JP5807140B1 - 合成ペンタペプチドの製造法 - Google Patents

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Abstract

工業的に有利に、高純度のペンタペプチドを製造する方法及びその製造中間体の提供。次の式(1)(式中、R1はアルキル基又はアラルキル基を示す)で表される化合物又はその塩。

Description

本発明は、合成ペンタペプチドの製造法及びその製造中間体に関する。
κオピオイド受容体アゴニストは、種々の疼痛の治療薬として有用であることが知られている。このうち、末梢κオピオイド受容体に高い選択性を有するκオピオイド受容体アゴニストが、中枢性の副作用を生じない医薬として期待されている。そのような末梢選択性κオピオイド受容体アゴニストとして、合成ペンタペプチドが報告されている(特許文献1及び2)。
合成ペンタペプチドの中でも下記式(A)
Figure 0005807140
で表される化合物は、疼痛治療薬として有用である。この化合物の製造法としては、上記特許文献1及び2に固相ペプチド合成法が記載されている。
特表2010−510966号公報 特開2013−241447号公報
しかしながら、固相ペプチド合成法による製造では、ペンタペプチド保護体を合成後、樹脂からの脱離と全脱保護を行った後、分取HPLCにより精製が行なわれている。この精製には大型の分取HPLC装置が必要であり、精製にも長時間を要する。一方、液相法によるペプチド合成も可能であるが、中間工程のペンタペプチド保護体を脱保護した後、化合物(A)を精製しようとしたところ、得られる化合物(A)の純度は80%未満であり、高純度の化合物(A)は得られないことが判明した。
従って、本発明の課題は、高純度の化合物(A)を工業的に有利に製造する方法を提供することにある。
そこで本発明者は、高純度の化合物(A)を製造する方法について検討してきたところ、全く意外にも、化合物(A)のN−及びO−保護体から、N−保護基のみを脱離させた下記化合物(1)を単離したところ、当該化合物(1)はスラリー法や再結晶法により高純度に精製可能であり、これを加水分解すれば90%以上の高純度の化合物(A)が工業的に有利に製造できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、次の〔1〕〜〔4〕を提供するものである。
〔1〕次の式(1)
Figure 0005807140
(式中、R1はアルキル基又はアラルキル基を示す)
で表される化合物又はその塩。
〔2〕R1が、アルキル基である〔1〕記載の化合物又はその塩。
〔3〕酸付加塩である〔1〕又は〔2〕記載の化合物又はその塩。
〔4〕〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の化合物又はその塩を加水分解することを特徴とする式(A)
Figure 0005807140
で表される化合物又はその塩の製造法。
化合物(1)は、簡便な操作で精製可能であり、当該化合物(1)を加水分解すれば高純度の化合物(A)が工業的に有利に製造可能である。
本発明の化合物(1)又はその塩は、化合物(A)の合成中間体として有用である。
式(1)中、R1はアルキル基又はアラルキル基を示す。アルキル基としては、炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられる。このうち、炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ましく、炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基がより好ましい。当該アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられるが、メチル基が特に好ましい。
アラルキル基としては、総炭素数7〜18のアラルキル基が好ましく、C6-14アリール−C1-4アルキル基がより好ましく、フェニル−C1-4アルキル基がさらに好ましく、ベンジル基が特に好ましい。
前記のR1のうち、アルキル基が好ましく、C1-6アルキル基がより好ましく、C1-4アルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
また、化合物(1)の塩としては、酸付加塩が挙げられ、具体的には塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の無機酸塩;酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩等の有機酸塩が挙げられ、無機酸塩としては塩酸塩が好ましく、有機酸塩としてはトリフルオロ酢酸塩が好ましい。このうち塩酸塩がより好ましい。
化合物(1)及びその塩のうち、結晶の形態で単離が容易であり、精製が容易である点で、R1がC1-6アルキル基である化合物(1)の塩が好ましく、R1がC1-6アルキル基である化合物(1)の酸付加塩がより好ましく、R1がC1-4アルキル基である化合物(1)の酸付加塩がさらに好ましく、R1がメチル基である化合物(1)の酸付加塩が特に好ましい。
化合物(1)又はその塩及び化合物(A)は、例えば次の反応式に示すように、4−アミノピペリジン−4−カルボン酸、D−リジン(D−Lys)、D−ロイシン(D−Leu)、D−フェニルアラニン(D−Phe)及びD−フェニルアラニン(D−Phe)を順次縮合させる液相ペプチド合成法により製造することができる。
