JP5794156B2 - モールドパッケージの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品とともに配線基板の一面側をモールド樹脂で封止し、配線基板の他面はモールド樹脂より露出するようにしたハーフモールドタイプのモールドパッケージの製造方法に関する。
従来より、この種のモールドパッケージとして、配線基板と、配線基板の一面側に搭載された電子部品と、電子部品とともに配線基板の一面側を封止するモールド樹脂と、を備え、配線基板の一面とは反対側の他面はモールド樹脂より露出するハーフモールドタイプのパッケージが提案されている(たとえば、特許文献1参照)。
特開2003−124387号公報
ところで、モールドパッケージにおいて、配線基板の他面側は、通常、各種の配線やレジスト膜等が設けられるので当該他面は凹凸を有する面となる。そこで、配線基板の他面側をケース等の支持部材上に押し付けて、モールドパッケージを当該支持部材上に搭載するような場合、当該他面側の凹凸を埋めて平坦にすることにより、パッケージの搭載性を確保する必要がある。
これは、配線基板の他面側と支持部材との接触性の確保だけでなく、配線基板の他面側が支持部材に押し付けられるときに、当該他面側に凹凸があると、当該凹凸の段差によって、配線基板がたわみ、ひいては反りやクラック等の不具合が生じやすいためである。具体的には、搭載時に、凸部は支持部材に接触するが、凹部は接触しない状態となり、凹部にて配線基板がたわむことになる。
また、このようなモールドパッケージは、基板他面側を金型に当てて支持し、基板一面側をモールド樹脂で封止するが、このとき、配線基板の他面側に凹凸があると、当該封止時において、基板一面側に加わるモールド樹脂の圧力により、基板他面側が金型に押し付けられて、配線基板がたわみ、ひいては反りやクラック等の不具合が生じやすい。
ここで、上記特許文献1では、配線基板の他面の凹部をソルダーレジストで埋めることで、基板他面側の平坦性を実現した構成が提案されている。しかし、この場合、配線基板の一面側のモールド樹脂と他面側のソルダーレジストとが異種材料であるため、両面で発生する線膨張係数差により配線基板が反りやすいという問題が生じる。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、電子部品とともに配線基板の一面側がモールド樹脂で封止され、配線基板の他面はモールド樹脂より露出するハーフモールドタイプのモールドパッケージにおいて、配線基板の他面側の平坦性を実現しつつ、配線基板の反りを極力防止できるようにすることを目的とする。
請求項に記載の発明は、一面(11)側に電子部品(20)が搭載され、他面(12)が凹凸を有する面とされた配線基板(10)を用意する用意工程と、平坦面としての支持面(104)を有する金型(100)内に配線基板(10)を投入し、配線基板(10)の他面(12)側を支持面(104)に接触させて配線基板(10)を金型(100)に支持させた状態で、金型(100)内にモールド樹脂(30)を充填することにより、電子部品(20)とともに配線基板(10)の一面(11)側をモールド樹脂(30)で封止する封止工程と、を備えるハーフモールドタイプのモールドパッケージの製造方法において、さらに、以下の点を特徴とするものである。
すなわち、請求項の製造方法では、用意工程では、配線基板(10)として、当該他面(12)の凹部(41)に対応する部位に、当該他面(12)側から当該一面(11)側に貫通する貫通孔(42)が設けられたものを用意し、
封止工程では、配線基板(10)の他面(12)側の凸部(40)の最も厚い部分を支持面(104)に接触させた状態で、モールド樹脂(30)の充填を行うことにより、モールド樹脂(30)を、配線基板(10)の一面(11)側から貫通孔(42)を介して他面(12)側の凹部(41)に回り込ませ、当該凹部(41)に回り込んだモールド樹脂(30)が、当該凸部(40)の最も厚い部分と同一平面に位置するように、当該凹部(41)をモールド樹脂(30)で埋めるものであり、
用意工程にて用意される配線基板(10)において、貫通孔(42)は、配線基板(10)の一面(11)側の開口部が他面(12)側の開口部よりも封止工程におけるモールド樹脂(30)の流れ方向の上流側に位置するように、配線基板(10)の他面(12)から配線基板(10)の厚さ方向に対して傾斜した方向に延びて一面(11)に到達するものとされていることを特徴とする。
