JP5826655B2 - タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器 - Google Patents

タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP5826655B2
JP5826655B2 JP2012021652A JP2012021652A JP5826655B2 JP 5826655 B2 JP5826655 B2 JP 5826655B2 JP 2012021652 A JP2012021652 A JP 2012021652A JP 2012021652 A JP2012021652 A JP 2012021652A JP 5826655 B2 JP5826655 B2 JP 5826655B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
touch panel
substrate
recess
sensor
cover substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2012021652A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013161201A (ja
Inventor
倉島 健
健 倉島
日向 章二
章二 日向
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Inc
Original Assignee
Japan Display Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Display Inc filed Critical Japan Display Inc
Priority to JP2012021652A priority Critical patent/JP5826655B2/ja
Publication of JP2013161201A publication Critical patent/JP2013161201A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5826655B2 publication Critical patent/JP5826655B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Position Input By Displaying (AREA)

Description

本技術は、指、手、腕、ペンなどの物体(以下「指など」という)が検出面に触れた位置を検知することを可能にするタッチパネルおよびその製造方法に関する。また、本技術は、上記のタッチパネルを備えた表示装置および電子機器に関する。
従来から、指などで触れることにより情報を入力する技術が知られている。その中でも特に注目されている技術として、ディスプレイに表示された種々のボタンを指などで触れることにより、通常のボタンを指などで押した場合と同様の情報入力を可能とする表示装置がある。この技術は、ディスプレイとボタンの共用化を可能にすることから、省スペース化や部品点数の削減という大きなメリットをもたらす。
指などの接触を検出するタッチパネルには、種々のタイプのものが存在するが、スマートフォン等の、多点検出を必要とするデバイスで一般に普及しているものとして、静電容量式が挙げられる(例えば特許文献1参照)。静電容量式のタッチパネルは、例えば、検出面内にマトリックス状の電極パターンを備えており、指などで接触した位置の静電容量変化を検出するようになっている。
特開2011−198207号公報
ところで、静電容量式のタッチパネルには、ディスプレイ表面に貼り合わせるタイプのものと、ディスプレイに内蔵されるタイプのものとがある。前者には、電極パターンの形成されたセンサーガラスと、検出面を形成するカバーガラスとが互いに貼り合わされたタイプのもの(貼り合わせ型のタッチパネル)と、センサーガラスがカバーガラスを兼用するタイプのもの(兼用型のタッチパネル)とがある。貼り合わせ型のタッチパネルでは、センサーガラスとカバーガラスのサイズが互いに異なるので、端部に段差ができてしまい、その段差が、当該タッチパネルを電子機器に組み込む際の構造上の制約になってしまうという問題があった。
また、その段差の部分には、通常、タッチパネルを筐体などに貼り合わせる両面テープが設けられる。しかし、実際に、両面テープを設ける際には、例えば、センサーガラスをカバーガラスに貼り合わせる際の貼り合わせ誤差や、センサーガラスをカバーガラスに貼り合わせる際に使用する接着剤のはみ出しなどを考慮する必要がある。そのため、両面テープを設けるスペースが、それらを考慮した分だけ、広くなってしまい、狭額縁化が妨げられていた。一方で、兼用型のタッチパネルでは、端部に段差は無いので、上述したような構造上の制約が無い。また、センサーガラスの端部に両面テープを設ける際に、貼り合わせ誤差や接着剤のはみ出しなどを考慮する必要もないので、狭額縁にすることが容易である。しかも、センサーガラスがカバーガラスを兼ねている分だけ、薄型になるという利点がある。
しかし、兼用型のタッチパネルでは、センサーガラスがカバーガラスを兼用する関係で、センサーガラス自体が強化ガラスとなっている必要がある。センサーガラス自体が強化ガラスとなっている場合、以下に示す問題があった。すなわち、タッチパネルに用いられる強化ガラスは、化学強化法という方法で製造され、例えば、ソーダ石灰ガラスを、加熱した硝酸カリ溶融塩に浸すことにより製造される。化学強化処理により製造された強化ガラスは、未加工の状態では、非常に強い強度を有している。ところが、化学強化処理後にエッチングを行うと、エッチングされた部分に未強化のガラスが露出するので、その部分に応力がかかると、強化ガラスと言えども亀裂や割れが生じ易くなってしまう。兼用型のタッチパネルに用いられるセンサーガラスは、化学強化処理された大板ガラスの表面に多数の電極パターンを形成した後に、大板ガラスを電極パターンごとにダイシングすることにより切り出される。そのため、センサーガラスの端面が非強化状態となってしまうので、例えば、センサーガラスのエッジ部分に応力がかかる4点曲げ状態の強度が落ちてしまうという問題があった。
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、狭額縁、薄型といった兼用型の利点を享受しつつ、高強度化することの可能なタッチパネルおよびその製造方法、ならびにそのようなタッチパネルを備えた表示装置および電子機器を提供することにある。
本技術のタッチパネルは、カバー基板と、センサー基板とを備えている。カバー基板は、表面全体が化学強化処理のなされたものであり、下面に凹部を有する。センサー基板は、支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ凹部に収容されている。支持基板は、凹部の内側面との間に隙間を設けて配置される。カバー基板の下面と、支持基板の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている。
本技術の表示装置は、映像を生成する映像生成装置と、映像生成装置の表面に配置されたタッチパネルと、映像生成装置およびタッチパネルを制御する制御装置とを備えたものである。本技術の表示装置に含まれるタッチパネルは、上記のタッチパネルと同一の構成要素を有している。
本技術の電子機器は、上記の表示装置を備えたものである。
本技術のタッチパネルの製造方法は、以下の2つの工程を含むものである。
(A)面に凹部を有するカバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する第1工程
(B)支持基板を凹部の内側面との間に隙間を設けて配置し、カバー基板の下面と、支持基板の下面とが、同一またはほぼ同一の面内となるように、支持基板の上面または下面にセンサー電極を有するセンサー基板を、凹部に収容する第2工程
本技術のタッチパネルおよびその製造方法、表示装置ならびに電子機器では、カバー基板の凹部に、センサー基板が収容されている。これにより、センサーガラスの端部に例えば両面テープを設ける際に、貼り合わせ誤差や接着剤のはみ出しなどを考慮する必要がないので、狭額縁にすることが容易である。しかも、カバー基板の凹部に、センサー基板が収容されているので、2枚の基板を単純に重ね合わせたときよりも薄型にすることができる。さらに、本技術では、カバー基板には、表面全体に渡って化学強化処理がなされている。これにより、薄型でありながら高強度を保つことができる。
本技術のタッチパネルおよびその製造方法、表示装置ならびに電子機器によれば、化学強化処理のなされたカバー基板の凹部にセンサー基板を収容するようにしたので、狭額縁、薄型といった兼用型の利点を享受しつつ、高強度化することができる。
本技術の一実施の形態に係る表示装置で用いられるタッチ検出方式の動作原理を説明するための図であり、非接触時の状態を示す図である。 本技術の一実施の形態に係る表示装置で用いられるタッチ検出方式の動作原理を説明するための図であり、タッチセンサの駆動信号および検出信号の波形の一例を示す図である。 本技術の一実施の形態に係る表示装置で用いられるタッチ検出方式の動作原理を説明するための図であり、指接触時の状態を示す図である。 本技術の一実施の形態に係る表示装置の断面構成の一例を示す図である。 図4の表示装置が液晶表示装置であるときの断面構成の一例を示す図である。 図4の表示装置が液晶表示装置であるときの断面構成の他の例を示す図である 図4のタッチパネルの断面構成の一例を示す図である。 図4のタッチパネルの断面構成の他の例を示す図である。 図7または図8のタッチパネルの製造方法の一例について説明する図である。 図9に続く工程について説明する図である。 図10に続く工程について説明する図である。 図11に続く工程について説明する図である。 図7または図8のタッチパネルの製造方法の他の例について説明する図である。 図13に続く工程について説明する図である。 図14に続く工程について説明する図である。 一適用例に係る電子機器の概略構成の一例を示す図である。
以下、発明を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。

