JP5804511B2

JP5804511B2 - Exposure equipment

Info

Publication number: JP5804511B2
Application number: JP2011225050A
Authority: JP
Inventors: 義昭野村; 琢郎竹下
Original assignee: V Technology Co Ltd
Current assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2011-10-12
Filing date: 2011-10-12
Publication date: 2015-11-04
Anticipated expiration: 2031-10-12
Also published as: JP2013083884A

Description

本発明は、露光装置に関するものであって、特に、イメージセンサを用いてフォトマスクの位置調整を行う露光装置に関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly to an exposure apparatus that adjusts the position of a photomask using an image sensor.

従来、搬送される被露光体である液晶パネル用の基板と露光光を透過するマスクとの位置調整を行う露光装置が知られている。例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device Image Sensor）が、基板に予め形成された各種配線やブラックマトリックスなどの既存パターンおよびフォトマスクの基準マーク（透過光を遮蔽する遮蔽線）に対して同時に焦点を合わせることにより、画像照合を行い、この既存パターンに対するマスクのズレを補正するように制御する露光装置に関する技術が、特許文献１に提案されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, an exposure apparatus that adjusts the position of a substrate for a liquid crystal panel that is an object to be conveyed and a mask that transmits exposure light is known. For example, a CCD (Charge Coupled Device Image Sensor) simultaneously focuses on existing patterns such as various wirings and black matrix previously formed on the substrate and a photomask reference mark (shielding line that shields transmitted light). A technique relating to an exposure apparatus that performs image collation and performs control so as to correct a mask shift with respect to the existing pattern is proposed in Patent Document 1.

再公表ＷＯ２００７／１１３９３３号公報Republished WO2007 / 113933

このような露光装置は、例えば、携帯機器（例えば、携帯電話、携帯型パーソナルコンピュータ等）のような小さい液晶画面向けの基板を露光するに際し、既存パターンも小さくなるために高精度なＣＣＤを備えていないと、上記既存パターンの照合が困難となる。また、基準マークも同様に小さくする必要が生じるために、高精度なＣＣＤを備えていないと、上記既存パターンの照合が困難となるという問題があった。 Such an exposure apparatus includes a high-precision CCD because an existing pattern becomes small when a substrate for a small liquid crystal screen such as a portable device (for example, a mobile phone, a portable personal computer, etc.) is exposed. Otherwise, it is difficult to collate the existing pattern. Further, since it is necessary to make the reference mark small in the same manner, there is a problem that it is difficult to collate the existing pattern unless a high-precision CCD is provided.

そこで、本発明は、上記事情に鑑み、露光装置のＣＣＤを高精度にすることなく、所定のパターンに対して正確なマスク位置を保持することができる露光装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus that can hold an accurate mask position with respect to a predetermined pattern without increasing the accuracy of the CCD of the exposure apparatus.

本発明の露光装置は、画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板を搬送可能な基板搬送部と、基板に露光光を照射するための露光窓と、基板のパターンを観察するための透光窓とを有し、透光窓に遮蔽線を備えるフォトマスクから構成されるマスク部と、基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して透過光を照射する画像検出光源部とマスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換するイメージセンサ部とを備えるものであって、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆い、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれを部分的に覆うように設定されているものである。
「透光窓」とは、基板のパターンを観察するための覗き窓であって、例えばラインＣＣＤにより観察される窓であってもよい。
「画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板」は、例えば、カラーフィルタ基板または、アレイ基板であってもよい。また、「画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターン」は、カラーフィルタ基板の際には、予めパターンは着色されたものであって、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素の配列位置に対応する位置に配列された、隣り合う同一色のパターンであり、アレイ基板の際には、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素の配列位置に対応する位置に配列されたパターンである。「マスク部の遮蔽線の幅」は、画像情報に変換された際に、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの中心と中心との間隔幅を画素ピッチ幅とするものであってもよい。 An exposure apparatus of the present invention includes a substrate transport unit capable of transporting a substrate having a regularly arranged pattern in a matrix corresponding to each color pixel displayed on an image display screen, and exposing the substrate. Acquires image information of the substrate, and a mask part composed of a photomask having an exposure window for irradiating light and a light-transmitting window for observing the pattern of the substrate and having a shielding line in the light-transmitting window In order to do so, an image detection light source unit that irradiates the mask unit with transmitted light and an image sensor unit that converts the transmitted light acquired through the transmission window of the mask unit into image information, In the converted image information, the width of the shielding line of the mask portion covers a pattern positioned between patterns corresponding to adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen, which transmits predetermined transmitted light, Supports adjacent pixels of the same color That pattern is what is set so as to partially cover each.
The “translucent window” is a viewing window for observing the pattern of the substrate, and may be a window observed with a line CCD, for example.
The “substrate provided with a regularly arranged pattern corresponding to each color pixel displayed on the image display screen in a matrix” may be, for example, a color filter substrate or an array substrate. In addition, the “pattern corresponding to adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen” is a pattern that is pre-colored on the color filter substrate, and is adjacent to the image displayed on the image display screen. Adjacent same color pattern arranged at a position corresponding to the arrangement position of matching pixels of the same color, and on the array substrate, at the arrangement position of adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen. It is the pattern arranged in the corresponding position. The “width of the masking line of the mask portion” may be a pixel pitch width that is the distance between the centers of the patterns corresponding to adjacent pixels of the same color when converted into image information. Good.

本発明の露光装置は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、画像検出部は、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの辺に該当するエッジを検出し、マスク部は、検出されたエッジの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部が移動した後に露光光を照射するものであってもよい。 The exposure apparatus of the present invention further includes an image detection unit that performs image detection processing from image information, and an exposure unit that can irradiate exposure light from above the mask unit, and the image detection units are adjacent to each other. Edges corresponding to each side of the pattern corresponding to pixels of the same color are detected, the mask part moves relatively on the substrate based on the detected edge information, and the mask part moves in the exposure part. Then, exposure light may be irradiated.

本発明の露光装置は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、基板は、基板の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品毎にアライメントマークを付与されたものであって、画像検出部は、当該アライメントマークを検出し、マスク部は、検出されたアライメントマークの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部が移動した後に露光光を照射するものであってもよい。 The exposure apparatus of the present invention further includes an image detection unit that performs image detection processing from image information, and an exposure unit that can irradiate exposure light from above the mask unit. In addition, an alignment mark is provided for each substrate component to be cut at a predetermined interval, the image detection unit detects the alignment mark, and the mask unit is based on the detected alignment mark information. The substrate may be moved relatively on the substrate, and the exposure unit may irradiate the exposure light after the mask unit has moved.

本発明の露光装置は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、基板は、基板の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品を区切るようにアライメントラインを付与されたものであって、画像検出部は、当該アライメントラインを検出し、マスク部は、検出されたアライメントラインの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部が移動した後に露光光を照射するものであってもよい。また、本発明の露光装置は、アライメントラインと平行であって、所定のパターン無し領域を設けたものであってもよい。 The exposure apparatus of the present invention further includes an image detection unit that performs image detection processing from image information, and an exposure unit that can irradiate exposure light from above the mask unit. In addition, an alignment line is provided so as to divide the substrate component to be cut at a predetermined interval, the image detection unit detects the alignment line, and the mask unit includes information on the detected alignment line. Based on this, the substrate may be moved relatively, and the exposure unit may irradiate the exposure light after the mask unit has moved. Further, the exposure apparatus of the present invention may be provided with a predetermined non-pattern area parallel to the alignment line.

「基板部品」は、携帯機器毎の液晶画面に利用されるものである。具体的には、携帯電話、携帯型のパーソナルコンピュータのための液晶用の基板が挙げられる。 The “board component” is used for a liquid crystal screen for each portable device. Specifically, liquid crystal substrates for mobile phones and portable personal computers can be cited.