Figure 0005807140
Figure 0005807140
(式中、P1及びP2はそれぞれN−保護基を示し、R1は前記と同じである)
上記反応式中、P1及びP2で示されるN−保護基は、それぞれ異なる脱離手段で脱離できる保護基が好ましい。これらの保護基としては、(1)酸で脱離できる保護基(例えば、tert−ブトキシカルボニル基(Boc)、p-メトキシベンジルオキシカルボニル基(Moz)、ホルミル基(CHO)、2-(トリメチルシリル)エトキシカルボニル基(Teoc)、1-アダマンチルオキシカルボニル基(Adoc)、2−(p−ビフェニル)イソプロピルオキシカルボニル基(Bpoc)、トリフェニルメチル基(Tr)、メトキシメチル基(MOM));(2)還元で脱離できる保護基(例えば、ベンジルオキシカルボニル基(Cbz)、アリル基(Allyl)、N-ベンジルオキシメチル基(BOM));(3)二級アミンで脱離できる保護基(例えば、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基(Fmoc)、2−(4−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基(Npeoc));(4)亜鉛末−酢酸などで脱離できる保護基(例えば、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基(Troc)、N-ジチアスクシノイル基(Dts)、ベンゾチアゾール-2-スルホニル基(Betsyl)、1,1-ジメチル-2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル基(TcBoc)、N-(ジフェニル-4-ピリジル)メチル基(Dppm));(5)パラジウム触媒下、アミンなどで脱離できる保護基(例えば、アリルオキシカルボニル基(Alloc))等が挙げられる。P1及びP2として、これらの保護基のうち、脱離条件が異なるものを選択して用いればよい。例えばP1としては、Bocが好ましく、P2としてはCbzが好ましい。
化合物(2)と保護D−Leuとの縮合、化合物(4)と保護D−Leuとの縮合、化合物(6)と保護D−Pheとの縮合、及び化合物(8)と保護D−Pheとの縮合反応は、例えばモレキュラーシーブ、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDC・HCl)、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等の縮合剤の存在下に行うことができる。具体的には、縮合剤の存在下、ハロゲン系、エステル系またはエーテル系等の溶媒中、0〜40℃で1〜48時間反応により行うことができる。
また、脱保護反応は、前記の保護基の種類に応じた方法を選択して行うことができる。化合物(1)を塩酸塩等の酸付加塩として得るためには、P1として酸で脱離できる保護基(例えばBoc)を選択するのが好ましく、P2として還元で脱離できる保護基(例えば(Cbz))を選択するのが好ましい。P1としてBocを用いた場合、例えば酸を用いる加水分解によりP1を脱保護すれば、化合物(1)の酸付加塩が得られる。還元による脱保護は、例えば、金属触媒の存在下、エステル系またはエーテル系等の溶媒中、0〜40℃、1〜48時間反応により行うことができる。酸による脱保護は、例えば無機酸やトリフルオロ酢酸等の存在下、エステル系またはエーテル系等の溶媒中、0〜40℃、1〜48時間反応により行うことができる。
化合物(1)の塩は、再結晶などにより容易に精製できる。また化合物(1)の塩は、精製しなくても十分高純度である。従って、化合物(1)の塩を加水分解すれば、高純度の化合物(A)が製造できる。ここで加水分解反応は、例えば塩基の存在下に行うのが好ましい。具体的には、水酸化ナトリウム等の存在下、水やアルコール系等の溶媒中、0〜40℃、1〜48時間反応により行うことができる。
本発明方法(液相法)による化合物(A)の製造法によれば、固相合成法に比べ、ジアステレオマーや欠損ペプチドといった除去困難な不純物が生じにくく、またできたとしても、中間工程で除去できる。また、固相合成法に比べ、中間体化合物を単離できるため、スラリー法や再結晶法など、操作が比較的容易で高価な設備投資を要しない濾過的精製法が実施可能であり、例えばHPLC測定で純度99%の高純度の目的物を得ることが容易である。
固相合成法では、塩化メチレンやジメチルホルムアミド等、使用する溶媒が限定されるのに比べ、液相合成法では、工業化に適した安全で安価な溶媒を使用することが可能である。固相合成法に比べ、大量合成が容易である。固相合成法では最終化合物の精製に「分取HPLC法」(一般的に高額の設備、大量の有機溶媒を要する)を要することが多いが、液相合成法ではこれらの問題を回避することができる。
次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
(1)Cbz−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(3)の合成