1.タッチ検出方式の基本原理
2.実施の形態
3.変形例
4.適用例
<1.タッチ検出方式の基本原理>
最初に、以下の実施の形態の表示装置で用いられるタッチ検出方式の基本原理について説明する。このタッチ検出方式は、静電容量型のタッチセンサとして具現化されるものである。図1(A)は、上記のタッチセンサを模式的に表したものである。図1(B)は、図1(A)のタッチセンサの等価回路と、タッチセンサに接続する周辺回路を表したものである。このタッチセンサは、誘電体101と、この誘電体101を挟んで互いに対向配置された一対の電極102,103とを備えており、等価回路では、図1(B)に示したように、容量素子104で表される。
容量素子104の一端(電極102)は交流信号源105に接続される。容量素子104の他端(電極103)は電圧検出回路106に接続され、さらに、抵抗107を介して基準電位線108に接続される。交流信号源105は、所定の周波数(例えば数kHz〜十数kHz程度)の交流矩形波Sgを出力するものである。電圧検出回路106は、入力された信号の波高値を検出し、さらに、その検出電圧に基づいてタッチセンサへの指の接触、非接触を判定するものである。基準電位線108は、例えば、タッチセンサが搭載されたデバイスにおいて回路動作の基準となる電位を与える部材(例えばプリント基板のグラウンド層や導電性の筐体)に電気的に接続されるものであり、その部材に接続されているときには、その部材と同電位(基準電位)となる。基準電位は、例えばグラウンド電位である。
このタッチセンサでは、交流信号源105から電極102に交流矩形波Sg(図2(B))が印加されると、電極103に、図2(A)に示したような出力波形(検出信号Vdet)が現れる。
タッチセンサに指などの物体を接触させていない状態(図1(A))では、図1(B)に示したように、容量素子104に対する充放電に伴って、容量素子104の容量値に応じた電流I0が流れる。このときの容量素子104の電極103側の電位波形は、例えば図2(A)の波形V0のようになり、これが電圧検出回路106によって検出される。
一方、タッチセンサに指などの物体を接触させた状態(図3(A))では、図3(B)に示したように、指などの物体によって形成される容量素子109が容量素子104に直列に追加される。この状態では、容量素子104,109に対する充放電に伴って、それぞれ電流I1,I2が流れる。このとき、電極103における電位波形は、例えば図2(A)の波形V1のようになり、これが電圧検出回路106によって検出される。電極103の電位は、容量素子104,109を流れる電流I1,I2の値によって定まる分圧電位となる。このため、波形V1は、非接触状態での波形V0よりも小さい値となる。その後、電圧検出回路106によって、検出電圧と所定の閾値電圧Vthとが比較され、検出電圧が閾値電圧Vth以下であるときには非接触状態と判断される一方、閾値電圧Vthよりも大きいときには接触状態と判断される。このようにして、タッチ検出が行われる。なお、以下の実施の形態の表示装置において、上記とは異なる検出方式が用いられてもよい。
<2.実施の形態>
[構成]
図4は、本技術の一実施の形態に係る表示装置1の断面構成の一例を表したものである。表示装置1は、タッチセンサ付きの表示装置であり、映像生成装置10と、静電容量型のタッチパネル20と、制御装置30とを備えている。タッチパネル20は、映像生成装置10とは別体で形成されたものであり、映像生成装置10の表面に配置されている。制御装置30は、映像生成装置10およびタッチパネル20を制御するものである。具体的には、制御装置30は、外部から入力される映像信号に基づいて映像生成装置10を駆動し、さらに、タッチパネル20を駆動すると共にタッチパネル20の検出信号に応じた信号を外部に出力するようになっている。
映像生成装置10は、制御装置30から入力される信号に基づいて映像を生成するものである。映像生成装置10は、例えば、液晶表示装置である。図5は、映像生成装置10が液晶表示装置であるときの表示装置1の断面構成の一例を表したものである。図6は、図5の表示装置1の断面構成の一変形例を表したものである。表示装置1は、表示パネル11およびバックライト12を有する映像生成装置10と、表示パネル11の上面に配置されたタッチパネル20と、映像生成装置10およびタッチパネル20を支持すると共に保護する筐体40とを備えている。なお、図5、図6では、制御装置30の記載が省略されている。
(映像生成装置10)
表示パネル11は、液晶分子の配列を変化させることにより入射光を透過、変調させて映像を生成する液晶表示パネルである。バックライト12は、表示パネル11を背後から照明する光源である。なお、映像生成装置10は、常に、液晶表示装置である必要はなく、例えば、有機EL素子を発光させて映像を生成する有機EL表示装置であってもよい。
(タッチパネル20)