それによれば、モールド樹脂(30)による封止時には貫通孔(42)を介して、配線基板(10)の一面(11)側のモールド樹脂(30)を他面(12)側に入り込ませ、当該他面(12)側の平坦性を実現することができる。つまり、同一工程にて、同一材料のモールド樹脂(30)を配線基板(10)の一面(11)側と他面(12)側とに設けることができるので、当該両面(11、12)間の線膨張係数差を極力小さくできる。
また、配線基板(10)の一面(11)側と他面(12)側とで、別工程によりモールド樹脂を設ける場合、製造工程の途中段階において、当該両面(11、12)のいずれか片方の面のみにモールド樹脂が設けられた状態が発生し、上記線膨張係数差により配線基板(10)の反りが発生しやすい。
これに対して、本発明の製造方法によれば、モールド樹脂(30)による封止時には貫通孔(42)を介して、配線基板(10)の一面(11)側のモールド樹脂(30)を他面(12)側に入り込ませ、同一材料のモールド樹脂(30)を、配線基板(10)の一面(11)側と他面(12)側とに同一工程で設けることができるから、この点でも、配線基板(10)の反りを抑制できる。
また、封止工程にて、モールド樹脂(30)は、配線基板(10)の一面(11)側から貫通孔(42)を介して他面(12)側の凹部(41)へ入り込み、他面(12)側の凹部(41)を埋めるように流れることで、当該凹部(41)ではモールド樹脂(30)による配線基板(10)の支持が行われるため、当該一面(11)側からのモールド樹脂(30)の圧力による基板たわみが軽減される。
このように、請求項の製造方法によれば、配線基板(10)の他面(12)側の平坦性を実現しつつ、配線基板(10)の反りを極力防止することができる。
また、請求項に記載の発明では、用意工程にて用意される配線基板(10)において、貫通孔(42)は、配線基板(10)の一面(11)側の開口部が他面(12)側の開口部よりも封止工程におけるモールド樹脂(30)の流れ方向の上流側に位置するように、配線基板(10)の他面(12)から配線基板(10)の厚さ方向に対して傾斜した方向に延びて一面(11)に到達するものとされているから、封止工程にて配線基板(10)の一面(11)側を流れるモールド樹脂(30)が貫通孔(42)に入りやすい孔形状とすることができる。
請求項2に記載の発明は、一面(11)側に電子部品(20)が搭載され、他面(12)が凹凸を有する面とされた配線基板(10)を用意する用意工程と、平坦面としての支持面(104)を有する金型(100)内に配線基板(10)を投入し、配線基板(10)の他面(12)側を支持面(104)に接触させて配線基板(10)を金型(100)に支持させた状態で、金型(100)内にモールド樹脂(30)を充填することにより、電子部品(20)とともに配線基板(10)の一面(11)側をモールド樹脂(30)で封止する封止工程と、を備えるハーフモールドタイプのモールドパッケージの製造方法において、さらに、以下の点を特徴とするものである。
すなわち、請求項2の製造方法では、用意工程では、配線基板(10)として、当該他面(12)の凹部(41)に対応する部位に、当該他面(12)側から当該一面(11)側に貫通する貫通孔(42)が設けられたものを用意し、
封止工程では、配線基板(10)の他面(12)側の凸部(40)の最も厚い部分を支持面(104)に接触させた状態で、モールド樹脂(30)の充填を行うことにより、モールド樹脂(30)を、配線基板(10)の一面(11)側から貫通孔(42)を介して他面(12)側の凹部(41)に回り込ませ、当該凹部(41)に回り込んだモールド樹脂(30)が、当該凸部(40)の最も厚い部分と同一平面に位置するように、当該凹部(41)をモールド樹脂(30)で埋めるものであり、
意工程にて用意される配線基板(10)において、配線基板(10)の一面(11)側には、封止工程にて前記配線基板(10)の一面(11)側を流れるモールド樹脂(30)を、貫通孔(42)に案内するように突出した形状をなす案内部材(13a、20a)が設けられていることを特徴とする。
それによれば、上記請求項1の製造方法と同様、配線基板(10)の他面(12)側の平坦性を実現しつつ、配線基板(10)の反りを極力防止することができる。さらに、本製造方法によれば、案内部材(13a、20a)によって、封止工程にて配線基板(10)の一面(11)側を流れるモールド樹脂(30)が貫通孔(42)に入りやすい。
なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
本発明の第1実施形態に係るモールドパッケージの概略構成を示す図であり、(a)は概略断面図、(b)は(a)中のA矢視平面図である。 第1実施形態のモールドパッケージの製造方法を示す工程図である。 第1実施形態における貫通孔の他の例を示す概略平面図である。 第1実施形態における貫通孔の他の例を示す概略平面図である。 第1実施形態における貫通孔の他の例を示す概略平面図である。 本発明の第2実施形態に係るモールドパッケージの概略構成を示す図であり、(a)は概略断面図、(b)は(a)中のB矢視平面図である。 本発明の第3実施形態に係るモールドパッケージの概略断面図である。 本発明の第4実施形態に係るモールドパッケージの概略断面図である。 本発明の第5実施形態に係るモールドパッケージの概略平面図である。 第5実施形態の第1の別例としてのモールドパッケージの概略平面図である。 第5実施形態の第2の別例としてのモールドパッケージの概略平面図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係るモールドパッケージS1の概略構成を示す図であり、図1において(a)は概略断面図、(b)は(a)において矢印A方向から視たときの概略平面図である。
本実施形態のモールドパッケージS1は、大きくは、配線基板10と、配線基板10の一面11側に搭載された電子部品20と、電子部品20とともに配線基板10の一面11側を封止するモールド樹脂30と、を備え、配線基板10の一面11とは反対側の他面12はモールド樹脂30より露出するハーフモールドタイプのパッケージである。
配線基板10としては、プリント配線基板、セラミック配線基板などが挙げられ、また、ベース10aが単層である単層配線基板でもよいし、ベース10aが多層である多層配線基板でもよい。ここでは、配線基板10は、ガラスエポキシやエポキシ樹脂などの樹脂をベース10aとし、このベース10aに後述する各種の配線や膜が形成された配線基板として構成されている。
配線基板10の一方の板面である一面11側には、一面側導体パターン13が設けられている。これら一面側導体パターン13は、銅などの導体材料よりなるもので、各種の電極や配線を構成するものである。そして、この一面側導体パターン13は、必要に応じて、ソルダーレジスト材料などよりなる電気絶縁性のレジスト膜14により被覆され、保護されている。
また、一面側導体パターン13の一部は、電子部品20が接続されるランドとして構成されており、レジスト膜14より露出している。そして、このランドとしての一面側導体パターン13に対して、はんだや導電性接着剤等のマウント材21、あるいはワイヤボンディング等を介して、電子部品20が接続されている。この電子部品20としては、ICチップやチップコンデンサ等の表面実装部品等が挙げられる。
そして、モールド樹脂30は、配線基板10の一面11側を電子部品20とともに封止しているが、このモールド樹脂30は、たとえばエポキシ樹脂などよりなる。このようなモールド樹脂30は、金型を用いたトランスファーモールド法により形成される(後述の図2参照)。
一方、配線基板10の他面12は、電子部品は搭載されないが、各種の電極や配線を構成する他面側導体パターン15やこれらを被覆して保護するレジスト膜16等が設けられている。
ここで、ベース10a内には、たとえば内層配線やスルーホール等の図示しない内部配線が設けられており、当該他面側導体パターン15と一面側導体パターン15とは、当該内部配線によって、電気的に接続されている。
ここで、他面側導体パターン15は、一面側導体パターン13と同様に銅などの導体材料よりなる。また、当該他面12側のレジスト膜16も、電気絶縁性の樹脂膜やセラミック膜等よりなるが、上記一面11側のレジスト膜14と同様、典型的にはソルダーレジスト材料よりなる。
そして、これら他面側導体パターン15やレジスト膜16の表面、および、露出するベース10aの表面が、配線基板10の他面12を構成することにより、当該他面12は凹凸を有する面とされている。
図1では、配線基板10の他面12のうち他面側配線パターン15を被覆しているレジスト膜16が、凸部40を構成している。そして、その凸部40に隣接して凸部40よりも凹んでいる部位が、凹部41として構成されている。