2Lの4つ口フラスコに、α−Boc−Pic−OMe・HCl[α−Boc−4−アミノピペリジン−4−カルボン酸メチル塩酸塩](2)43.7g(148mmol)を仕込み、EtOAc 656mL(15v/w)に懸濁させた。この懸濁液に1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)27.2g(178mmol)、Cbz−D−Lys(Boc)−OH 59.2g(156mmol)を加え氷浴にて冷却しながら1−エチル−3−(3−ジメチアミノプロピル)カルボジイミド・HCl(EDC・HCl)34.1g(178mmol)を添加した。20分後、室温に昇温し12時間撹拌した。反応終了後、1N HCl 218mL(5.0v/w)を加え有機層を分液した。得られた有機層にNaHCO3aq.218mL(5.0v/w)、Et3N 33.0g(326mmol)を加え30分撹拌して、分液した。有機層を1N HCl 218mL(5.0v/w)、NaHCO3aq.218mL(5.0v/w)、NaClaq.218mL(5.0v/w)で順次洗浄し、Na2SO4 8.74g(0.2w/w)を加え乾燥させた。減圧濾過を行い、得られた濾液をエバポレーターにて減圧濃縮後、真空ポンプでポンプアップし、Cbz−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(3)88.9gを白色固体として得た(収率96.5%、HPLC純度96.5%)。
(2)D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(4)の合成
2Lのナスフラスコに、Cbz−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(3)88.3g(142mmol)を仕込み、EtOAcを441mL(5.0v/w)加え溶解させた。反応液に5%Pd/Cを17.7g(0.2w/w)加え、減圧雰囲気下窒素置換を3回行った後、水素置換を3回行った。反応溶液を室温で18時間激しく撹拌し、反応終了後減圧濾過してPd/Cを除去した。得られた濾液にNaHCO3aq.441mL(5.0v/w)を加え分液し、水層にEtOAc 200mL(2.3v/w)を加えて有機層を抽出した。合わせた有機層にNaHCO3aq.441mL(5.0v/w)を加え分液し、水層にEtOAc 200mL(2.3v/w)を加え有機層を抽出した。合わせた有機層にNaClaq.441mL(5.0v/w)を加えて分液し、水層にEtOAc 200mL(2.3v/w)を加えて抽出した。合わせた有機層にNa2SO4 17.7g(0.2w/w)を加え乾燥させ、減圧濾過を行い得た濾液をエバポレーターにて減圧濃縮させ、真空ポンプでポンプアップし、D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(4)を62.7g得た(収率90.5%、HPLC純度93.6%)。
(3)Cbz−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(5)の合成
2Lの4つ口フラスコに、D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(4)57.7g(120mmol)を仕込み、EtOAc 576mL(10v/w)に懸濁させた。この懸濁液にHOBt 19.3g(126mmol)、Cbz−D−Leu−OH 33.4g(126mmol)を加え氷浴にて冷却しながらEDC・HCl 24.2g(126mmol)を添加した。20分後、室温に昇温し5時間撹拌した後、さらにEDC・HClを1.15g(6.00mmol)添加して16時間撹拌した。反応終了後、1N HCl 576mL(10v/w)を加え分液した。得られた有機層にNaHCO3aq.576mL(10v/w)、Et3N 24.3g(240mmol)を加え30分撹拌して、分液した。有機層を1N HCl 576mL(10v/w)、NaHCO3aq.576mL(10v/w)、NaClaq.576mL(10v/w)で順次洗浄し、Na2SO4 11.5g(0.2w/w)を加え乾燥させた。減圧濾過を行い得られた濾液をエバポレーターにて減圧濃縮後、真空ポンプでポンプアップし、Cbz−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(5)85.8gを白色固体として得た(収率98.7%、HPLC純度96.9%)。
(4)D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(6)の合成
1Lのナスフラスコに、Cbz−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(5)を91.9g(125mmol)仕込み、EtOAcを459mL(5.0v/w)加え溶解させた。反応液に5%Pd/Cを18.4g(0.2w/w)加え、減圧雰囲気下窒素置換を3回行った後、水素置換を3回行った。反応溶液を室温で8時間激しく撹拌を行い、反応終了後減圧濾過してPd/Cを除去した。得られた濾液にNaHCO3aq.200mL(2.2v/w)を加え分液し、有機層にNaHCO3aq.200mL(2.2v/w)、NaClaq.200mL(2.2v/w)を順次加え洗浄した。得られた有機層にNa2SO4 18.4g(0.2w/w)を加え乾燥させ、減圧濾過を行い得た濾液をエバポレーターにて減圧濃縮させ、真空ポンプでポンプアップした。得られたアモルファス状の固体にEtOAc 200mL(2.2v/w)を加え溶解させ、ヘプタン50mL(1.8v/w)を加えて晶析させた。減圧濾過して析出結晶を濾別し、EtOAc 120mL(1.3v/w)、ヘプタン50mL(0.3v/w)の混合溶媒で結晶を洗浄した。得られた結晶46.1gにEtOAc 480mL(5.2v/w)を加え溶解させ、シクロヘキサン660mL(7.2v/w)を加え晶析させた。減圧濾過して析出結晶を濾別し、シクロヘキサン120mL(1.3v/w)、EtOAc 20mL(0.2v/w)の混合溶媒で洗浄し、30℃減圧乾燥し、白色固体としてD−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(6)を36.6g得た(収率48.7%、HPLC純度99.9%)。