タッチパネル20は、指などで、表示装置1の映像表示面(タッチパネル20の検出面)1Aに触れることにより情報を入力するものである。タッチパネル20は、例えば、上述した静電容量型のタッチセンサの一具体例に相当するものであり、XY(行列)マトリクスで、指などの検出面への接触・非接触を検出するものである。タッチパネル20は、例えば、図5に示したように、筐体40の一部(後述の支持部42B)の表面に、固定層52を介して貼り合わされている。固定層52は、例えば、接着層や粘着層からなる。なお、タッチパネル20は、例えば、図6に示したように、映像生成装置10の表面に、固定層53を介して貼り合わされていてもよい。固定層53は、例えば、接着層や粘着層からなる。
図7(A),(B)は、タッチパネル20の断面構成の一例を表したものである。図8(A),(B)は、タッチパネル20の断面構成の他の例を表したものである。図7(A)と図7(B)とでは、タッチパネル20を筐体40または映像生成装置10に固定する固定層54の貼り付け位置が互いに異なっている。同様に、図8(A)と図8(B)とでは、タッチパネル20を筐体40または映像生成装置10に固定する固定層54の貼り付け位置が互いに異なっている。固定層54は、上述の固定層52または固定層53の一例に対応するものである。なお、 図7(A),(B)、図8(A),(B)に示したタッチパネル20は、常に、図5、図6に記載のタッチパネル20として用いられるものではなく、他の表示装置におけるタッチセンサとして用いられてもよい。
タッチパネル20は、センサー基板21と、カバー基板22と、これらを互いに固定する固定層23とを有している。カバー基板22は、下面に凹部22Aを有している。カバー基板22の下面とは、映像表示面1A側を上面としたときに、映像表示面1Aとは反対側の表面を指している。凹部22Aの面内の広さは、センサー基板21を収容可能な広さとなっている。凹部22Aの深さは、凹部22Aにセンサー基板21を収容したときに、カバー基板22の下面と、センサー基板21の支持基板21A(後述)の下面とが同一またはほぼ同一の面内となるような、深さとなっている。凹部22Aの深さは、固定層23の厚さを考慮した上で、カバー基板22の下面と、センサー基板21の支持基板21A(後述)の下面とが同一またはほぼ同一の面内となるような、深さとなっていることが好ましい。
カバー基板22は、表面全体が化学強化処理のなされた強化ガラスで構成されている。つまり、カバー基板22の上面および下面はもちろん、凹部22Aの内面や、カバー基板22の側面についても、化学強化処理がなされている。ここで、化学強化処理とは、例えば、ソーダ石灰ガラスを、加熱した硝酸カリ溶融塩に浸す化学的な表面処理のことを指している。
センサー基板21は、図7(A),(B)、図8(A),(B)に示したように、支持基板21Aの上面または下面にセンサー電極21Bを有している。センサー電極21Bは、指などの検出面(映像表示面1A)への接触・非接触を検出するためのものであり、複数の電極で構成されている。センサー電極21Bは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide;酸化インジウムスズ)などの光透過性の導電性材料で構成されている。支持基板21Aは、絶縁性および光透過性の部材で構成されており、例えば、ガラス基板、または絶縁性および光透過性の樹脂フィルムで構成されている。支持基板21Aは、タッチパネル20全体の強度を補強する観点からは、ガラス基板で構成されていることが好ましく、少なくとも一部の表面に化学強化処理がなされた強化ガラスで構成されていてもよい。
センサー基板21は、カバー基板22の凹部22Aに収容されており、例えば、凹部22Aの底面に設けられた固定層23によって凹部22Aの底面に固定されている。支持基板21Aの下面と、カバー基板22の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されていることが好ましい。その場合には、図7(A),図8(A)に示したように、固定層54をカバー基板22の下面のうち凹部22Aの周囲だけでなく、カバー基板22の下面の外縁にも貼り合わせることができる。固定層54をカバー基板22の下面の外縁にまで貼り合わせる場合には、カバー基板22の下面のうち凹部22Aの周囲の幅を狭くすることが可能となる。なお、支持基板21Aの下面と、カバー基板22の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている場合であっても、固定層54をカバー基板22の下面のうち凹部22Aの周囲だけに貼り合わせてもよい。
(筐体40)
筐体40は、例えば、台座部41と、枠部42とを有している。台座部41と枠部42とは、ネジなどにより互いに固定されている。台座部41は、バックライト12を収容する容器である。台座部41は、例えば、バックライト12の下面と対向する位置に配置された底板と、バックライト12の側面と対向すると共に底板の端縁に立設された壁板とを含んで構成されている。台座部41の壁板は、バックライト12の側面と、枠部42との間に配置されており、枠部42の側面に接している。さらに、台座部41の壁板の上端が枠部42に接している。つまり、台座部41が、台座部41の壁板の上端にて、枠部42を支持している。