本発明の露光装置によれば、画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板を搬送可能な基板搬送部と、基板に露光光を照射するための露光窓と、基板のパターンを観察するための透光窓とを有し、該透光窓に遮蔽線を備えるフォトマスクから構成されるマスク部と、基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して透過光を照射する画像検出光源部とマスク部の透光窓を介して取得された前記透過光を画像情報に変換するイメージセンサ部とを備えるものであって、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆い、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれを部分的に覆うように設定されているものであることにより、上記隣り合う同一色の画素に対応するパターンの辺のみ検出することにより、携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、高精度なＣＣＤを用いることなく、露光のためのマスク部の正確な位置合わせを行うことができる。 According to the exposure apparatus of the present invention, a substrate transport section capable of transporting a substrate having a regularly arranged pattern in a matrix corresponding to each color pixel displayed on the image display screen, and a substrate A mask portion composed of a photomask having an exposure window for irradiating exposure light on the substrate and a light transmission window for observing the pattern of the substrate, and a shielding line in the light transmission window, and an image of the substrate In order to acquire information, an image detection light source unit that irradiates transmitted light to the mask unit and an image sensor unit that converts the transmitted light acquired through the transparent window of the mask unit into image information In the converted image information, the width of the masking line of the mask portion is located between patterns corresponding to adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen that transmit a predetermined transmitted light. Cover the pattern, the same color next to each other By being set so as to partially cover each of the patterns corresponding to the pixels, by detecting only the side of the pattern corresponding to the adjacent pixels of the same color, a small liquid crystal for portable devices Even if it is a substrate part of a product, the mask portion for exposure can be accurately aligned without using a high-precision CCD.

本発明の露光装置は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、画像検出部は、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの辺に該当するエッジを検出し、マスク部は、検出されたエッジの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部が移動した後に露光光を照射する際には、携帯機器向けのような小さな液晶画面を有する携帯機器用の基板部品であっても、露光のためのマスク部の正確な位置合わせを設定し、正確な露光を行うことができる。 The exposure apparatus of the present invention further includes an image detection unit that performs image detection processing from image information, and an exposure unit that can irradiate exposure light from above the mask unit, and the image detection units are adjacent to each other. Edges corresponding to each side of the pattern corresponding to pixels of the same color are detected, the mask part moves relatively on the substrate based on the detected edge information, and the mask part moves in the exposure part. After that, when irradiating the exposure light, even if it is a substrate part for a portable device having a small liquid crystal screen like that for a portable device, it is necessary to set an accurate alignment of the mask part for exposure. Exposure can be performed.

本発明の露光装置は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、基板は、基板の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品毎にアライメントマークを付与されたものであって、画像検出部は、当該アライメントマークを検出し、マスク部は、検出されたアライメントマークの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部が移動した後に露光光を照射する際には、アライメントマークを基準として基板の位置を追従することができるため、携帯機器向けのような小さない液晶製品画面を有する携帯機器用の基板部品であっても、アライメントマークを基準として、基板とマスク部の正確な位置合わせを設定し、正確な露光を行うことができる。 The exposure apparatus of the present invention further includes an image detection unit that performs image detection processing from image information, and an exposure unit that can irradiate exposure light from above the mask unit. In addition, an alignment mark is provided for each substrate component to be cut at a predetermined interval, the image detection unit detects the alignment mark, and the mask unit is based on the detected alignment mark information. When the exposure unit irradiates exposure light after the mask unit moves, the position of the substrate can be tracked with reference to the alignment mark, so that the exposure unit can be used for portable devices. Even if it is a board component for a portable device having a small LCD product screen, it is possible to perform accurate exposure by setting the correct alignment between the board and mask using the alignment mark as a reference. Can.

本発明の露光装置は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、基板は、基板の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品を区切るようにアライメントラインを付与されたものであって、画像検出部は、当該アライメントラインを検出し、マスク部は、検出されたアライメントラインの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部が移動した後に露光光を照射する際には、アライメントラインを基準として基板の位置を追従することができるため、携帯機器向けのような小さない液晶製品画面を有する携帯機器用の基板部品であっても、アライメントラインを基準として、基板とマスク部の正確な位置合わせを設定し、正確な露光を行うことができる。 The exposure apparatus of the present invention further includes an image detection unit that performs image detection processing from image information, and an exposure unit that can irradiate exposure light from above the mask unit. In addition, an alignment line is provided so as to divide the substrate component to be cut at a predetermined interval, the image detection unit detects the alignment line, and the mask unit includes information on the detected alignment line. Based on the alignment line, the exposure unit can move relative to the substrate, and the exposure unit can follow the position of the substrate with reference to the alignment line when irradiating the exposure light after the mask unit is moved. Even if it is a board component for a portable device with a small LCD product screen like this, the exact alignment between the board and the mask is set based on the alignment line, It can be carried out.

本発明の実施形態における露光装置の構成を説明するための図The figure for demonstrating the structure of the exposure apparatus in embodiment of this invention 本発明の実施形態におけるマスク部と、基板との構成を模式的に示した図The figure which showed typically the structure of the mask part and board | substrate in embodiment of this invention. 本発明の実施形態におけるイメージセンサ部の二重焦点構造を模式的に示した図The figure which showed typically the double focus structure of the image sensor part in embodiment of this invention 本発明の実施形態におけるイメージセンサ部が撮影した基板上の既存パターンと遮蔽線の関係を示す画像情報例を示した図The figure which showed the example of the image information which shows the relationship between the existing pattern on the board | substrate which the image sensor part in embodiment of this invention image | photographed, and a shielding line 本発明の実施形態における遮蔽線と既存パターンの画像情報を示した図The figure which showed the image information of the shielding line and the existing pattern in embodiment of this invention 本発明の実施形態における基板上のアライメントマークとセルとの配置関係を示した図The figure which showed the arrangement | positioning relationship between the alignment mark and cell on the board | substrate in embodiment of this invention 本発明の実施形態における基板上のアライメントラインとセルとの配置関係を示した図The figure which showed the arrangement | positioning relationship between the alignment line and cell on a board | substrate in embodiment of this invention