(5)Cbz−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(7)の合成
1Lの4つ口フラスコに、D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(6)を35.8g(59.6mmol)仕込み、EtOAc 358mL(10v/w)に懸濁させた。この懸濁液にHOBt 9.59g(62.6mmol)、Cbz−D−Phe−OH 18.7g(62.6mmol)を加え氷浴にて冷却しながらEDC・HCl 12.0g(62.6mmol)を添加した。20分後、室温に昇温し16時間撹拌した後さらにEDC・HClを3.09g(16.1mmol)添加した。反応終了後、1N HCl 358mL(10v/w)を加え有機層を分液した。得られた有機層にNaHCO3aq.358mL(10v/w)、Et3N 12.1g(119mmol)を加え30分撹拌して、分液した。有機層を1N HCl 358mL(10v/w)、NaHCO3aq.358mL(10v/w)、NaClaq.358mL(10v/w)で順次洗浄し、Na2SO4 7.16g(0.2w/w)を加え乾燥させた。減圧濾過を行い得た濾液をエバポレーターにて減圧濃縮後、真空ポンプでポンプアップし、Cbz−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(7)を白色固体として52.5g得た(収率quant、HPLC純度97.6%)。
(6)D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(8)の合成
2Lのナスフラスコに、Cbz−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(7)を46.9g(53.3mmol)仕込み、EtOAcを840mL(18v/w)、H2O 93.8mL(2.0v/w)を加え溶解させた。反応液に5% Pd/Cを9.38g(0.2w/w)加え、減圧雰囲気下窒素置換を3回行った後、水素置換を3回行った。反応溶液を室温で10時間激しく撹拌を行い、反応終了後減圧濾過してPd/Cを除去した。得られた濾液にNaHCO3aq.235mL(5.0v/w)を加え分液し、有機層にNaHCO3aq.235mL(5.0v/w)、NaClaq.235mL(5.0v/w)を順次加え洗浄した。得られた有機層にNa2SO4 9.38g(0.2w/w)を加え乾燥させ、減圧濾過を行い得た濾液をエバポレーターにて減圧濃縮させ、真空ポンプでポンプアップしてD−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(7)を39.7g得た(収率quant、HPLC純度97.3%)。
(7)Boc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(9)の合成
1Lの4つ口フラスコに、D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(8)を35.1g仕込み、EtOAc 351mL(10v/w)に懸濁させた。この懸濁液にHOBt 7.92g(51.7mmol)、Boc−D−Phe−OH 13.1g(49.4mmol)を加え氷浴にて冷却しながらEDC・HCl 9.91g(51.7mmol)を添加した。20分後、室温に昇温し8時間撹拌後さらにEDC・HClを2.25g(11.7mmol)添加した。反応終了後、1N HCl 351mL(10v/w)を加え有機層を分液した。得られた有機層にNaHCO3aq.351mL(10v/w)、Et3N 9.51g(94.0mmol)を加え30分撹拌して、分液した。有機層を1N HCl 351mL(10v/w)、NaHCO3aq.351mL(10v/w)、NaClaq.351mL(10v/w)で順次洗浄し、Na2SO4 7.02g(0.2w/w)を加え乾燥させた。減圧濾過を行い得た濾液をエバポレーターにて減圧濃縮後、真空ポンプでポンプアップし、Boc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(9)を白色固体として46.7g得た(収率quant、HPLC純度98.6%)。
(8)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩(1)の合成
20mLのナスフラスコにBoc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(9)を2.00g仕込み、IPA 3.3mL(1.65v/w)、PhMe 10mL(5v/w)を加えて懸濁させた。6N HCl/IPA 6.7mL(3.35v/w)を加えて室温で19時間撹拌した。析出した固体を減圧濾過で濾別し、減圧乾燥して白色固体のD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩(1)を1.59g(収率99.0%、HPLC純度98.2%)得た。
(9)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩(1)の精製
20mLのナスフラスコにD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩粗晶(1)200mgを仕込み、EtOH:MeCN=1:5の混合溶媒4.0mL(20v/w)を加え40℃に加熱して1時間撹拌した後、さらに室温で2時間撹拌スラリーした。減圧濾過して濾別し、得られた固体を減圧乾燥して白色固体((1)精製晶)を161mg得た(収率80%、HPLC純度99.2%)。
(10)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)の合成(精製した(1)を使用)
10mLのナスフラスコにD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩(1)精製晶38.5mg(0.0488mmol)を仕込み、H2O 0.2mL(5.2v/w)を加え溶解させた。室温にて1N NaOH 197μL(0.197mmol)を滴下して1.5h撹拌した。反応終了後、1N HCl 48.8μL(0.0488mmol)を加えエバポレーターにて減圧濃縮を行い、D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)を得た(収率quant、HPLC純度99.7%)。
D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe(1)の物性
1H NMR(400MHz, 1M DCl) δ ppm : 0.85-1.02 (m, 6 H), 1.34-1.63 (m, 5 H), 1.65-2.12 (m, 5 H), 2.23-2.45 (m, 2 H), 2.96-3.12 (m, 4 H), 3.19 (ddt, J = 5.0 & 5.0 & 10.0 Hz), 3.33-3.62 (m, 1 H), 3.68-3.82 (m, 1 H), 3.82-3.95 (m, 4 H), 3.95-4.18 (m, 1 H), 4.25-4.37 (m, 2 H), 4.61-4.77 (m, 2 H), 7.21-7.44 (m, 10 H)
13C NMR(400MHz, 1M DCl) δ ppm : 21.8, 22.5, 24.8, 27.0, 30.5, 30.8, 31.0, 31.2, 31.7, 37.2, 37.8, 38.4, 39.0, 39.8, 40.4, 40.6, 41.8, 42.3, 49.8, 50.2, 52.2, 52.6, 54.6, 55.2, 57.7, 57.9, 127.6, 128.4, 129.2, 129.6, 129.7, 129.8
d.p 209.5℃
実施例2
(トリフルオロ酢酸(TFA)使用)
(1)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe TFA塩(1)の合成
50mLのナスフラスコにTFA 18mL(18v/w)、1−ドデカンチオール1.6mL(1.6v/w)、トリイソプロピルシラン0.2mL(0.2v/w)、H2O 0.2mL(0.2v/w)を順次加え撹拌した。その溶液にBoc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(9)1.00g(1.01mmol)をスパチュラで少量ずつ添加した。反応終了後、エバポレーターにて減圧濃縮を行い、得られた残渣をIPE 20mL(20v/w)に滴下した。析出した固体を濾別し、得られた固体を減圧乾燥して白色固体としてD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe・TFA塩(1)を得た(収率93.0%、HPLC純度95.2%)。
(2)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)の合成
10mLのナスフラスコにD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe TFA塩(1)83mg(0.0843mmol)を仕込み、H2O 431μL(5.2v/w)を加えて溶解させた。室温にて1N NaOH 345μL(0.345mmol)を滴下して12h撹拌した。反応終了後、1N HCl 84.3μL(0.0843mmol)を加えエバポレーターにて減圧濃縮を行い、D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)を得た(収率quant、HPLC純度95.4%)。
実施例3
(HCl/EtOAc使用)
(1)30mLのナスフラスコにBoc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(9)1.00g(1.01mmol)を仕込み、EtOAc7.0mL(7.0v/w)を加え溶解させた。4N HCl/EtOAc 5.0mL(5.0v/w)を加え室温で24h撹拌後、析出した固体を減圧濾過して濾別し、EtOAc 2mL(2.0v/w)で洗浄した。得られた固体を減圧乾燥して白色固体としてD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe 塩酸塩(1)を781mg得た(収率96.7%、HPLC純度95.4%)。