枠部42は、側面筐体であり、いわゆるベゼルと称されるものである。枠部42は、例えば、台座部41の側面、表示パネル11の側面、およびタッチパネル20の側面と対向する位置に配置されている。枠部42は、表示パネル11の下面の端縁と対向する位置に支持部42Aを有している。支持部42Aの上面は、固定層51を介して表示パネル11の下面と接している。枠部42は、さらに、タッチパネル20の下面の端縁と対向する位置に支持部42Bを有している。支持部42Bの上面は、固定層52を介してタッチパネル20の下面と接している。なお、筐体40は、表示パネル11およびタッチパネル20を支持することができれば、上記とは異なる構成となっていてもよい。
[製造方法]
次に、図9〜図12を参照しつつ、タッチパネル20の製造方法の一例について説明する。まず、カバー基板22を切り出すための大面積の大板ガラス220を用意する(図9(A)参照)。次に、凹部22Aを形成することとなる領域に対応して開口部300Aを有し、それ以外の領域を被覆する被覆部300Bを有するマスク300を、大板ガラス220の表面に形成する(図9(A))。続いて、ウエットエッチング(ケミカルエッチング)により、大板ガラス220のうち開口部300A内に露出している部分を選択的に除去し、大板ガラス220の表面に複数の凹部22Aを形成する(図9(B))。その後、マスク300を除去する。
次に、カバー基板22の大きさに対応する大きさの複数の被覆部310Bを有し、それ以外の領域にマトリックス状に延在する開口部310Aを有するマスク310を、大板ガラス220のうち凹部22Aの形成されている表面に形成する(図10(A))。さらに、被覆部310Bとの対向領域に被覆部320Bを有し、開口部310Aとの対向領域に開口部320Aを有するマスク320を、大板ガラス220のうち凹部22Aの形成されている表面とは反対側の表面に形成する(図10(A))。続いて、ウエットエッチング(ケミカルエッチング)により、大板ガラス220のうち開口310A,320A内に露出している部分(大板ガラス220のうち凹部22Aの未形成部分の一部)を選択的に除去し、大板ガラス220にマトリクス状の溝22Bを形成する(図10(B))、そして、さらに、エッチングを進行させることにより、大板ガラス220を、多数のガラスピース221に分離する(図11)。その後、マスク310,320を除去した上で、ガラスピース221に対して、表面全体に渡って上述の化学強化処理を施す。このようにして、カバー基板22が完成する。
次に、センサー基板21を用意する。次に、センサー基板21を、化学強化処理のなされたカバー基板22とセンサー基板21とを互いに固定することの可能な固定層23Dを介して、凹部22Aに収容する(図12)。このとき、カバー基板22の下面と、センサー基板21の下面(支持基板21Aの下面)とが、同一またはほぼ同一の面内となるように、センサー基板21を凹部22Aに収容することが好ましい。続いて、固定層23Dを固化させることにより、センサー基板21を凹部22Aの底面に固定する。このようにして、タッチパネル20が完成する。
[動作]
次に、本実施の形態の表示装置1における動作の一例について説明する。まず、例えば、表示装置1の電源投入により、制御装置30は、タッチパネル20の動作を開始する。制御装置30は、まず、センサー電極21Bに含まれる1または複数の電極を選択し、選択した電極に交流信号を印加する。このとき、指などが検出面に接触していたとすると、制御装置30は、指などの検出面への接触によってセンサー電極21Bに生じた静電容量の変化を、出力電圧の変化として検知する。制御装置30は、検知された出力電圧(または出力電圧の変化)の情報に基づいて、指などの接触座標を導出する。制御装置30は、導出した、指などの接触座標についての情報を外部に出力する。
[効果]
次に、比較例と参照しつつ、本実施の形態の表示装置1の効果について説明する。
貼り合わせ型のタッチパネルでは、通常、センサーガラスとカバーガラスのサイズが互いに異なる。そのため、タッチパネルの端部に段差ができ、その段差が、当該タッチパネルを電子機器に組み込む際の構造上の制約になり得る。また、その段差の部分には、通常、タッチパネルを筐体などに貼り合わせる両面テープが設けられる。しかし、実際に、両面テープを設ける際には、例えば、センサーガラスをカバーガラスに貼り合わせる際の貼り合わせ誤差や、センサーガラスをカバーガラスに貼り合わせる際に使用する接着剤のはみ出しなどを考慮する必要がある。そのため、両面テープを設けるスペースが、それらを考慮した分だけ、広くなり、狭額縁化が妨げられる。一方で、兼用型のタッチパネルでは、タッチパネルの端部に段差は無いので、上述したような構造上の制約が無い。また、センサーガラスの端部に両面テープを設ける際に、貼り合わせ誤差や接着剤のはみ出しなどを考慮する必要もないので、狭額縁にすることが容易である。しかも、センサーガラスがカバーガラスを兼ねている分だけ、薄型になるという利点がある。