本発明の第一の実施の形態となる遮蔽線（マスクスリット）を用いた露光装置について、図面を参照しつつ説明する。 An exposure apparatus using shielding lines (mask slits) according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は、露光装置１００の構成を示した図である。また、図２は、マスク部と基板との構成を模式的に示した図である。露光装置１００は、図１および２に示すように、画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターン４をマトリクス状に備えた基板５を搬送可能な基板搬送部１０と、基板５に露光光を照射するための露光窓２２と、基板５のパターンを観察するための透光窓２３とを有し、該透光窓２３に遮蔽線４５を備えるフォトマスクから構成されるマスク部３５と、基板５の画像情報を取得するために、マスク部３５に対して、透過光を照射する画像検出光源部２０と、マスク部３５の透光窓２３を介して取得された透過光を画像情報に変換するイメージセンサ部２５とを備えるものであって、変換された画像情報において、マスク部３５の遮蔽線４５の幅は、所定の透過光を透過した、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆い、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの辺は覆うことなく設定されているものである。上述した画像表示画面のそれぞれの色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板は、例えば、カラーフィルタ基板または、アレイ基板である。また、上述した画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンは、カラーフィルタ基板の際には、予めパターンは着色されたものであって、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素の配列位置に対応する位置に配列された、隣り合う同一色のパターンであり、アレイ基板の際には、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素の配列位置に対応する位置に配列されたパターンである。以下、基板５は、カラーフィルタ基板を例に説明するが、基板５は、アレイ基板（例えば、ＴＦＴ回路等）であってもよい。図１に示すように、画像検出光源部２０は、基板５の下方から複数種の透過光を照射するものである。なお、画像検出光源部２０は、基板５の上方から複数種の透過光を照射するものであってもよく、その際には、イメージセンサ部２５は、基板５の下方に設置する。 FIG. 1 is a view showing the configuration of the exposure apparatus 100. FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the mask portion and the substrate. As shown in FIGS. 1 and 2, the exposure apparatus 100 is capable of transporting a substrate 5 provided with a regularly arranged pattern 4 corresponding to each color pixel displayed on the image display screen in a matrix. A substrate transport unit 10, an exposure window 22 for irradiating the substrate 5 with exposure light, and a translucent window 23 for observing the pattern of the substrate 5, and a shielding line 45 is provided on the translucent window 23. In order to acquire image information of the mask unit 35 including the photomask provided, the substrate 5, the image detection light source unit 20 that irradiates the mask unit 35 with transmitted light, and the light transmission window 23 of the mask unit 35. The image sensor unit 25 converts the transmitted light acquired via the image information into image information, and in the converted image information, the width of the shielding line 45 of the mask unit 35 transmits predetermined transmitted light. Next to the image display screen Covering the pattern located between the pattern corresponding to the pixels of the same color to fit, the respective patterns corresponding to the same color adjacent pixels sides are those set without covering. A substrate provided with a regularly arranged pattern in a matrix corresponding to each color pixel of the image display screen described above is, for example, a color filter substrate or an array substrate. In addition, the pattern corresponding to adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen described above is a colored pattern in advance when the color filter substrate is used, and is adjacent to the pattern displayed on the image display screen. Adjacent same color pattern arranged at a position corresponding to the arrangement position of matching pixels of the same color, and on the array substrate, at the arrangement position of adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen. It is the pattern arranged in the corresponding position. Hereinafter, the substrate 5 will be described using a color filter substrate as an example, but the substrate 5 may be an array substrate (for example, a TFT circuit). As shown in FIG. 1, the image detection light source unit 20 irradiates a plurality of types of transmitted light from below the substrate 5. The image detection light source unit 20 may emit a plurality of types of transmitted light from above the substrate 5, and in that case, the image sensor unit 25 is installed below the substrate 5.

露光装置１００は、具体的には、基板５を搬送可能な基板搬送部１０と、フォトマスクから構成されるマスク部３５と、該マスク部３５の透光窓２３から透過される光を画像情報に変換するイメージセンサ部２５とを備えるものであって、該遮蔽線を除いて透過された光を受光したイメージセンサ部２５から取得された画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０と、マスク部３５の画像情報を取得させるために、マスク部３５の下方から光を照射する画像検出光源部２０と、マスク部３５の上方にあって、画像検出光源部２０の光を受光し、画像情報を取得するイメージセンサ部２５と、基板搬送部１０と、露光部５０の間に配置された、露光部５０から照射される露光光の一部を透過させる露光窓２２および、画像検出光源部２０から照射される光の一部を透過させる透光窓２３を備えたマスク部３５と、マスク部位置調整ユニット７０とを備えたものである。なお、露光装置１００は、露光部５０の露光位置／露光出力を制御可能とする露光制御部６０を備えていてもよい。 Specifically, the exposure apparatus 100 converts the light transmitted from the substrate transport unit 10 capable of transporting the substrate 5, the mask unit 35 formed of a photomask, and the light transmission window 23 of the mask unit 35 into image information. An image sensor unit 25 that converts the image sensor unit 25 into an image sensor unit 25. The image sensor unit 55 performs an image detection process from image information acquired from the image sensor unit 25 that has received light that has been transmitted excluding the shielding line; An exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35, an image detection light source unit 20 that irradiates light from below the mask unit 35 to obtain image information of the mask unit 35, and a mask unit 35. The exposure unit 50 is disposed between the image sensor unit 25 that receives light from the image detection light source unit 20 and acquires image information, the substrate transport unit 10, and the exposure unit 50. Exposure A mask portion 35 having an exposure window 22 that transmits part of the light, a light transmission window 23 that transmits part of light emitted from the image detection light source unit 20, and a mask portion position adjustment unit 70. It is. The exposure apparatus 100 may include an exposure control unit 60 that can control the exposure position / exposure output of the exposure unit 50.

基板搬送部１０は、基板を搬送するものである。例えば、基板搬送部１０は、図１に示すように、基板５を載置して所定の搬送方向に搬送するものであり、上面に気体を噴出する多数の噴出孔と気体を吸引する多数の吸引孔とを有した複数の単位ステージを基板５の搬送方向に並設し、気体の噴出と吸引とのバランスにより基板５を複数の単位ステージ上に所定量だけ浮かせた状態で、搬送ローラにより基板５の両端縁部を支持して搬送するようにする。 The board | substrate conveyance part 10 conveys a board | substrate. For example, as illustrated in FIG. 1, the substrate transport unit 10 is configured to place the substrate 5 and transport the substrate 5 in a predetermined transport direction. A plurality of unit stages having suction holes are juxtaposed in the transport direction of the substrate 5, and the substrate 5 is floated on the plurality of unit stages by a predetermined amount due to the balance between gas ejection and suction by the transport rollers. The both ends of the substrate 5 are supported and conveyed.

露光部５０は、紫外線を照射するものであって、例えば露光波長域は２８０〜４００ｎｍである。また、露光部５０は、紫外線を照射するものであって、具体的には、レーザ発振器やキセノンフラッシュランプ等である。また、露光部５０には、フォトインテグレータ（不図示）を搭載してもよく、露光部５０から照射された露光光の横断面内の輝度分布を均一にする。このフォトインテグレータは、フライアイレンズやロッドレンズ又はライトパイプ等であってもよい。また、露光部５０に搭載されたコンデンサーレンズ（不図示）は、露光光を平行光にしてマスク部３５に照射させるものである。露光部５０は、露光制御部６０の制御指令に応じて、露光を行うものである。 The exposure part 50 irradiates ultraviolet rays, for example, an exposure wavelength range is 280-400 nm. The exposure unit 50 irradiates ultraviolet rays, and specifically is a laser oscillator, a xenon flash lamp, or the like. Further, a photo integrator (not shown) may be mounted on the exposure unit 50, and the luminance distribution in the cross section of the exposure light irradiated from the exposure unit 50 is made uniform. The photo integrator may be a fly-eye lens, a rod lens, a light pipe, or the like. In addition, a condenser lens (not shown) mounted on the exposure unit 50 irradiates the mask unit 35 with exposure light as parallel light. The exposure unit 50 performs exposure in accordance with a control command from the exposure control unit 60.

