の表面粗さRaは2.0μm以下であり、前記スペーサの厚みは0.5mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板搬送方法。
- 前記スペーサと対向する前記ガラス基板の主平面の表面粗さRaは1.5μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のガラス基板搬送方法。
- 前記ガラス基板の質量と前記スペーサの質量の合計値をm(kg)、重力加速度g(m/s2)としたとき、
前記保持具の保持力F(N)は、F>mgを満足するものである請求項1乃至3いずれか一項に記載のガラス基板搬送方法。 - 請求項1乃至4いずれか一項に記載のガラス基板搬送方法を用いて前記スペーサと前記ガラス基板とを同時に搬送し、ガラス基板積層体を形成することを特徴とするガラス基板積層体形成方法。
- 請求項1乃至4いずれか一項に記載のガラス基板搬送方法を用いて前記スペーサと前記ガラス基板を同時に搬送するガラス基板搬送装置であって、
前記ガラス基板が載置されているガラス基板載置部と、
前記スペーサが載置されているスペーサ載置部と、
前記ガラス基板の表面に前記スペーサを配置するガラス基板−スペーサ対形成部と、
前記ガラス基板載置部から前記ガラス基板を前記ガラス基板−スペーサ対形成部に搬送するガラス基板搬送機構と、
前記スペーサ載置部から前記ガラス基板−スペーサ対形成部に前記スペーサを搬送するスペーサ搬送機構と、
前記ガラス基板−スペーサ対形成部で形成したガラス基板−スペーサ対を搬送する、ガラス基板−スペーサ対搬送機構と、
を有することを特徴とするガラス基板搬送装置。 - 請求項6に記載のガラス基板搬送装置を用いて搬送した前記ガラス基板−スペーサ対を積層することによってガラス基板積層体を形成するガラス基板積層体形成システムであって、
ガラス基板積層体形成部を有することを特徴とするガラス基板積層体形成システム。 - ガラス基板の端面を研磨する端面研磨工程と、
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
ガラス基板の洗浄工程と、
を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
請求項1乃至4いずれか一項に記載のガラス基板搬送方法を用いたガラス基板搬送工程を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - ガラス基板の端面を研磨する端面研磨工程と、
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
ガラス基板の洗浄工程と、
を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
請求項5に記載のガラス基板積層体形成方法を用いたガラス基板積層体形成工程を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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