しかし、兼用型のタッチパネルでは、センサーガラスがカバーガラスを兼用する関係で、センサーガラス自体が強化ガラスとなっている必要がある。ところが、兼用型のタッチパネルに用いられるセンサーガラスは、通常、化学強化処理された大板ガラスの表面に多数の電極パターンを形成した後に、大板ガラスを電極パターンごとにダイシングすることにより切り出される。そのため、センサーガラスの端面が非強化状態となってしまうので、例えば、センサーガラスのエッジ部分に応力がかかる4点曲げ状態の強度が落ちる。
一方、本実施の形態では、カバー基板22の凹部22Aに、センサー基板21が収容されている。これにより、タッチパネル20の端部に固定層54を設ける際に、貼り合わせ誤差や接着剤のはみ出しなどを考慮する必要がないので、狭額縁にすることが容易である。しかも、カバー基板22の凹部22Aに、センサー基板21が収容されているので、2枚の基板を単純に重ね合わせたときよりも薄型にすることができる。さらに、本実施の形態では、カバー基板22には、表面全体に渡って化学強化処理がなされている。これにより、薄型でありながら高強度を保つことができる。以上のことから、本実施の形態では、狭額縁、薄型といった兼用型の利点を享受しつつ、高強度化することができる。
また、本実施の形態において、支持基板21Aの下面と、カバー基板22の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている場合には、兼用型のタッチパネルと同様、フラットな一枚板となるので、タッチパネル20を電子機器に組み込む際の構造上の制約がない。また、この場合、固定層54をカバー基板22の下面のうち凹部22Aの周囲だけでなく、カバー基板22の下面の外縁にも貼り合わせることができるので、カバー基板22の下面のうち凹部22Aの周囲の幅を狭くすることができる。その結果、タッチパネル20を狭額縁化することができる。
<3.変形例>
以上、実施の形態を挙げて本技術を説明したが、本技術は実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態で示した製造方法とは異なる方法で、タッチパネル20を製造することが可能である。以下に、図13、図14および図15を参照しつつ、その製造方法について説明する。
まず、カバー基板22を切り出すための大面積の大板ガラス220を用意する(図13(A)参照)。次に、カバー基板22の大きさに対応する大きさの複数の被覆部310Bを有し、それ以外の領域にマトリックス状に延在する開口部310Aを有するマスク310を、大板ガラス220の一方の面に形成する(図13(A))。さらに、被覆部310Bとの対向領域に被覆部320Bを有し、開口部310Aとの対向領域に開口部320Aを有するマスク320を、大板ガラス220の他方の面に形成する(図13(A))。続いて、ウエットエッチング(ケミカルエッチング)により、大板ガラス220のうち開口310A,320A内に露出している部分を選択的に除去し、大板ガラス220にマトリクス状の溝22Bを形成する(図13(B))、そして、さらに、エッチングを進行させることにより、大板ガラス220を、所定の大きさの多数のガラスピース222に分離する(図14)。その後、マスク310,320を除去する。
次に、凹部22Aを形成することとなる領域に対応して開口部330Aを有し、それ以外の領域を被覆する被覆部330Bを有するマスク330を、ガラスピース222の表面に形成する(図15(A))。続いて、ウエットエッチング(ケミカルエッチング)により、ガラスピース222のうち開口部330A内に露出している部分を選択的に除去し、ガラスピース222に凹部22Aを形成する(図15(B))。
その後、マスク330を除去した上で、ガラスピース222に対して上述の化学強化処理を施す。このようにして、カバー基板22が完成する。
次に、センサー基板21を用意する。次に、センサー基板21を、化学強化処理のなされたカバー基板22とセンサー基板21とを互いに固定することの可能な固定層23Dを介して、凹部22Aに収容する(図12)。このとき、カバー基板22の下面と、センサー基板21の下面(支持基板21Aの下面)とが、同一またはほぼ同一の面内となるように、センサー基板21を凹部22Aに収容することが好ましい。続いて、固定層23Dを固化させることにより、センサー基板21を凹部22Aの底面に固定する。このようにして、タッチパネル20が完成する。
<4.適用例>