図２は、マスク部３５と、基板５との構成を模式的に示した図である。マスク部３５は石英ガラスなどからなる透明基板の表面に、所定のパターンに形成された遮光部２１と露光窓２２を有する。図２は、マスク部３５の構成の例を模式的に示した外観斜視図である。図中の矢印ａは基板５の搬送方向を示す。このマスク部３５は、たとえば縦長スリット形状の露光窓２２が、基板の搬送方向ａの直角方向に沿って所定のピッチで並列して形成される構成を備える。図２においては、遮光処理を施した領域が遮光部２１を示し、施していない領域が露光窓２２を示す。マスク部３５の基板５に対する搬送開始側には、横長スリット形状の透光窓２３が形成されている。そして、透光窓２３には、マスク部３５に遮蔽線４５が形成されている。遮光部２１は、例えば、クロムなどにより遮光されている。また、遮蔽線４５もクロムなどの遮蔽材から構成される。 FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the mask portion 35 and the substrate 5. The mask part 35 has a light shielding part 21 and an exposure window 22 formed in a predetermined pattern on the surface of a transparent substrate made of quartz glass or the like. FIG. 2 is an external perspective view schematically showing an example of the configuration of the mask portion 35. An arrow “a” in the figure indicates the transport direction of the substrate 5. The mask portion 35 has a configuration in which, for example, vertically long slit-shaped exposure windows 22 are formed in parallel at a predetermined pitch along the direction perpendicular to the substrate transport direction a. In FIG. 2, the area subjected to the light shielding process represents the light shielding portion 21, and the area not subjected to the light shielding process represents the exposure window 22. On the transfer start side of the mask part 35 with respect to the substrate 5, a horizontally long slit-shaped light transmission window 23 is formed. A shielding wire 45 is formed on the mask portion 35 in the transparent window 23. The light shielding unit 21 is shielded by, for example, chromium. The shielding wire 45 is also made of a shielding material such as chrome.

イメージセンサ部２５は、マスク部３５の透光窓２３を介して、基板５に予め形成された既存パターン、例えば、ゲートバスライン、ソースバスラインやブラックマトリクスを撮影する。この際、イメージセンサ部２５は、基板５の搬送方向ａに平行に形成された図中縦に延びる既存パターン４の開始端から他方の終了端までを画像検出するための撮影を行う。イメージセンサ部２５は、透光窓２３下を帯状に流れるように移動する既存パターン４が、イメージセンサ部２５の撮影により画像検出する。 The image sensor unit 25 photographs an existing pattern formed in advance on the substrate 5, for example, a gate bus line, a source bus line, or a black matrix, through the transparent window 23 of the mask unit 35. At this time, the image sensor unit 25 performs photographing for detecting an image from the start end to the other end end of the existing pattern 4 that extends in the drawing in the vertical direction in the drawing formed in parallel with the transport direction a of the substrate 5. The image sensor unit 25 detects an image of the existing pattern 4 that moves so as to flow in a strip shape under the light transmission window 23 by photographing the image sensor unit 25.

例えば、イメージセンサ部２５は、多重焦点可能なラインＣＣＤ等が挙げられる。 For example, the image sensor unit 25 may be a line CCD capable of multiple focusing.

イメージセンサ部２５は、撮影している間、透光窓２３下を移動している既存パターン４が、基板５の移動方向ａに対して直角となる方向へずれていってしまう場合は、そのズレ量を算出し、そのズレ量に応じたマスク３５の位置合わせのための移動が行われる。このように、既存パターン４に追従したマスク部３５の移動制御によってアライメント調整が行われる。これにより、露光部５０は、既存パターン４に沿った位置に対して、正確な露光がなされる。 If the existing pattern 4 moving under the light transmission window 23 shifts in a direction perpendicular to the moving direction a of the substrate 5 during shooting, the image sensor unit 25 A displacement amount is calculated, and a movement for aligning the mask 35 according to the displacement amount is performed. Thus, alignment adjustment is performed by movement control of the mask part 35 following the existing pattern 4. As a result, the exposure unit 50 performs accurate exposure on the position along the existing pattern 4.

イメージセンサ部２５は、透光窓２３下を移動する既存パターン４を撮影すると同時に、同じく透光窓２３に形成された遮蔽線４５も撮影する。イメージセンサ部２５が撮影している間、上述したようなズレを補正するためのマスク部３５の移動がなされ、撮影している遮蔽線４５も移動する。このマスク補正は基板移動中、常に実行され基板移動終了まで行われる。 The image sensor unit 25 captures the existing pattern 4 that moves under the light transmission window 23 and also captures the shielding line 45 formed on the light transmission window 23. While the image sensor unit 25 is photographing, the mask unit 35 for correcting the shift as described above is moved, and the shielding line 45 being photographed is also moved. This mask correction is always executed during the movement of the substrate and is performed until the substrate movement is completed.

イメージセンサ部２５は、マスク部３５と対になって設けられている。また、イメージセンサ部２５は、マスク部３５の移動に用いられる移動手段とは異なる図示しない移動手段によってそれぞれ独立して移動可能である。このイメージセンサ部２５に設けられた移動手段は、露光開始前のマスク部３５との位置合わせのためなどに用いられる。 The image sensor unit 25 is provided in pairs with the mask unit 35. The image sensor unit 25 can be moved independently by a moving unit (not shown) different from the moving unit used for moving the mask unit 35. The moving means provided in the image sensor unit 25 is used for alignment with the mask unit 35 before the start of exposure.

イメージセンサ部２５は、多重焦点カメラである。例えば、図３に示すような焦点が二つある二重焦点カメラであってもよい。具体的には、基板５上の既存パターン４と遮蔽線４５のそれぞれに焦点を合わせることが可能になっており、双方を鮮明に撮影することができるようになっている。図示されるようにイメージセンサ部２５の視野半分に光路長調整板２５ａを介在させ、焦点距離が異なる基板上の既存パターン４及びマスク部３５の遮蔽線４５に対して同時に焦点が合うようになっている。 The image sensor unit 25 is a multi-focus camera. For example, a dual focus camera having two focal points as shown in FIG. 3 may be used. Specifically, each of the existing pattern 4 and the shielding line 45 on the substrate 5 can be focused, and both can be photographed clearly. As shown in the drawing, an optical path length adjusting plate 25a is interposed in the half field of view of the image sensor unit 25, so that the existing pattern 4 on the substrate having a different focal length and the shielding line 45 of the mask unit 35 are simultaneously focused. ing.

画像検出部５５は、マスク部３５の位置合わせに用いる基準画像が記憶されており、更にはイメージセンサ部２５が撮影した既存パターン４の画像やマスク部３５の遮蔽線４５の画像も記憶することができる。 The image detection unit 55 stores a reference image used for alignment of the mask unit 35, and also stores an image of the existing pattern 4 captured by the image sensor unit 25 and an image of the shielding line 45 of the mask unit 35. Can do.

画像検出部５５は、イメージセンサ部２５が撮影した基板５上の既存パターン４の画像から既存パターン４のエッジ情報等を検出し、基板５の被照射面に対して実際に光エネルギーを照射している範囲と本来光エネルギーを照射すべき範囲との位置、つまり既存パターン４に対するマスク部３５の位置のズレ量を算出することができる。 The image detection unit 55 detects edge information of the existing pattern 4 from the image of the existing pattern 4 on the substrate 5 photographed by the image sensor unit 25 and actually irradiates the irradiated surface of the substrate 5 with light energy. It is possible to calculate the amount of deviation of the position of the mask portion 35 with respect to the position of the existing pattern 4 and the position where the light energy should be irradiated.

マスク部位置調整ユニット７０は、画像検出部５５が算出したズレ量に基づいて、マスク部３５の位置を移動させて補正する。 The mask portion position adjustment unit 70 moves and corrects the position of the mask portion 35 based on the shift amount calculated by the image detection portion 55.

露光制御部６０は、マスク部位置調整ユニット７０の補正結果に応じて、基板５の被照射面の光エネルギーを照射すべき範囲に対して実際に光エネルギーを照射できるようにする。 The exposure control unit 60 can actually irradiate light energy to the range where the light energy of the irradiated surface of the substrate 5 should be irradiated according to the correction result of the mask position adjustment unit 70.

更に、画像検出部５５は、マスク部位置調整ユニット７０によりマスク部３５の位置が補正される前にイメージセンサ部２５が撮影したマスク部３５の遮蔽線４５の画像と、補正された後にイメージセンサ部２５が撮影したマスク部３５の遮蔽線４５の画像とを比較して、移動補正の際のマスク部３５の実際の移動量を算出し、マスク部３５の位置補正が的確になされたか否かを判定する。 Further, the image detection unit 55 includes the image of the shielding line 45 of the mask unit 35 taken by the image sensor unit 25 before the position of the mask unit 35 is corrected by the mask unit position adjustment unit 70 and the image sensor after the correction. The image of the shielding line 45 of the mask unit 35 taken by the unit 25 is compared to calculate the actual amount of movement of the mask unit 35 at the time of movement correction, and whether or not the position correction of the mask unit 35 has been performed accurately Determine.

上述したように基板５を移動させて光エネルギーを照射しつつ、既存パターン４に追従したマスク部３５のアライメント調整を行い、既存パターン４の開始端から終了端までマスク部３５が移動すると露光処理が終了する。 As described above, the alignment of the mask portion 35 following the existing pattern 4 is adjusted while moving the substrate 5 to irradiate light energy, and exposure processing is performed when the mask portion 35 moves from the start end to the end end of the existing pattern 4. Ends.

このようにイメージセンサ部２５によって撮影された既存パターン４とマスク部３５の遮蔽線４５のそれぞれの画像を用いて、それぞれの位置関係が露光中監視することにより、既存パターン４に対するマスク部３５の位置合わせの精度を向上させることができる。
透光窓（基板のパターンを観察するための覗き窓、具体的にはラインＣＣＤ観察窓）２３は、画像検出光源部２０から照射される光を透過させるものである。 In this way, by using the images of the existing pattern 4 and the shielding lines 45 of the mask unit 35 captured by the image sensor unit 25 and monitoring the positional relationship during exposure, the mask unit 35 with respect to the existing pattern 4 is monitored. The accuracy of alignment can be improved.
The light transmission window (a viewing window for observing the pattern of the substrate, specifically, a line CCD observation window) 23 transmits light emitted from the image detection light source unit 20.

ここで、遮蔽線４５および既存パターン４との関係について説明する。図４は、イメージセンサ部２５により撮影された基板上の既存パターン４と遮蔽線４５の関係を示す画像情報である。なお、図４に示す既存パターンおよび遮蔽線４５は、画像情報の既存パターン４および遮蔽線であることから、既存パターン４'および遮蔽線４５'と記す。 Here, the relationship between the shielding line 45 and the existing pattern 4 will be described. FIG. 4 is image information showing the relationship between the existing pattern 4 on the substrate and the shielding lines 45 taken by the image sensor unit 25. Note that the existing pattern and shielding line 45 shown in FIG. 4 are the existing pattern 4 and shielding line 45 ′ of the image information, and are therefore referred to as existing pattern 4 ′ and shielding line 45 ′.

図４に示す既存パターン４'は、ＲＧＢ色素（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青）のパターンであり、例えば、既存パターン４'ａはＲ色素、既存パターン４'ｂはＧ色素、既存パターン４'ｃはＢ色素、既存パターン４'ｄはＲ色素、既存パターン４'ｅはＧ色素、既存パターン４'ｆはＢ色素である。 The existing pattern 4 ′ shown in FIG. 4 is an RGB dye (R: red, G: green, B: blue) pattern. For example, the existing pattern 4′a is an R dye, and the existing pattern 4′b is a G dye. The existing pattern 4′c is a B dye, the existing pattern 4′d is an R dye, the existing pattern 4′e is a G dye, and the existing pattern 4′f is a B dye.

イメージセンサ部２５は、前述のように基板５とマスク部３５を同時に撮影し、遮蔽線４５と基板５の既存パターン４を観察する。具体的には、イメージセンサ部２５が、図４に示すように、遮蔽線４５と基板５を撮影し、画像検出部５５が、画像情報から既存パターン４'ｅ上の略中心に配置された遮蔽線４５'の中心線Ｃ１を検出し、更に、同じ色素となる既存パターン４'ｂの両辺の中心線Ｃ２を求める。そして、イメージセンサ２５は、Ｃ１とＣ２の距離を認識し、基板５とマスク部３５の位置ズレ量を計算し、補正できるように監視する。 As described above, the image sensor unit 25 photographs the substrate 5 and the mask unit 35 at the same time, and observes the shielding line 45 and the existing pattern 4 on the substrate 5. Specifically, as shown in FIG. 4, the image sensor unit 25 captures the shielding wire 45 and the substrate 5, and the image detection unit 55 is arranged at the approximate center on the existing pattern 4 ′ e from the image information. The center line C1 of the shielding line 45 ′ is detected, and the center lines C2 on both sides of the existing pattern 4′b that is the same pigment are obtained. Then, the image sensor 25 recognizes the distance between C1 and C2, calculates the amount of positional deviation between the substrate 5 and the mask part 35, and monitors so that it can be corrected.

しかしながら、携帯機器（例えば、携帯電話、携帯型パーソナルコンピュータ）用の高精細な液晶画面の基板では、画素サイズが非常に小さくなってしまい、既存パターン４'ｅも同様に極小（例えば、１５μｍ程度まで狭くなることが想定される）になる。そうすると、イメージセンサ部２５は、高分解能機能からなる撮影手段を備えることを要し、既存パターン４を観察するための十分な画像が取得できない場合が想定される。 However, in a high-definition liquid crystal screen substrate for portable devices (for example, cellular phones and portable personal computers), the pixel size becomes very small, and the existing pattern 4′e is also extremely small (for example, about 15 μm). It is assumed that it becomes narrower). Then, the image sensor unit 25 needs to include an imaging unit having a high resolution function, and it is assumed that a sufficient image for observing the existing pattern 4 cannot be acquired.

なお、画像検出部５５は、同一色素となる既存パターン４'ｂと４'ｅの画像情報から、マスク部３５と基板５の相対的な位置を検出している。イメージセンサ部２５は、画像検出光源部２０により照射される透過光の種類により既存パターン４のＲＧＢ色素のうち、１種の色素となる既存パターンのみに対して透過光が抜け、その透過光から画像情報を取得している。 The image detection unit 55 detects the relative positions of the mask unit 35 and the substrate 5 from the image information of the existing patterns 4′b and 4′e that are the same pigment. The image sensor unit 25 passes through only the existing pattern which is one type of RGB dye of the existing pattern 4 depending on the type of transmitted light irradiated by the image detection light source unit 20, and the transmitted light is emitted from the transmitted light. Obtaining image information.

図５は、本発明特有の遮蔽線４５と既存パターン４の画像情報を示す図である。なお、図５に示す既存パターンおよび遮蔽線４５は、画像情報の既存パターンおよび遮蔽線であることから、既存パターン４'および遮蔽線４５'と記す。 FIG. 5 is a diagram showing image information of the shielding line 45 and the existing pattern 4 unique to the present invention. Note that the existing pattern and shielding line 45 shown in FIG. 5 are the existing pattern and shielding line 45 ′ of the image information, and are therefore referred to as existing pattern 4 ′ and shielding line 45 ′.