(2)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)の合成
10mLのナスフラスコにD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe 塩酸塩(1)90mg(0.112mmol)を仕込み、H2O 0.47mL(5.2v/w)を加えて溶解させた。室温にて1N NaOH 459μL(0.459mmol)を滴下して12h撹拌した。反応終了後、1N HCl 0.112μL(0.112mmol)を加えエバポレーターにて減圧濃縮を行い、D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)を得た(収率quant、HPLC純度93.1%)。
実施例4
化合物(1)の加水分解による化合物(A)の合成(化合物(1)の精製なし)
10mLのナスフラスコにD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe(1)塩酸塩(前工程精製なし)114.5mg(0.142mmol)を仕込み、H2O 595μL(5.2v/w)を加え溶解させた。室温にて1N NaOH 586μL(0.586mmol)を滴下して14h撹拌した。反応終了後、1N HCl 0.15μL(0.150mmol)を加えエバポレーターにて減圧濃縮を行い、D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)を得た(収率quant、HPLC純度95.2%)。
比較例1
化合物(1)を経由しない経路(全保護体Boc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(a)を使用)
(1)Boc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OHの合成
30mLのナスフラスコにBoc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OMe(9)1.00g(1.00mmol)を仕込み、MeOH 5.0mL(5.0v/w)を加えて溶解させた。室温にて1N NaOH 1.1mL(1.10mmol)を加えて4日間撹拌後、さらにMeOH 5.0mL(5.0v/w)、1N NaOH 2.0mL(2.0mmol)を加えて35℃で3h撹拌した。反応終了後1N HCl 6.1mLを加え、減圧濃縮して溶媒を留去した後、EtOAc 5.0mL(5.0mL)を加えて有機層を分液した。NaClaq.5.0mL(5.0v/w)を加えて有機層を洗浄し、有機層を減圧濃縮して白色固体としてBoc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OH 975.1mg(収率99.3%、HPLC純度80.8%)
(2)D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)の合成
20mLのナスフラスコにBoc−D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys(Boc)−α−Boc−Pic−OH(10)959mg(0.978mmol)を仕込み、EtOAc 4.9mL(5.0v/w)を加えて溶解させた。室温にて4N HCl/EtOAc 4.9mL(5.0mL)を滴下して室温にて4h撹拌した。反応終了後、減圧濾過して、白色固体としてD−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic(A)を得た(収率96.4%、HPLC純度79.2%)。
本発明の化合物(1)を経由しなかった場合、得られる化合物(A)の純度は80%未満であった。
実施例5
(D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩(1)の合成)
前記実施例1の(8)において、反応溶媒IPA(1.65v/w)を、表1の溶媒と量に代えて同様に反応を行った。結果を表1に示す。
Figure 0005807140
実施例6
(D−Phe−D−Phe−D−Leu−D−Lys−Pic−OMe塩酸塩(1)の精製)
前記実施例1の(9)において、精製溶媒EtOH/MeCN(16.7:83.5、20v/w)を、表2の溶媒と量に代えて同様に反応を行った。結果を表2に示す。
Figure 0005807140

Claims (4)

  1. 次の式(1)
    Figure 0005807140
    (式中、R1はアルキル基又はアラルキル基を示す)
    で表される化合物又はその塩。
  2. 1が、アルキル基である請求項1記載の化合物又はその塩。
  3. 酸付加塩である請求項1又は2記載の化合物又はその塩。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の化合物又はその塩を加水分解することを特徴とする式(A)
    Figure 0005807140
    で表される化合物又はその塩の製造法。
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