次に、上記実施の形態およびその変形例に係る表示装置1の一適用例について説明する。図16は、本適用例に係る電子機器100の概略構成の一例を表す斜視図である。電子機器100は、携帯電話機であり、例えば、図16に示したように、本体部111と、本体部111に対して開閉可能に設けられた表示体部112とを備えている。本体部111は、操作ボタン115と、送話部116を有している。表示体部112は、表示装置113と、受話部117とを有している。表示装置113は、電話通信に関する各種表示を、表示装置113の表示画面114に表示するようになっている。電子機器100は、表示装置113の動作を制御するための制御部(図示せず)を備えている。この制御部は、電子機器100全体の制御を司る制御部の一部として、またはその制御部とは別に、本体部111または表示体部112の内部に設けられている。
表示装置113は、上記実施の形態およびその変形例に係る表示装置1と同一の構成を備えている。これにより、表示装置1の額縁を狭くすることができるので、表示装置1の額縁を狭くした分だけ、映像表示面を広げたり、または、電子機器100を小型化したりすることができる。
なお、上記実施の形態およびその変形例に係る表示装置1を適用可能な電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。
また、例えば、本技術は以下のような構成を取ることができる。
(1)
下面に凹部を有し、かつ表面全体が化学強化処理のなされたカバー基板と、
支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ前記凹部に収容されたセンサー基板と
を備えた
タッチパネル。
(2)
前記カバー基板の下面と、前記支持基板の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている
(1)に記載のタッチパネル。
(3)
映像を生成する映像生成装置と、
前記映像生成装置の表面に配置されたタッチパネルと、
前記映像生成装置および前記タッチパネルを制御する制御装置と
を備え、
前記タッチパネルは、
下面に凹部を有するカバー基板と、
支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ前記凹部に収容されたセンサー基板と
を有する
表示装置。
(4)
表示装置を備え、
前記表示装置は、
映像を生成する映像生成装置と、
前記映像生成装置の表面に配置されたタッチパネルと、
前記映像生成装置および前記タッチパネルを制御する制御装置と
を有し、
前記タッチパネルは、
下面に凹部を有するカバー基板と、
支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ前記凹部に収容されたセンサー基板と
を有する
電子機器。
(5)
表面に凹部を有するカバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する第1工程と、
支持基板の上面または下面にセンサー電極を有するセンサー基板を、化学強化処理のなされたカバー基板と前記センサー基板とを互いに固定する固定層を介して、前記凹部に収容する第2工程と
を含む
タッチパネルの製造方法。
(6)
前記第2工程において、前記カバー基板の下面と、前記支持基板の下面とが、同一またはほぼ同一の面内となるように、前記センサー基板を前記凹部に収容する
(5)に記載のタッチパネルの製造方法。
(7)
前記第1工程において、大板ガラスの表面に複数の凹部を形成したのち、前記大板ガラスのうち前記凹部の未形成部分を分離することにより前記カバー基板を形成し、その後、前記カバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する
(5)または(6)に記載のタッチパネルの製造方法。
(8)
前記第1工程において、大板ガラスを所定の大きさのガラスピースに分離したのち、表面に凹部を形成することにより前記カバー基板を形成し、その後、前記カバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する
(5)または(6)に記載のタッチパネルの製造方法。
1…表示装置、1A…映像表示面、10…映像生成装置、11…表示パネル、12…バックライト、20…タッチパネル、21…センサー基板、21A…支持基板、21B…センサー電極、22…カバー基板、22A…凹部、22B…溝、23,23D,51,52,53,54…固定層、30…制御装置、40…筐体、41…台座部、42…枠部、42A,42B…支持部、100…電子機器、101…誘電体、102,103…電極、104,109…容量素子、105…交流信号源、106…電圧検出回路、107…抵抗、108…基準電位線、111…本体部、112…表示体部、113…表示装置、114…表示画面、115…操作ボタン、116…送話部、117…受話部、220…大板ガラス、221,222…ガラスピース、300,310,320,330…マスク、300A,310A,320A,330A…開口部、300B,310B,320B,330B…被覆部、I0,I1,I2…電流、Sg…交流矩形波、Vdet…検出信号、V0,V1…波形、Vth…閾値電圧。