露光装置１００は、画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板５を搬送可能な基板搬送部１０と、透光窓２３に遮蔽線４５を有するフォトマスクから構成されるマスク部３５と、基板５の画像情報を取得するために、該基板５の下方から複数種の透過光を照射する画像検出光源部２０と、マスク部３５の透光窓２３を介して取得された透過光を画像情報に変換するイメージセンサ部２５とを備えるものであって、図５に示すように変換された画像情報において、マスク部３５の遮蔽線４５の幅は、所定の透過光を透過した、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置する別の色のパターンを覆い、上記隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれを部分的に覆うように設定する。図５に示すように、遮蔽線４５'の幅は、例えば、透過光がＧ色素の既存パターン４'ｂと４'ｅを透過し、隣り合うＧ色のパターンの間に位置する別の色のＲ、Ｂ色素のパターン（既存パターン４'ｃ〜４'ｄ）を覆い、隣り合うＧ色のパターン４'ｂ、４'ｅそれぞれを部分的に覆うように設定する。具体的には、マスク部３５の遮蔽線４５の幅は、画像情報に変換された際に、隣り合う同一色素となるパターンそれぞれの中心と中心との間隔幅を画素ピッチ幅とするものである。遮蔽線４５を画素ピッチ幅(例えば４５〜１００μｍ)にすることで、遮蔽線４５'が基板５の既存パターン２つを跨るように配置する。これにより、画像検出部５５は、携帯機器（例えば、携帯電話、携帯型パーソナルコンピュータ）用の高精細な液晶画面用の基板であり、画素サイズが非常に小さくなった場合であっても、隣り合う同一色のパターンである片側エッジ（辺）をそれぞれ検出することでマスク部３５と基板５の位置調整を容易に行うことができる。このように遮蔽線４５が、画素ピッチ幅となることで、マスク部３５の誤取付（誤配置）防止になる。 The exposure apparatus 100 includes a substrate transport unit 10 capable of transporting a substrate 5 provided with a regularly arranged pattern in a matrix corresponding to each color pixel displayed on the image display screen, and a translucent window. 23, a mask part 35 composed of a photomask having a shielding line 45 in the image 23, an image detection light source part 20 for irradiating a plurality of types of transmitted light from below the substrate 5 in order to acquire image information of the substrate 5, And an image sensor unit 25 that converts transmitted light acquired through the transparent window 23 of the mask unit 35 into image information. In the converted image information as shown in FIG. The width of the shielding line 45 covers a pattern of another color that is transmitted between predetermined patterns and that is located between patterns corresponding to adjacent pixels of the same color that are displayed on the image display screen. Corresponding to color pixels And setting the respective pattern partially cover. As shown in FIG. 5, the width of the shielding line 45 ′ is such that, for example, the transmitted light is transmitted through the existing patterns 4 ′ b and 4 ′ e of the G dye and another color positioned between the adjacent G color patterns. The R and B dye patterns (existing patterns 4′c to 4′d) are covered, and the adjacent G-color patterns 4′b and 4′e are partially covered. Specifically, the width of the shielding line 45 of the mask portion 35 is such that when it is converted into image information, the width between the centers of adjacent patterns that are the same dye is the pixel pitch width. . By arranging the shielding lines 45 to have a pixel pitch width (for example, 45 to 100 μm), the shielding lines 45 ′ are arranged so as to straddle two existing patterns on the substrate 5. Thereby, the image detection unit 55 is a substrate for a high-definition liquid crystal screen for portable devices (for example, a mobile phone and a portable personal computer), and even when the pixel size is extremely small, The position adjustment of the mask part 35 and the board | substrate 5 can be easily performed by each detecting the one side edge (side) which is a pattern of the same color which matches. In this way, the shielding line 45 has a pixel pitch width, thereby preventing erroneous attachment (misplacement) of the mask portion 35.

なお、上述した実施例においては、透過光が透過したのはＧ色のパターンを例に説明したが、Ｂ色のパターンを透過光が透過された場合は、遮蔽線４５'は、Ｇ色およびＲ色のパターンを覆い、Ｒ色のパターンが透過された場合は、遮蔽線４５'は、Ｇ色およびＢ色のパターンを覆うように配置される。 In the above-described embodiments, the G light pattern has been described as the example where the transmitted light is transmitted. However, when the transmitted light is transmitted through the B color pattern, the shielding line 45 ′ When the R color pattern is covered and the R color pattern is transmitted, the shielding line 45 ′ is arranged so as to cover the G color and B color patterns.

これにより、露光装置１００は、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０を備えるものであって、画像検出部５５は、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの辺に該当するエッジを検出し、マスク部３５は、検出されたエッジの情報に基づいて、基板５上を相対的に移動し、露光部５０は、マスク部３５が移動した後に露光光を照射する。 Thus, the exposure apparatus 100 includes an image detection unit 55 that performs image detection processing from image information, and an exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35. The image detection unit 55 includes: Then, an edge corresponding to each side of the pattern corresponding to adjacent pixels of the same color is detected, and the mask unit 35 relatively moves on the substrate 5 based on the detected edge information, and the exposure unit 50 Irradiates exposure light after the mask part 35 moves.

次に、本発明の第二の実施形態について説明する。第一の実施形態で説明した露光装置１００と同様の構成となる部分は説明を省略する。 Next, a second embodiment of the present invention will be described. The description of the same part as the exposure apparatus 100 described in the first embodiment is omitted.

露光装置１００は、図６に示すように画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０を備えるものであって、基板５は、基板５の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品（セルｃ１〜ｃ６）毎にアライメントマークＭを付与されたものであって、画像検出部５５は、当該アライメントマークＭを検出し、マスク部３５は、検出されたアライメントマークＭの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部５０は、マスク部３５が移動した後に露光光を照射する。 As shown in FIG. 6, the exposure apparatus 100 includes an image detection unit 55 that performs image detection processing from image information, and an exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35. Is provided with an alignment mark M for each substrate component (cells c1 to c6) to be cut at a predetermined interval in the conveyance direction of the substrate 5, and the image detection unit 55 detects the alignment mark M. The mask unit 35 moves relatively on the substrate based on the detected information of the alignment mark M, and the exposure unit 50 irradiates the exposure light after the mask unit 35 moves.

図６は、基板上のアライメントマークＭとセルとの配置関係を示したものである。基板５は、図６に示すように、基板５の搬送方向の基板部品（セルｃ１〜ｃ６）間にアライメントマークＭ１〜４（引き込みマーク、または追従補助用マーク）を備え、画像検出部５５は、アライメントマークＭでマスク部３５と基板５の相対的な位置の追従を行い、セル間での基板搬送精度を高めて露光することができる。 FIG. 6 shows the positional relationship between alignment marks M and cells on the substrate. As shown in FIG. 6, the substrate 5 includes alignment marks M1 to M4 (retraction marks or follow-up assisting marks) between the substrate components (cells c1 to c6) in the conveyance direction of the substrate 5, and the image detection unit 55 includes Then, the alignment mark M can follow the relative position of the mask portion 35 and the substrate 5 to increase the substrate conveyance accuracy between the cells and perform exposure.

このアライメントマークＭを短い間隔に配置することにより、露光のアクティブエリア内で追従することなく、マスク部３５と基板５の相対的な位置精度を高めることができる。 By arranging the alignment marks M at short intervals, the relative positional accuracy of the mask portion 35 and the substrate 5 can be increased without following within the active area of exposure.

次に、本発明の第三の実施形態について説明する。第一の実施形態で説明した露光装置１００と同様の構成となる部分は説明を省略する。
露光装置１００は、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０を備えるものであって、図７に示すように、基板５は、基板５の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品を区切るようにアライメントラインＬを付与されたものであって、画像検出部５５は、当該アライメントラインＬを検出し、マスク部３５は、検出されたアライメントラインＬの情報に基づいて、基板５上を相対的に移動し、露光部５０は、マスク部３５が移動した後に露光光を照射する。 Next, a third embodiment of the present invention will be described. The description of the same part as the exposure apparatus 100 described in the first embodiment is omitted.
The exposure apparatus 100 includes an image detection unit 55 that performs image detection processing based on image information, and an exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35. As shown in FIG. Reference numeral 5 denotes an alignment line L provided in the conveyance direction of the substrate 5 so as to divide the substrate parts to be cut at predetermined intervals. The image detection unit 55 detects the alignment line L, and masks The part 35 moves relatively on the substrate 5 based on the detected information of the alignment line L, and the exposure part 50 irradiates the exposure light after the mask part 35 moves.

図７は、基板５上のアライメントラインＬとセルとの配置関係を示したものである。基板５は、図７に示すように、基板５の搬送方向の基板部品（セルｃ１、２またはｃ３，４）間にアライメントラインＬを備え、画像検出部５５は、アライメントラインＬでマスク部３５と基板５の相対的な位置の追従を行い、セル間での基板搬送精度を高めて露光することができる。また、基板５上に、アライメントラインＬと平行であって、所定のパターン無し領域Ｒを設けたものである。 FIG. 7 shows an arrangement relationship between the alignment lines L on the substrate 5 and the cells. As shown in FIG. 7, the substrate 5 includes an alignment line L between the substrate components (cells c 1, 2 or c 3, 4) in the conveyance direction of the substrate 5. And the relative position of the substrate 5 can be tracked, and exposure can be performed with increased substrate transfer accuracy between cells. In addition, a predetermined patternless region R is provided on the substrate 5 in parallel with the alignment line L.

このアライメントラインＬ、パターン無し領域Ｒを設けることにより、画像検出部５５は、基板５の搬送方向の最初と最後まで容易に追従を行うことを可能とし、マスク部３５と基板５の相対的な位置精度を高めることができる。上述した基板部品（セル）は、携帯機器の液晶画面に利用されるものである。 By providing the alignment line L and the non-pattern region R, the image detection unit 55 can easily follow the beginning and end of the transport direction of the substrate 5, and the relative relationship between the mask unit 35 and the substrate 5 can be achieved. Position accuracy can be increased. The above-described substrate component (cell) is used for a liquid crystal screen of a portable device.

露光装置１００によれば、画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板５を搬送可能な基板搬送部１０と、基板５に露光光を照射するための露光窓２２と、基板５のパターンを観察するための透光窓２３とを有し、該透光窓２３に遮蔽線４５（透光窓２３の略中心位置）を備えるフォトマスクから構成されるマスク部３５と、基板５の画像情報を取得するために、マスク部３５に対して透過光を照射する画像検出光源部２０とマスク部３５の透光窓２３を介して取得された透過光を画像情報に変換するイメージセンサ部２５とを備えるものであって、変換された画像情報において、マスク部３５の遮蔽線４５の幅は、所定の透過光を透過した、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆い、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれを部分的に覆うように設定されているものであることにより、上記隣り合う同一色の画素に対応するパターンの辺のみ検出することにより、携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確な露光のためのマスク部の正確な位置合わせを設定することができる。本発明の第一の実施形態において、遮蔽線４５を画素ピッチ幅のマスクスリットにする実施形態を説明し、第二の実施形態においては、基板上にアライメントマークＭを付与した実施形態を説明し、第三の実施形態においては、基板上にアライメントラインＬを付与した実施形態を説明した。これらの実施形態は全て組み合わせて実施してもよいし、それぞれ２つ以上の実施形態を組み合わせて実施するものであってもよいし、それぞれの実施形態を独立して実施するものであってもよい。 According to the exposure apparatus 100, a substrate transport unit 10 capable of transporting a substrate 5 having a regularly arranged pattern in a matrix corresponding to each color pixel displayed on the image display screen, and the substrate 5 has an exposure window 22 for irradiating exposure light and a light transmission window 23 for observing the pattern of the substrate 5, and the light transmission window 23 has a shielding line 45 (approximately the center position of the light transmission window 23). ), A mask portion 35 constituted by a photomask, an image detection light source portion 20 for irradiating the mask portion 35 with transmitted light to obtain image information of the substrate 5, and a light transmission window 23 of the mask portion 35. The image sensor unit 25 converts the transmitted light acquired via the image information into image information, and in the converted image information, the width of the shielding line 45 of the mask unit 35 transmits predetermined transmitted light. Next to the image display screen It is set so as to cover a pattern located between patterns corresponding to matching pixels of the same color and partially cover each pattern corresponding to adjacent pixels of the same color. By detecting only the sides of the pattern corresponding to the color pixels, it is possible to set the exact alignment of the mask part for accurate exposure even for small liquid crystal product substrate parts for portable devices. it can. In the first embodiment of the present invention, an embodiment in which the shielding line 45 is a mask slit having a pixel pitch width will be described. In the second embodiment, an embodiment in which an alignment mark M is provided on the substrate will be described. In the third embodiment, the embodiment in which the alignment line L is provided on the substrate has been described. These embodiments may be implemented in combination, or may be implemented by combining two or more embodiments, or may be implemented independently. Good.

露光装置１００は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０を備えるものであって、画像検出部５５は、隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの辺に該当するエッジを検出し、マスク部３５は、検出されたエッジの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部５０は、マスク部が移動した後に露光光を照射する際には、携帯機器向けのような小さな液晶製品画面を有する携帯機器用の基板部品であっても、正確な露光のためのマスク部の正確な位置合わせを設定し、正確な露光を行うことができる。 The exposure apparatus 100 further includes an image detection unit 55 that performs image detection processing from image information, and an exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35. The image detection unit 55 includes: An edge corresponding to each side of the pattern corresponding to adjacent pixels of the same color is detected, the mask unit 35 moves relatively on the substrate based on the detected edge information, and the exposure unit 50 When irradiating exposure light after the mask has moved, the exact position of the mask for accurate exposure, even for mobile device substrate parts with small liquid crystal product screens, such as those for mobile devices The alignment can be set and accurate exposure can be performed.

また、露光装置１００は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０を備えるものであって、基板５は、基板５の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品毎にアライメントマークを付与されたものであって、画像検出部５０は、当該アライメントマークを検出し、マスク部３５は、検出されたアライメントマークの情報に基づいて、基板上を相対的に移動し、露光部は、マスク部３５が移動した後に露光光を照射する際には、アライメントマークを基準として基板の位置を追従することができるため、携帯機器向けのような小さな液晶製品画面を有する携帯機器用の基板部品であっても、アライメントマークを基準として、基板とマスク部の正確な位置合わせを設定し、正確な露光を行うことができる。 The exposure apparatus 100 further includes an image detection unit 55 that performs image detection processing from image information, and an exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35. The substrate 5 includes: An alignment mark is provided for each substrate component to be cut at a predetermined interval in the conveyance direction of the substrate 5. The image detection unit 50 detects the alignment mark and the mask unit 35 detects the alignment mark. Based on the information of the alignment mark, it moves relatively on the substrate, and the exposure unit can follow the position of the substrate with the alignment mark as a reference when irradiating the exposure light after the mask unit 35 moves. Therefore, even if it is a board component for a portable device having a small liquid crystal product screen like that for a portable device, the substrate and the mask portion are accurately aligned with reference to the alignment mark. Set, it is possible to make an accurate exposure.

露光装置１００は、更に、画像情報から画像検出処理を行う画像検出部５５と、マスク部３５の上方から露光光を照射可能とする露光部５０を備えるものであって、基板５は、基板５の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品毎を区切るようにアライメントラインを付与されたものであって、画像検出部５５は、当該アライメントラインを検出し、マスク部は、検出されたアライメントラインの情報に基づいて、基板５上を相対的に移動し、露光部５０は、マスク部３５が移動した後に露光光を照射する際には、アライメントラインを基準として基板の位置を追従することができるため、携帯機器向けのような小さない液晶製品画面を有する携帯機器用の基板部品であっても、アライメントラインを基準として、基板とマスク部の正確な位置合わせを設定し、正確な露光を行うことができる。 The exposure apparatus 100 further includes an image detection unit 55 that performs image detection processing from image information, and an exposure unit 50 that can irradiate exposure light from above the mask unit 35. An alignment line is provided so as to divide each substrate component to be cut at a predetermined interval in the conveyance direction of the image, the image detection unit 55 detects the alignment line, and the mask unit is detected. The exposure unit 50 moves relative to the substrate 5 based on the alignment line information, and the exposure unit 50 follows the position of the substrate with reference to the alignment line when irradiating the exposure light after the mask unit 35 is moved. Therefore, even if it is a board component for a portable device having a small liquid crystal product screen like that for a portable device, the alignment of the substrate and the mask part can be made with reference to the alignment line. Set the alignment, it is possible to perform accurate exposure.

以上、本発明の実施形態について、詳細に説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to these embodiment.

ｃセル
Ｃ中心線
Ｌアライメントライン
Ｍアライメントマーク
Ｒ領域
４パターン
５基板
１０基板搬送部
２０画像検出光源部
２１遮光部
２２露光窓
２３透光窓
２５イメージセンサ部
３５マスク部
４５遮蔽線
５０露光部
５５画像検出部
６０露光制御部
７０マスク部位置調整ユニット
１００露光装置 c Cell C Center line L Alignment line M Alignment mark R Region 4 Pattern 5 Substrate 10 Substrate transport unit 20 Image detection light source unit 21 Shading unit 22 Exposure window 23 Translucent window 25 Image sensor unit 35 Mask unit 45 Masking line 50 Exposure unit 55 Image detection unit 60 Exposure control unit 70 Mask unit position adjustment unit 100 Exposure apparatus

Claims

画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板を搬送可能な基板搬送部と、
前記基板に露光光を照射するための露光窓と、前記基板のパターンを観察するための透光窓とを有し、該透光窓に遮蔽線を備えるフォトマスクから構成されるマスク部と、
前記基板の画像情報を取得するために、前記マスク部に対して複数種の透過光を照射する画像検出光源部と
前記マスク部の透光窓を介して取得された前記透過光を画像情報に変換するイメージセンサ部とを備えるものであって、
前記変換された画像情報において、前記マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆い、前記隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれを部分的に覆うように設定されていることを特徴とする露光装置。 A substrate transport unit capable of transporting a substrate having a regularly arranged pattern in a matrix corresponding to each color pixel displayed on the image display screen;
A mask portion comprising an exposure window for irradiating the substrate with exposure light, a light transmission window for observing the pattern of the substrate, and a photomask having a shielding line in the light transmission window;
In order to acquire the image information of the substrate, the transmitted light acquired through the light detection window of the image detection light source unit and the mask unit that irradiates the mask unit with a plurality of types of transmitted light is used as the image information. An image sensor unit for conversion,
In the converted image information, the width of the shielding line of the mask portion is a pattern positioned between patterns corresponding to adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen that transmits a predetermined transmitted light. An exposure apparatus configured to cover and partially cover each of the patterns corresponding to the adjacent pixels of the same color.

前記マスク部の遮蔽線の幅は、前記画像情報に変換された際に、前記隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの中心と中心との間隔幅を画素ピッチ幅とするものであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。 The width of the shielding line of the mask portion is such that, when converted into the image information, the interval width between the centers of the patterns corresponding to the adjacent pixels of the same color is the pixel pitch width. The exposure apparatus according to claim 1.

前記露光装置は、更に、
前記画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、
前記マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、
前記画像検出部は、前記隣り合う同一色の画素に対応するパターンそれぞれの辺に該当するエッジを検出し、
前記マスク部は、前記検出されたエッジの情報に基づいて、前記基板上を相対的に移動し、
前記露光部は、前記マスク部が移動した後に露光光を照射するものであることを特徴とする請求項２記載の露光装置。 The exposure apparatus further includes:
An image detection unit that performs image detection processing from the image information;
Comprising an exposure part that enables exposure light to be irradiated from above the mask part,
The image detection unit detects an edge corresponding to each side of the pattern corresponding to the adjacent pixels of the same color,
The mask portion moves relatively on the substrate based on the detected edge information,
The exposure apparatus according to claim 2, wherein the exposure unit irradiates exposure light after the mask unit has moved.

前記露光装置は、更に、
前記画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、
前記マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、
前記基板は、前記基板の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品毎にアライメントマークを付与されたものであって、
前記画像検出部は、当該アライメントマークを検出し、
前記マスク部は、前記検出されたアライメントマークの情報に基づいて、前記基板上を相対的に移動し、
前記露光部は、前記マスク部が移動した後に露光光を照射するものであることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の露光装置。 The exposure apparatus further includes:
An image detection unit that performs image detection processing from the image information;
Comprising an exposure part that enables exposure light to be irradiated from above the mask part,
The substrate is provided with an alignment mark for each substrate component to be cut at a predetermined interval in the transport direction of the substrate,
The image detection unit detects the alignment mark,
The mask portion moves relatively on the substrate based on the information of the detected alignment mark,
4. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure unit irradiates exposure light after the mask unit is moved.

前記露光装置は、更に、
前記画像情報から画像検出処理を行う画像検出部と、
前記マスク部の上方から露光光を照射可能とする露光部を備えるものであって、
前記基板は、前記基板の搬送方向に、所定間隔で、切断される基板部品を区切るようにアライメントラインを付与されたものであって、
前記画像検出部は、当該アライメントラインを検出し、
前記マスク部は、前記検出されたアライメントラインの情報に基づいて、前記基板上を相対的に移動し、
前記露光部は、前記マスク部が移動した後に露光光を照射するものであることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の露光装置。 The exposure apparatus further includes:
An image detection unit that performs image detection processing from the image information;
Comprising an exposure part that enables exposure light to be irradiated from above the mask part,
The substrate is provided with an alignment line so as to divide a substrate component to be cut at a predetermined interval in the transport direction of the substrate,
The image detection unit detects the alignment line,
The mask unit moves relatively on the substrate based on the detected alignment line information,
4. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure unit irradiates exposure light after the mask unit is moved.

前記露光装置は、
前記基板上に、前記アライメントラインと平行であって、所定のパターン無し領域を設けたものであることを特徴とする請求項５記載の露光装置。 The exposure apparatus includes:
6. The exposure apparatus according to claim 5, wherein a predetermined patternless region is provided on the substrate in parallel with the alignment line.

前記基板部品は、携帯機器の液晶画面に利用されるものであることを特徴とする請求項４から６いずれか１項記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 4, wherein the substrate component is used for a liquid crystal screen of a portable device.

前記画像表示画面に表示される其々の色の画素に対応する、規則的に配置されたパターンをマトリクス状に備えた基板は、カラーフィルタ基板または、アレイ基板であることを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載の露光装置。 The substrate having a regularly arranged pattern corresponding to each color pixel displayed on the image display screen in a matrix is a color filter substrate or an array substrate. The exposure apparatus according to any one of 1 to 7.

前記画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素に対応するパターンは、前記カラーフィルタ基板の際には、予めパターンは着色されたものであって、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素の配列位置に対応する位置に配列された、隣り合う同一色のパターンであり、前記アレイ基板の際には、画像表示画面に表示される隣り合う同一色の画素の配列位置に対応する位置に配列されたパターンであることを特徴とする請求項８記載の露光装置。 The patterns corresponding to adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen are previously colored when the color filter substrate is used, and are adjacent to the same color displayed on the image display screen. Adjacent same color pattern arranged at a position corresponding to the arrangement position of color pixels, and corresponding to the arrangement position of adjacent pixels of the same color displayed on the image display screen in the case of the array substrate 9. The exposure apparatus according to claim 8, wherein the exposure apparatus is a pattern arranged at a position where the exposure is performed.