より具体的には、図1に示されるように、凹部41は、凸部40の隣の他面側導体パターン15が存在しない領域に延びるレジスト膜16と、当該レジスト膜16が存在せずにベース10a表面が露出して他面12を構成している領域との、互いに連続する両領域により構成されている。
そして、図1に示されるように、配線基板10のうち当該他面12の凹部41に対応する部位に、配線基板10の他面12側から一面11側に貫通する貫通孔42が設けられている。この貫通孔42は、ドリル等を用いた孔開け加工により形成される。
ここでは、貫通孔42は、一面11側の開口部がモールド樹脂30に連通した位置にあり、他面12側の開口部も一面11側のモールド樹脂30の配置領域に対応した位置にある。具体的に、図1では、貫通孔42は配線基板10の厚さ方向と平行に延びる円筒状の孔、すなわち丸孔形状のものとされている。
そして、モールド樹脂30は、配線基板10の一面11側から貫通孔42を介して、配線基板10の他面12の凹部41に回り込んでいる。ここで、貫通孔42は、モールド樹脂30により充填されている。
そして、配線基板10の他面12側のモールド樹脂30は、配線基板10の他面12の凹部41を埋めている。これによって、配線基板10の他面12の凸部40の先端、つまり当該凸部40の最も厚い部分(ここでは、他面側導体パターン15を被覆するレジスト膜16の表面)と、当該他面12側のモールド樹脂30の外表面とが、同一平面に位置している。
このようにして、配線基板10の他面12側において、凸部40の最も厚い部分、ここでは、凸部40を構成するレジスト膜16の表面が、モールド樹脂30より露出している。
つまり、配線基板10の他面12については、モールド樹脂30に埋まっている部位は凹部41であり、この凹部41よりも突出し先端がモールド樹脂30より露出する部位が凸部40として構成されている。具体的に、図1(b)においては、当該他面12のうちモールド樹脂30の外郭に一致する平面矩形の領域が凹部41に相当し、その周囲の露出したレジスト膜16の領域が凸部40に相当する。
そして、配線基板10の他面12側にて、凸部40の最も厚い部分とモールド樹脂30の外表面とが同一平面に位置するように、凹部41がモールド樹脂30によって埋められることにより、当該他面12側では、凸部40の最も厚い部分とモールド樹脂30の外表面とが連続した平坦面を構成しているのである。
次に、本実施形態のモールドパッケージS1の製造方法について、図2(a)〜(e)を参照して述べる。図2は、本製造方法を示す工程図であり、各工程におけるワークを断面的に示している。
まず、図2(a)に示されるように、一面11側に電子部品20が搭載され、他面12が凹凸を有する面とされた配線基板10を用意する(用意工程)。この用意工程では、配線基板10として、当該他面12の凹部41に対応する部位に、当該他面12側から当該一面11側に貫通する貫通孔42が設けられたものを用意する。つまり、この工程では、上記図1において、モールド樹脂30が省略された構成のものを用意する。
次に、図2(b)〜(d)に示されるように、金型100を用いたトランスファーモールド法により、電子部品20とともに配線基板10の一面11側をモールド樹脂30で封止する(封止工程)。
この封止工程では、図2(b)に示されるように、平坦面としての支持面104を有する金型100内に配線基板10を投入し、配線基板10の他面12側を支持面104に接触させて配線基板10を金型100に支持させる。このとき、配線基板10の他面12側では、凸部40の最も厚い部分が支持面104に接触し、凹部41は支持面104に対して非接触の状態とされる。
ここで、金型100は、上型101と下型102とを備え、これら上下型101、102を合致させることで、当該上下型101、102間にキャビティ103を構成する典型的な金型100である。そして、金型100のうち下型102の内面が、平坦な支持面104とされている。
そして、配線基板10の他面12側を支持面104に接触させて配線基板10を金型100に支持させた状態で、図2(c)、(d)に示されるように、金型100内にモールド樹脂30を充填することにより、モールド樹脂30による封止を行う。
このとき、本実施形態の封止工程では、上述のように、配線基板10の他面12側の凸部40の最も厚い部分を支持面104に接触させた状態とされている。この支持状態で、キャビティ103へのモールド樹脂30の充填が行われることにより、モールド樹脂30は、配線基板10の一面11側から貫通孔42を介して、他面12側の凹部41に回り込むのである。
そして、モールド樹脂30の充填を続け、当該凹部41に回り込んだモールド樹脂30が、凸部40の最も厚い部分と同一平面に位置するように、凹部41をモールド樹脂30で埋める。それにより、配線基板10の他面12では、凸部40の最も厚い部分はモールド樹脂30より露出し、凸部40の最も厚い部分とモールド樹脂30の外表面とが連続した平坦面を構成するものとされる。
こうして封止工程が完了すると、図2(e)に示されるように、上記した本実施形態のモールドパッケージS1ができあがる。そして、このモールドパッケージS1は、配線基板10の他面12側を図示しないケース等の支持部材上に押し付けて、モールドパッケージS1を当該支持部材上に搭載することにより使用される。
ところで、本実施形態によれば、配線基板10の一面11側のモールド樹脂30が、貫通孔42を介して配線基板10の他面12側に回り込み、当該他面12の凹部41がモールド樹脂30で埋められて凸部40の先端、つまり凸部40の最も厚い部分と同一平面とされることで、当該他面12側は、当該他面12に元来存在する凹凸によらずに連続した平坦面となる。
それとともに、配線基板10の一面11側と他面12側とで同一のモールド樹脂30とされるので、上記特許文献1の如く、当該両面11、12間で異種材料を設ける場合に比べて、当該両面11、12間の線膨張係数差を極力小さくすることが可能となる。よって、本実施形態のパッケージS1によれば、配線基板10の他面12側の平坦性を実現しつつ、配線基板10の反りを極力防止することができる。
また、上記した本実施形態の製造方法において、モールド樹脂30による封止工程では、貫通孔42を介して、配線基板10の一面11側のモールド樹脂30を他面12側に入り込ませ、当該他面12側の平坦性を実現することができる。つまり、同一工程にて、同一材料のモールド樹脂30を配線基板10の一面11側と他面12側とに設けることができるので、上記線膨張係数差を極力小さくできる。
また、配線基板10の一面11側と他面12側とで、別工程によりモールド樹脂を設ける場合、製造工程の途中段階において、当該両面11、12のいずれか片方の面のみにモールド樹脂が設けられた状態が発生し、その状態では、上記線膨張係数差が大きくなることより、配線基板10の反りが発生しやすい。
これに対して、本実施形態の製造方法によれば、封止工程では、貫通孔42を介して、配線基板10の一面11側のモールド樹脂30を他面12側に入り込ませ、同一材料のモールド樹脂30を、配線基板10の一面11側と他面12側とに、同一工程で設けることができる。そのため、この製造工程の途中段階における配線基板10の反りについても抑制することができる。
また、封止工程にて、モールド樹脂30は、配線基板10の一面11側から貫通孔42を介して他面12側の凹部41へ入り込み、他面12側の凹部41を埋めるように流れる。そうすることで、当該凹部41では、上記凸部40と同一平面にて、モールド樹脂30による配線基板10の支持が行われる。
そのため、封止工程において、配線基板10の一面11側からのモールド樹脂30の圧力による基板のたわみが、軽減される。このように、本実施形態の製造方法によっても、配線基板10の他面12側の平坦性を実現しつつ、配線基板10の反りを極力防止することができる。
なお、封止工程において、金型形状を工夫することにより、貫通孔42を介することなく、配線基板10の側面から配線基板10の他面12側に、モールド樹脂30を回り込ませることも考えられる、
しかし、この方法では、図1のように凹部41の外周全体が凸部40で囲まれている場合、特殊な金型形状を要する。その点、本製造方法によれば、通常の金型形状によって、他面12側へのモールド樹脂30の回り込みを行うことができる。
また、本実施形態の貫通孔42の開口形状は、ドリル等の孔開けにより形成される場合は、上記丸孔形状が好ましいが、これ限定されるものではない。また、貫通孔42の数についても1個に限定されるものではない。図3、図4、図5は、本実施形態における貫通孔42の他のバリエーションを示す概略平面図である。
図3に示されるように、貫通孔42は1個の凹部41に対して1個に限るものではなく、複数個(図3では2個)設けられていてもよい。また、貫通孔42の開口形状は、図4に示されるように、角孔形状でもよいし、図5に示されるように、不定形でもよい。これら種々の開口形状は、たとえばルーター加工等により容易に形成できる。
(第2実施形態)
図6は、本発明の第2実施形態に係るモールドパッケージS2の概略構成を示す図であり、図6において(a)は概略断面図、(b)は(a)において矢印B方向から視たときの概略平面図であり、配線基板10の他面12側のモールド樹脂30は省略してある。ここでは、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
上記図1の例では、配線基板10の他面12に凹部41は1個設けられていたが、図6に示されるように、本実施形態では、配線基板10の他面12に、凹部41が複数個設けられている。この場合には、それぞれの凹部41について、貫通孔42を設けてやればよい。
なお、図6では、凹部41は2個であるが、3個以上でもよい。また、本実施形態においても、各凹部41に設けられる貫通孔42の構成として、上記図3〜図5に示されるようなものを適用してもよいことはもちろんである。
(第3実施形態)
図7は、本発明の第3実施形態に係るモールドパッケージS3の概略断面構成を示す図である。ここでは、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。上記図1では、貫通孔42は、配線基板10の厚さ方向に平行な方向、すなわち配線基板10の両板面11、12に垂直な方向に延びる孔であった。
それに対して、本実施形態では、図7に示されるように、貫通孔42は、配線基板10の他面12から配線基板10の厚さ方向に対して平行ではなく、傾斜した方向に延びて配線基板10の一面11に到達するものとされている。このような傾斜した貫通孔42も、上記したドリル等の孔開け加工等により形成される。
配線基板10の他面12のうち貫通孔42を設けるべき部位の直上において配線基板10の一面11側に、たとえば電子部品20や一面側導体パターン13等が位置する場合、当該他面12側から当該一面12側に向けて基板厚さ方向と平行な方向に、貫通孔42を延ばすと、貫通孔42が電子部品20等と干渉してしまう。
しかし、本実施形態によれば、そのような場合でも、貫通孔42を上記傾斜方向に延ばすことにより、配線基板10の一面11側において、電子部品20等と貫通孔42との干渉を回避しつつ、貫通孔42を位置させることが可能となる。
また、本実施形態のモールドパッケージS3は、上記図2と同様、用意工程、封止工程を行うことにより製造される。ここで、用意工程では、配線基板10は上記傾斜した貫通孔42を有するものを用意する。
このとき、貫通孔42については、配線基板10の一面11側の開口部が他面12側の開口部よりも封止工程におけるモールド樹脂30の流れ方向Y(図7中の白矢印Y)の上流側に位置するように、傾斜したものとする。
そして、封止工程では、この傾斜した貫通孔42における配線基板10の一面11側の開口部が、他面12側の開口部よりも、モールド樹脂30の流れ方向Yの上流側に位置するように、上記金型100に配線基板100を設置する。具体的には、貫通孔42における配線基板10の一面11側の開口部が、上記金型100におけるゲート側、他面12側の開口部が上記金型100におけるベント側に位置するようにする。
そして、このような設置状態で封止工程を行う。それによれば、上記第1実施形態のような垂直な貫通孔42に比べて、配線基板10の一面11側を流れるモールド樹脂30が貫通孔42に入りやすく、貫通孔42から他面12の凹部41に充填されやすいという利点がある。
なお、本実施形態は、貫通孔42を傾斜させる構成とし、また、製造方法においては、その貫通孔42の傾斜方向をモールド樹脂30の流れYを考慮して、配線基板10の配置を行うようにすればよいものであるから、上記各実施形態と組み合わせが可能であることはいうまでもない。
(第4実施形態)
図8は、本発明の第4実施形態に係るモールドパッケージS4の概略断面構成を示す図である。ここでは、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
上記第1実施形態では、図1に示したように、配線基板10の他面12のうちの凹部41は、他面側導体パターン15が存在しない領域に延びるレジスト膜16と、当該レジスト膜16より露出するベース10a表面が他面12を構成している領域とにより構成されていた。
ここで、この凹部41を構成するレジスト膜16は、絶縁を必要とする領域に極力留め、それ以外の凹部41の部分は、可能な限りベース10aを露出させることが望ましい。本実施形態のモールドパッケージS4では、上記図1のモールドパッケージS1に比べて、凹部41を構成するレジスト膜16の面積を大幅に小さくしている。
これにより、本実施形態では、上記図1に比べて、凹部41においてベース10a表面が露出する領域を大幅に広くできる。その結果として、封止工程において、配線基板10の他面12と金型100(下型102)とのクリアランスを広くとることができ、当該凹部41へのモールド樹脂30の回り込み性向上が期待できる。なお、本実施形態は、上記第2、第3実施形態とも組み合わせ可能なことは言うまでもない。
(第5実施形態)
図9は、本発明の第5実施形態に係るモールドパッケージS5における配線基板10の一面11側の概略平面構成を示す図であり、モールド樹脂30を省略した構成を示している。ここでは、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
本実施形態では、図9に示されるように、用意工程にて用意される配線基板10として、配線基板10の一面11側に、封止工程にて配線基板10の一面11側を流れるモールド樹脂30を貫通孔42に案内する案内部材13aを設けたものを用意する。具体的には、案内部材13aは、貫通孔42の周囲にて突出した形状をなす
図9に示される例では、案内部材13aは、一面側導体パターン13と同様の材質よりなる導体パターンとして構成されている。ここでは、配線基板10の一面11において、案内部材13aは、貫通孔42よりも封止工程のモールド樹脂30の流れ方向Yの下流側に位置し、貫通孔42の周に沿った半円の平面形状をなしている。
本実施形態によれば、封止工程にて配線基板10の一面11側を流れるモールド樹脂30が、案内部材13aによって堰き止められて貫通孔42に集められることで、貫通孔42に入りやすくなるという利点がある。なお、モールド樹脂30の堰き止め効果を発揮するためには、この案内部材13aとしての導体パターンは、一面側導体パターン13よりも厚いものである方が望ましい。
また、図10は、本第5実施形態の第1の別例としてのモールドパッケージにおける配線基板10の一面11側の概略平面構成を示す図であり、これもモールド樹脂30を省略した構成を示している。
上記図9に示される例では、案内部材13aは、貫通孔42の周に沿った半円の平面形状をなすものであったが、図10に示されるように、コの字の平面形状をなすものであってもよい。この図10の例でも、図9と同様に、封止工程にて配線基板10の一面11側を流れるモールド樹脂30が、案内部材13aによって貫通孔42に入りやすくなるという利点がある。
また、図11は、本第5実施形態の第2の別例としてのモールドパッケージにおける配線基板10の一面11側の概略平面構成を示す図であり、これもモールド樹脂30を省略した構成を示している。
上記図9および図10に示される例では、案内部材13aを一面側導体パターン13と同様の材質よりなる導体パターンとして構成したが、この図11に示されるように、案内部材20aは、配線基板10の一面11に搭載された電子部品20aにより構成されたものであってもよい。
この図10の例でも、図9と同様に、封止工程にて配線基板10の一面11側を流れるモールド樹脂30が、案内部材としての電子部品20aによってせき止められるから、貫通孔42に入りやすくなるという利点がある。たとえば、このような電子部品20aとしては、チップ抵抗、チップコンデンサなどが挙げられる。
なお、本実施形態の案内部材としての導体パターン13aや電子部品20aとしては、配線基板10の回路構成に必要な導体パターンや電子部品に限るものではなく、当該回路構成とは無関係なダミーの導体パターンやダミーの電子部品であってもよい。そして、本第5実施形態についても、上記各実施形態と組み合わせが可能であることは言うまでもない。
(他の実施形態)
なお、配線基板10の他面12の凸部40、凹部41は、上記各実施形態のようなレジスト膜16によって構成されるものに限定されないことはもちろんであり、これら以外にも、たとえば配線基板10の他面12を構成する各種の膜や配線等により、当該他面12の凹凸が構成されてもよい。
また、上記したモールドパッケージは、配線基板10の他面12側がモールド樹脂30より露出するハーフモールドタイプであるが、配線基板10の他面12が露出していればよく、モールド樹脂30は、配線基板10の一面11から配線基板10の側面まで回り込むことで当該側面も封止しているものであってもよい。
また、上記した各実施形態同士の組み合わせや図示例以外にも、上記各実施形態は、可能な範囲で適宜組み合わせてもよいことはもちろんである。
10 配線基板
11 配線基板の一面
12 配線基板の他面
13a 案内部材としての導体パターン
20 電子部品
20a 案内部材としての電子部品
30 モールド樹脂
40 凸部
41 凹部
42 貫通孔
100 金型
104 金型の支持面

Claims (2)

  1. 一面(11)側に電子部品(20)が搭載され、他面(12)が凹凸を有する面とされた配線基板(10)を用意する用意工程と、
    平坦面としての支持面(104)を有する金型(100)内に前記配線基板(10)を投入し、前記配線基板(10)の他面(12)側を前記支持面(104)に接触させて前記配線基板(10)を前記金型(100)に支持させた状態で、前記金型(100)内にモールド樹脂(30)を充填することにより、前記電子部品(20)とともに前記配線基板(10)の一面(11)側を前記モールド樹脂(30)で封止する封止工程と、を備えるハーフモールドタイプのモールドパッケージの製造方法において、
    前記用意工程では、前記配線基板(10)として、当該他面(12)の凹部(41)に対応する部位に、当該他面(12)側から当該一面(11)側に貫通する貫通孔(42)が設けられたものを用意し、
    前記封止工程では、前記配線基板(10)の他面(12)側の凸部(40)の最も厚い部分を前記支持面(104)に接触させた状態で、前記モールド樹脂(30)の充填を行うことにより、前記モールド樹脂(30)を、前記配線基板(10)の一面(11)側から前記貫通孔(42)を介して他面(12)側の凹部(41)に回り込ませ、
    当該凹部(41)に回り込んだ前記モールド樹脂(30)が、当該凸部(40)の最も厚い部分と同一平面に位置するように、当該凹部(41)を前記モールド樹脂(30)で埋めるものであり、
    前記用意工程にて用意される前記配線基板(10)において、前記貫通孔(42)は、前記配線基板(10)の一面(11)側の開口部が他面(12)側の開口部よりも前記封止工程における前記モールド樹脂(30)の流れ方向の上流側に位置するように、前記配線基板(10)の他面(12)から前記配線基板(10)の厚さ方向に対して傾斜した方向に延びて一面(11)に到達するものとされていることを特徴とするモールドパッケージの製造方法。
  2. 一面(11)側に電子部品(20)が搭載され、他面(12)が凹凸を有する面とされた配線基板(10)を用意する用意工程と、
    平坦面としての支持面(104)を有する金型(100)内に前記配線基板(10)を投入し、前記配線基板(10)の他面(12)側を前記支持面(104)に接触させて前記配線基板(10)を前記金型(100)に支持させた状態で、前記金型(100)内にモールド樹脂(30)を充填することにより、前記電子部品(20)とともに前記配線基板(10)の一面(11)側を前記モールド樹脂(30)で封止する封止工程と、を備えるハーフモールドタイプのモールドパッケージの製造方法において、
    前記用意工程では、前記配線基板(10)として、当該他面(12)の凹部(41)に対応する部位に、当該他面(12)側から当該一面(11)側に貫通する貫通孔(42)が設けられたものを用意し、
    前記封止工程では、前記配線基板(10)の他面(12)側の凸部(40)の最も厚い部分を前記支持面(104)に接触させた状態で、前記モールド樹脂(30)の充填を行うことにより、前記モールド樹脂(30)を、前記配線基板(10)の一面(11)側から前記貫通孔(42)を介して他面(12)側の凹部(41)に回り込ませ、
    当該凹部(41)に回り込んだ前記モールド樹脂(30)が、当該凸部(40)の最も厚い部分と同一平面に位置するように、当該凹部(41)を前記モールド樹脂(30)で埋めるものであり、
    前記用意工程にて用意される前記配線基板(10)において、前記配線基板(10)の一面(11)側には、前記封止工程にて前記配線基板(10)の一面(11)側を流れる前記モールド樹脂(30)を、前記貫通孔(42)に案内するように突出した形状をなす案内部材(13a、20a)が設けられていることを特徴とするモールドパッケージの製造方法。
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