Claims (7)

  1. 下面に凹部を有し、かつ表面全体が化学強化処理のなされたカバー基板と、
    支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ前記凹部に収容されたセンサー基板と
    を備え
    前記支持基板は、前記凹部の内側面との間に隙間を設けて配置され、
    前記カバー基板の下面と、前記支持基板の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている
    タッチパネル。
  2. 前記支持基板の下面と、前記カバー基板の下面とは、固定層により固定されている
    請求項1に記載のタッチパネル。
  3. 映像を生成する映像生成装置と、
    前記映像生成装置の表面に配置されたタッチパネルと、
    前記映像生成装置および前記タッチパネルを制御する制御装置と
    を備え、
    前記タッチパネルは、
    下面に凹部を有するカバー基板と、
    支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ前記凹部に収容されたセンサー基板と
    を有し、
    前記支持基板は、前記凹部の内側面との間に隙間を設けて配置され、
    前記カバー基板の下面と、前記支持基板の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている
    表示装置。
  4. 表示装置を備え、
    前記表示装置は、
    映像を生成する映像生成装置と、
    前記映像生成装置の表面に配置されたタッチパネルと、
    前記映像生成装置および前記タッチパネルを制御する制御装置と
    を有し、
    前記タッチパネルは、
    下面に凹部を有するカバー基板と、
    支持基板の上面または下面にセンサー電極を有し、かつ前記凹部に収容されたセンサー基板と
    を有し、
    前記支持基板は、前記凹部の内側面との間に隙間を設けて配置され、
    前記カバー基板の下面と、前記支持基板の下面とは、同一またはほぼ同一の面内に配置されている
    電子機器。
  5. 面に凹部を有するカバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する第1工程と、
    支持基板を前記凹部の内側面との間に隙間を設けて配置し、前記カバー基板の下面と、前記支持基板の下面とが、同一またはほぼ同一の面内となるように、前記支持基板の上面または下面にセンサー電極を有するセンサー基板を、前記凹部に収容する第2工程と
    を含む
    タッチパネルの製造方法。
  6. 前記第1工程において、大板ガラスの表面に複数の前記凹部を形成したのち、前記大板ガラスのうち前記凹部の未形成部分を分離することにより前記カバー基板を形成し、その後、前記カバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する
    請求項5に記載のタッチパネルの製造方法。
  7. 前記第1工程において、大板ガラスを所定の大きさのガラスピースに分離したのち、表面に前記凹部を形成することにより前記カバー基板を形成し、その後、前記カバー基板を、表面全体に渡って化学強化処理する
    請求項5に記載のタッチパネルの製造方法。
JP2012021652A 2012-02-03 2012-02-03 タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器 Expired - Fee Related JP5826655B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012021652A JP5826655B2 (ja) 2012-02-03 2012-02-03 タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012021652A JP5826655B2 (ja) 2012-02-03 2012-02-03 タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013161201A JP2013161201A (ja) 2013-08-19
JP5826655B2 true JP5826655B2 (ja) 2015-12-02

Family

ID=49173410

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012021652A Expired - Fee Related JP5826655B2 (ja) 2012-02-03 2012-02-03 タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5826655B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6684167B2 (ja) * 2016-06-27 2020-04-22 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004079467A (ja) * 2002-08-22 2004-03-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd El素子用封止板、及び該封止板多面取り用マザーガラス基板
JP2004063395A (ja) * 2002-07-31 2004-02-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd El素子用封止板、及び該封止板多面取り用マザーガラス基板
JP5133204B2 (ja) * 2008-11-06 2013-01-30 株式会社ジャパンディスプレイイースト タッチパネル
JP2010244772A (ja) * 2009-04-03 2010-10-28 Sony Corp 静電容量式タッチ部材及びその製造方法、並びに静電容量式タッチ検出装置
WO2011070696A1 (ja) * 2009-12-08 2011-06-16 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
JP5376461B2 (ja) * 2010-03-23 2013-12-25 株式会社ジャパンディスプレイ 静電容量型タッチパネルの製造方法および静電容量型タッチパネル
JP5518629B2 (ja) * 2010-08-16 2014-06-11 信越ポリマー株式会社 入力装置
WO2013088988A1 (ja) * 2011-12-12 2013-06-20 コニカミノルタ株式会社 カバーガラスおよびその製造方法
JP5878562B2 (ja) * 2011-12-27 2016-03-08 Hoya株式会社 電子機器用カバーガラス及びその製造方法、並びに電子機器用タッチセンサモジュール

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013161201A (ja) 2013-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9569039B2 (en) Capacitive touch panel
US8603574B2 (en) Curved touch sensor
JP5840522B2 (ja) タッチパネル、表示装置および電子機器
CN104375681A (zh) 触控面板及触控显示装置
JP2013152562A (ja) タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器
US9851859B2 (en) Touch window and touch device including the same
JP2013045100A (ja) タッチセンサ内蔵型カラーフィルタ基板及びその製造方法
JP2013168172A (ja) 薄型タッチ装置
JP5756031B2 (ja) 検出装置、表示装置および電子機器
JP2011100433A (ja) タッチスクリーン入力装置及びその製造方法
KR101703503B1 (ko) 회로기판을 이용하여 터치센서 칩에 감지 신호를 전달하는 접촉 감지 패널 및 접촉 감지 장치
US20140225862A1 (en) Touch panel
JP2006259815A (ja) タッチパネル
US20050017956A1 (en) Touch panel
JP2013254375A (ja) タッチパネル及びその製造方法
JP5836817B2 (ja) タッチパネル、表示装置および電子機器
TWI416924B (zh) 觸控顯示面板、顯示器及行動電話
US9285622B2 (en) Touch panel and manufacturing method
JP5826655B2 (ja) タッチパネルおよびその製造方法、表示装置、ならびに電子機器
KR20090090098A (ko) 터치윈도우 및 그 제조방법
KR101390991B1 (ko) 터치스크린 패널 제조방법
US20150136450A1 (en) Touch panel and method of manufacturing the same
JP2014191779A (ja) 入力機能付き表示装置、および電子機器
KR101077219B1 (ko) 터치 스크린 및 그 제조 방법
JP2015125562A (ja) タッチ式情報入力画像表示装置及び情報機器

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140416

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20140416

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150407

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151006

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151014

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5826655

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees