JP5784199B2 - Window substrate and touch screen panel having the same - Google Patents

Window substrate and touch screen panel having the same Download PDF

Info

Publication number
JP5784199B2
JP5784199B2 JP2014169265A JP2014169265A JP5784199B2 JP 5784199 B2 JP5784199 B2 JP 5784199B2 JP 2014169265 A JP2014169265 A JP 2014169265A JP 2014169265 A JP2014169265 A JP 2014169265A JP 5784199 B2 JP5784199 B2 JP 5784199B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
touch screen
window substrate
screen panel
hue
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014169265A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015043207A (en
Inventor
元榮 張
元榮 張
基煥 安
基煥 安
昇鉉 ▲曹▼
昇鉉 ▲曹▼
相滿 ▲黄▼
相滿 ▲黄▼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Original Assignee
Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongwoo Fine Chem Co Ltd filed Critical Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Publication of JP2015043207A publication Critical patent/JP2015043207A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5784199B2 publication Critical patent/JP5784199B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、ウィンドウ基板及びそれを備えたタッチスクリーンパネルに関し、より詳しくは、様々な立体感の表現が可能なウィンドウ基板及びそれを備えたタッチスクリーンパネルに関する。   The present invention relates to a window substrate and a touch screen panel including the same, and more particularly to a window substrate capable of expressing various stereoscopic effects and a touch screen panel including the same.

近年、急速に発展している半導体技術を中心に、小型化及び軽量化によってさらに性能が向上したディスプレイ装置の需要が急速的に増加している。   In recent years, there has been a rapid increase in demand for display devices whose performance has been further improved by downsizing and weight reduction, centering on rapidly developing semiconductor technology.

情報化の傾向から、情報を視覚的に伝達するための電子ディスプレイが様々な形態で登場しており、最近では、携帯通信の発達に伴い携帯性が求められるディスプレイの開発が強く求められている。   Due to the trend toward computerization, electronic displays for visually transmitting information have appeared in various forms. Recently, with the development of mobile communication, the development of displays that require portability is strongly demanded. .

このようなディスプレイ装置は、ブラウン管方式から液晶表示装置(LCD;Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイパネル(PDP;Plasma Display Panel)、有機発光表示装置(OLED;Organic Electro Luminescence Display)等の方式へ変化した。特に、液晶ディスプレイ(LCD;liquid crystal display)は、既存のブラウン管方式と比較して消費電力が少なく、小型化及び軽量薄型化が可能であり、且つ有害電磁波を放出しないといった長所を有する。それ故に、次世代先端ディスプレイとして注目されており、現在ではディスプレイ装置を必要とする殆どすべての情報処理機器に搭載され用いられている。なお、最近では、スマートフォンの普及によって、このようなディスプレイ装置をタッチセンサと一体化させたタッチスクリーンパネルの使用が急激に増加しているのが実情である。   Such a display device has changed from a cathode ray tube method to a method such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting display (OLED), or the like. . In particular, a liquid crystal display (LCD) has advantages in that it consumes less power than the existing cathode ray tube system, can be reduced in size and weight, and does not emit harmful electromagnetic waves. Therefore, it attracts attention as a next-generation advanced display, and is currently mounted and used in almost all information processing devices that require a display device. In recent years, the use of touch screen panels in which such display devices are integrated with touch sensors is rapidly increasing due to the spread of smartphones.

図1に示すように、携帯電話を例として挙げると、最外面にカバーウィンドウ基板が配置され、カバーウィンドウ基板は、全面に画像が表示され、必要に応じてタッチ入力が行われる部分である表示部と、この映像センサの表示部を取り囲む非表示部とに区分される。   As shown in FIG. 1, when a mobile phone is taken as an example, a cover window substrate is arranged on the outermost surface, and the cover window substrate is a display where an image is displayed on the entire surface and touch input is performed as necessary. And a non-display portion surrounding the display portion of the video sensor.

非表示部には非表示部遮光パターンが形成され、不透明な導電性配線パターン及び各種回路を隠蔽する機能を有し、必要に応じて、携帯電話メーカーの商標やロゴ等が印刷される。従来、非表示部は、配線や回路の隠蔽が主な目的であったため、単純な色相層で形成されることが一般的である。   A non-display portion light-shielding pattern is formed in the non-display portion, and has a function of concealing an opaque conductive wiring pattern and various circuits. If necessary, a trademark or a logo of a mobile phone manufacturer is printed. Conventionally, the non-display portion is mainly formed of a simple hue layer because the main purpose is to hide wiring and circuits.

韓国公開特許第2013−56598号公報には、熱硬化性ブラックインク組成物を用いて、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、リバースオフセット等の方式でタッチパネルのベゼルパターンを形成する技術が開示されている。   Korean Patent No. 2013-56598 discloses a technique for forming a bezel pattern of a touch panel by a method such as gravure printing, offset printing, screen printing, and reverse offset using a thermosetting black ink composition. Yes.

しかしながら、韓国公開特許第2013−56598号公報には、ベゼル(非表示部)全体に対する印刷方式のみが記載されており、非表示部の一部に該当するロゴ等のパターンを形成する方法については記載されていない。韓国公開特許第2013−56598号公報に開示された前記印刷方式は、いずれも相対的に大きい設備が必要であるため、小面積のパターンを印刷するには適していない。   However, Korean Published Patent No. 2013-56598 describes only a printing method for the entire bezel (non-display portion), and a method for forming a pattern such as a logo corresponding to a part of the non-display portion. Not listed. The printing methods disclosed in Korean Patent Publication No. 2013-56598 are not suitable for printing a pattern with a small area because they require relatively large equipment.

韓国公開特許第2013−56598号公報Korean Published Patent No. 2013-56598

本発明は、立体感のある文様を具備する非表示部を備えるウィンドウ基板を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the window board | substrate provided with the non-display part which comprises the pattern with a three-dimensional effect.

また、本発明は、文様の視認性に優れた非表示部を備えるウィンドウ基板を提供することを他の目的とする。   Another object of the present invention is to provide a window substrate provided with a non-display portion having excellent pattern visibility.

また、本発明は、立体感のある文様を具備する非表示部を製造することができる方法を提供することを更なる目的とする。   Moreover, this invention makes it the further objective to provide the method which can manufacture the non-display part which comprises the pattern with a three-dimensional effect.

1.ウィンドウ基板と、前記ウィンドウ基板の一面の非表示部に形成された非伝導性遮光パターンとを備え、前記非伝導性遮光パターンが、パール顔料を含む凹凸パターンと、前記凹凸パターンを覆って平坦な表面を形成する色相パターン層と、前記色相パターン層の上部の遮光層とを備える、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   1. A window substrate and a non-conductive light-shielding pattern formed on a non-display portion on one surface of the window substrate, the non-conductive light-shield pattern covering the concavo-convex pattern including the pearl pigment and the concavo-convex pattern is flat. A window substrate for a touch screen panel, comprising: a hue pattern layer that forms a surface; and a light shielding layer on the hue pattern layer.

2.前記項目1において、前記凹凸パターンの高さが2〜20μmである、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   2. In the item 1, a window substrate for a touch screen panel, wherein the height of the uneven pattern is 2 to 20 μm.

3.前記項目1において、前記パール顔料が、前記凹凸パターンの全重量に対して0.2〜2重量%の量で含まれる、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   3. The window substrate for a touch screen panel according to item 1, wherein the pearl pigment is contained in an amount of 0.2 to 2% by weight based on the total weight of the uneven pattern.

4.前記項目1において、前記パール顔料の平均粒径が5〜15μmである、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   4). The window substrate for a touch screen panel according to item 1, wherein the pearl pigment has an average particle size of 5 to 15 μm.

5.前記項目1において、前記パール顔料が、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備える、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   5. In the item 1, the window substrate for a touch screen panel, wherein the pearl pigment comprises a reflective layer core part and a high refractive index layer coating the core part.

6.前記項目5において、前記反射層コア部が、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、及び板状チタニア・シリカ複合酸化物からなる群から選択される少なくとも1種である、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   6). In the item 5, the core layer of the reflective layer is mica, sericite, talc, kaolin, smectite clay mineral, plate-like titanium dioxide, plate-like silica, plate-like aluminum oxide, boron nitride, barium sulfate, and plate-like titania. A window substrate for a touch screen panel, which is at least one selected from the group consisting of silica composite oxides.

7.前記項目5において、前記高屈折率層が、TiO、ZrO、Sb、ZnS、SnO、及びZnOからなる群から選択される少なくとも1種を含む、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。 7). In the item 5, the window substrate for a touch screen panel, wherein the high refractive index layer includes at least one selected from the group consisting of TiO 2 , ZrO 2 , Sb 2 O 3 , ZnS, SnO 2 , and ZnO. .

8.前記項目1において、前記色相パターン層が複数の着色層からなる、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   8). In the item 1, the window substrate for a touch screen panel, wherein the hue pattern layer is composed of a plurality of colored layers.

9.前記項目8において、複数の着色層で形成された色相パターン層は、各層の色相が互いに異なる、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   9. In the item 8, the hue pattern layer formed of a plurality of colored layers is a window substrate for a touch screen panel, wherein the hue of each layer is different from each other.

10.前記項目1において、前記遮光層が黒色の色相を有する、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   10. The window substrate for a touch screen panel according to item 1, wherein the light shielding layer has a black hue.

11.ウィンドウ基板の一面の非表示部にパール顔料を含む凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物を塗布し、フォトリソグラフィで凹凸パターンを形成する段階と、
前記凹凸パターンが形成されたウィンドウ基板上に非伝導性色相パターン形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィで前記凹凸パターンを覆って平坦な表面を形成する色相パターン層を形成する段階と、
前記色相パターン層に非伝導性遮光層形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィで遮光層を形成する段階と
を備える、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。
11. Applying a photosensitive resin composition for forming a concavo-convex pattern containing a pearl pigment to a non-display portion on one surface of a window substrate, and forming a concavo-convex pattern by photolithography,
Applying a non-conductive hue pattern forming composition on a window substrate on which the concavo-convex pattern is formed, and forming a hue pattern layer that covers the concavo-convex pattern by photolithography to form a flat surface;
Applying a non-conductive light-shielding layer forming composition to the hue pattern layer, and forming the light-shielding layer by photolithography.

12.前記項目11において、前記凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物が、前記パール顔料を含む着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含み、前記パール顔料が、固形分を基準とし、前記組成物の全重量に対して0.2〜2重量%の量で含まれる、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   12 In the item 11, the photosensitive resin composition for forming a concavo-convex pattern includes a colorant containing the pearl pigment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent, and the pearl A method for producing a window substrate for a touch screen panel, wherein the pigment is contained in an amount of 0.2 to 2% by weight based on the solid content, based on the total weight of the composition.

13.前記項目11において、前記非伝導性色相パターン形成用組成物及び前記非伝導性遮光層形成用組成物が、互いに独立して、着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含む、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   13. In the item 11, the composition for forming a nonconductive hue pattern and the composition for forming a nonconductive light shielding layer are independently of each other, a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization. A method for manufacturing a window substrate for a touch screen panel, comprising an initiator and a solvent.

14.前記項目11において、前記色相パターン層が複数の着色層で形成される、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   14 12. The method of manufacturing a window substrate for a touch screen panel according to item 11, wherein the hue pattern layer is formed of a plurality of colored layers.

15.前記項目11において、前記遮光層が黒色の色相層で形成される、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   15. 12. The method of manufacturing a window substrate for a touch screen panel according to item 11, wherein the light shielding layer is formed of a black hue layer.

16.前記項目1〜10のいずれか一項目に記載のウィンドウ基板を備えたタッチスクリーンパネル。   16. A touch screen panel comprising the window substrate according to any one of items 1 to 10.

17.前記項目16に記載のタッチスクリーンパネルを備えた画像表示装置。   17. An image display device comprising the touch screen panel according to item 16.

本発明のウィンドウ基板は、非表示部に凹凸構造である色相パターン及びパール顔料層を備えることで、立体感を有し、視認性に優れ、且つ様々な質感を有する文様の具現が可能である。   The window substrate of the present invention is provided with a hue pattern and a pearl pigment layer having a concavo-convex structure in a non-display portion, so that it is possible to embody a pattern having a three-dimensional effect, excellent visibility, and various textures. .

また、本発明のウィンドウ基板製造方法は、薄膜構造の文様の製造が可能であり、パール顔料を含む凹凸パターンをフォトリソグラフィで形成することにより、大面積の基板にも容易に適用することができる。   In addition, the window substrate manufacturing method of the present invention can produce a pattern having a thin film structure, and can be easily applied to a large-area substrate by forming a concavo-convex pattern containing a pearl pigment by photolithography. .

図1は、タッチスクリーンパネルが適用された携帯電話の概略的な斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a mobile phone to which a touch screen panel is applied. 図2は、本発明に係る非伝導性遮光パターンを備えたウィンドウ基板の概略的な垂直断面図である。FIG. 2 is a schematic vertical sectional view of a window substrate provided with a non-conductive light shielding pattern according to the present invention. 図3は、本発明の製造方法の一具体例を概略的に示した図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a specific example of the production method of the present invention.

本発明は、ウィンドウ基板、及び前記ウィンドウ基板一面の非表示部に形成された非伝導性遮光パターンを備え、前記非伝導性遮光パターンが、パール顔料を含む凹凸パターンと、前記凹凸パターンを覆って平坦な表面を形成する色相パターン層と、前記色相パターン層上部の遮光層とを備えることにより、立体感及び視認性に優れた文様の表現が可能な非表示部を備えることができ、大面積の基板への適用により適したウィンドウ基板及びそれを備えたタッチスクリーンパネルに関する。   The present invention comprises a window substrate and a non-conductive light-shielding pattern formed on a non-display portion on one surface of the window substrate, and the non-conductive light-shielding pattern covers the concavo-convex pattern including a pearl pigment and the concavo-convex pattern. By providing a hue pattern layer that forms a flat surface and a light-shielding layer above the hue pattern layer, it is possible to provide a non-display portion capable of expressing a pattern excellent in stereoscopic effect and visibility, and having a large area The present invention relates to a window substrate more suitable for application to a substrate and a touch screen panel including the same.

本発明において、立体感とは、三次元構造で視認されることの他に、正面及び斜面から視認される形状に差異が認められることも含む概念である。   In the present invention, the three-dimensional effect is a concept including not only that the three-dimensional structure is visually recognized but also that the shape visually recognized from the front and the slope is recognized.

以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。但し、本明細書に添付される以下の図面は、本発明の好ましい実施例を例示するものであり、前述の発明の内容と共に本発明の技術思想の理解をさらに容易にするためものであるので、本発明は、前記図面に記載された事項にのみ限定されるものと解析されるべきではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention and are intended to further facilitate understanding of the technical idea of the present invention together with the contents of the above-described invention. The present invention should not be analyzed as being limited only to the matters described in the drawings.

<ウィンドウ基板>
図2には、本発明の非伝導性遮光パターン200を備えたウィンドウ基板100の概略的な垂直断面図が示される。
<Window board>
FIG. 2 shows a schematic vertical sectional view of the window substrate 100 having the nonconductive light-shielding pattern 200 of the present invention.

本発明に係る非伝導性遮光パターン200は、凹凸パターン(層)210と、色相パターン層220と、遮光層230とを備える。   The non-conductive light shielding pattern 200 according to the present invention includes a concavo-convex pattern (layer) 210, a hue pattern layer 220, and a light shielding layer 230.

凹凸パターン210は、パール顔料を含み、且つウィンドウ基板100の視認側の反対側表面に突出した形態の凹凸構造で形成される。非伝導性遮光パターン200中にテクスチャ構造を形成することにより、非伝導性遮光パターン200中に立体的構造を提供する。きらめくパール顔料が凹凸パターンで形成されることにより、後述の色相パターン220との反射率及び屈折率の差異によって、立体感及び質感効果を著しく高めることができる。目的の文様は、凹凸パターン210の具体的な形態によって形成され得る。   The concavo-convex pattern 210 includes a pearl pigment and has a concavo-convex structure that protrudes from the surface on the opposite side of the viewing side of the window substrate 100. By forming a texture structure in the non-conductive light-shielding pattern 200, a three-dimensional structure is provided in the non-conductive light-shielding pattern 200. By forming the glittering pearl pigment in a concavo-convex pattern, the three-dimensional effect and the texture effect can be remarkably enhanced due to the difference in reflectance and refractive index from the hue pattern 220 described later. The target pattern can be formed by a specific form of the uneven pattern 210.

凹凸パターン210の高さは、2〜20μmであるのが好ましい。前記数値範囲であれば、優れた視認性及び工程性を同時に確保することができる。   The height of the uneven pattern 210 is preferably 2 to 20 μm. If it is the said numerical range, the outstanding visibility and process property can be ensured simultaneously.

凹凸パターン210に含まれるパール顔料は、多重色相の真珠光沢顔料であり、真珠色、虹色、金属色等を示す顔料を統括して称するものである。本発明に用いられるパール顔料は、美感に優れるのみならず、反射率が高く、立体感及び質感の具現性能にも優れる。   The pearl pigment contained in the concavo-convex pattern 210 is a pearl luster pigment with multiple hues, and collectively refers to pigments showing pearl, rainbow, metal, and the like. The pearl pigment used in the present invention is not only excellent in aesthetics, but also has high reflectivity, and is excellent in three-dimensional effect and texture realization performance.

本発明に用いられるパール顔料は、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備えてもよい。前記反射層コア部及び高屈折率層の具体的な素材は、目的の色相、反射率等によって多様に選択することができる。   The pearl pigment used in the present invention may include a reflective layer core and a high refractive index layer that coats the core. Specific materials for the reflective layer core and the high refractive index layer can be variously selected depending on the target hue, reflectance, and the like.

反射層コア部としては、例えば、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、板状チタニア・シリカ複合酸化物等が挙げられる。これらは、それぞれ単独で又は2種以上混合して用いることができる。   Examples of the reflective layer core include mica, sericite, talc, kaolin, smectite clay mineral, plate-like titanium dioxide, plate-like silica, plate-like aluminum oxide, boron nitride, barium sulfate, plate-like titania / silica composite oxide. Thing etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

高屈折率層は、TiO、ZrO、Sb、ZnS、SnO、ZnO等を含んでもよい。これらは、それぞれ単独で又は2種以上混合して用いることができる。 The high refractive index layer may include TiO 2 , ZrO 2 , Sb 2 O 3 , ZnS, SnO 2 , ZnO and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

高屈折率層の屈折率は、2.4〜3.0であることが好ましい。前記数値範囲であれば、パール顔料の優れた反射率及び美感を示すことができる。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably 2.4 to 3.0. If it is the said numerical range, the outstanding reflectance and aesthetics of a pearl pigment can be shown.

本発明に用いられるパール顔料の平均粒径は、5〜15μmであることが好ましい。   The average particle diameter of the pearl pigment used in the present invention is preferably 5 to 15 μm.

前記数値範囲の平均粒径を有するパール顔料を用いると、組成物の保存安定性が高く、硬化用光線の遮蔽問題を改善することで良好なパターン形成が可能になる。平均粒径が5μm未満であれば、視認性(光特性又はパール感)が低下され得、15μmを超えると、組成物の塗布時にノズルが塞がられるか、或いは塗布面の均一性が低下してパターンを容易に形成することができないことがある。   When a pearl pigment having an average particle size in the numerical range is used, the composition has high storage stability, and a good pattern can be formed by improving the problem of shielding the curing light beam. If the average particle size is less than 5 μm, the visibility (light characteristics or pearl feeling) can be reduced, and if it exceeds 15 μm, the nozzle is blocked during application of the composition, or the uniformity of the application surface is reduced. Therefore, the pattern may not be easily formed.

本発明に係るパール顔料は、凹凸パターン210の全重量に対して0.2〜2重量%の量で含まれる。含有量が0.2重量%未満であれば、視認性(光特性又はパール感)が低下され得て、2重量%を超えると、工程性が低下され得る。   The pearl pigment according to the present invention is included in an amount of 0.2 to 2% by weight with respect to the total weight of the uneven pattern 210. If the content is less than 0.2% by weight, the visibility (light characteristics or pearl feeling) can be lowered, and if it exceeds 2% by weight, the processability can be lowered.

凹凸パターン210は必要に応じて、前述のパール顔料の他に、本発明の範囲内において当分野で知られた着色剤、例えば、染料及び顔料をさらに含むこともできる。   The concavo-convex pattern 210 may further include colorants known in the art within the scope of the present invention, for example, dyes and pigments, in addition to the pearl pigment described above.

色相パターン層220は、凹凸パターン210を覆う層であり、視認側から見た時、凹凸パターン210が具現している凹凸構造のテクスチャパターンによる入射光の反射及び屈折と、色相パターン層220での反射現象とによって、凹凸パターン210による文様に立体感及び質感を付与する機能を有する。   The hue pattern layer 220 is a layer that covers the concavo-convex pattern 210, and when viewed from the viewing side, the reflection and refraction of incident light by the texture pattern of the concavo-convex structure embodied by the concavo-convex pattern 210, and the hue pattern layer 220 By the reflection phenomenon, it has a function of giving a three-dimensional feeling and texture to the pattern by the uneven pattern 210.

色相パターン層220は、所望の色相を具現するために複数の着色層からなり得る。この場合、各層は互いに異なる色相を有することができる。例えば、互いに異なる色相を有する層を複数形成することにより、混色の色相を具現することもできる。   The hue pattern layer 220 may include a plurality of colored layers to realize a desired hue. In this case, each layer can have a different hue. For example, a mixed color hue can be realized by forming a plurality of layers having different hues.

色相パターン層220は、フォトリソグラフィが可能な非伝導性色相パターン形成用組成物で形成され得る。これについては後述する。   The hue pattern layer 220 may be formed of a non-conductive hue pattern forming composition capable of photolithography. This will be described later.

遮光層230は、色相パターン層220の上部に平坦な表面を形成することで、後の接着過程が容易に遂行できるようにして、金属配線等の遮蔽及び色相パターン層220で覆われた凹凸パターン210を保護し、非伝導性遮光パターンに目的の色相が具現されるようにする機能を有する。故に、遮光層230は、色相パターン層220と同一の色相を有するか、或いは異なる色相を有することができる。好ましくは、遮光層230は、金属配線の遮蔽効果及び色相パターン層220における色相の効果的な具現のために、黒色の色相層であってよい。   The light shielding layer 230 forms a flat surface on the upper part of the hue pattern layer 220 so that the subsequent bonding process can be easily performed, thereby shielding the metal wiring and the uneven pattern covered with the hue pattern layer 220. 210 has a function of protecting the 210 and realizing a target hue in the non-conductive light shielding pattern. Therefore, the light shielding layer 230 may have the same hue as the hue pattern layer 220 or may have a different hue. Preferably, the light blocking layer 230 may be a black hue layer for the shielding effect of the metal wiring and the effective implementation of the hue in the hue pattern layer 220.

遮光層230の厚さは、1〜10μmであることが好ましい。厚さが1μm未満であれば、遮蔽性が低下され得て、10μmを超えると、工程性が低下され得る。   The thickness of the light shielding layer 230 is preferably 1 to 10 μm. If the thickness is less than 1 μm, the shielding property can be lowered, and if it exceeds 10 μm, the processability can be lowered.

前述のような非伝導性遮光パターンを有する本発明のウィンドウ基板は、立体感を有し、視認性に優れた文様を有する非表示部を備えることができる。   The window substrate of the present invention having the non-conductive light-shielding pattern as described above can have a non-display portion having a three-dimensional effect and a pattern having excellent visibility.

<ウィンドウ基板の製造方法>
以下では、本発明のウィンドウ基板の製造方法をより詳しく説明する。図3には、本発明の製造方法の一具体例が概略的に示されている。
<Window substrate manufacturing method>
Below, the manufacturing method of the window board | substrate of this invention is demonstrated in detail. FIG. 3 schematically shows a specific example of the production method of the present invention.

先ず、ウィンドウ基板一面の非表示部に凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物を塗布し、フォトリソグラフィで凹凸パターンを形成する。   First, a photosensitive resin composition for forming a concavo-convex pattern is applied to a non-display portion on one surface of a window substrate, and a concavo-convex pattern is formed by photolithography.

凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物は、パール顔料を含む着色剤(A)と、アルカリ可溶性バインダ樹脂(B)と、光重合性化合物(C)と、光重合開始剤(D)と、溶媒(E)とを含む。   The photosensitive resin composition for forming an uneven pattern includes a colorant (A) containing a pearl pigment, an alkali-soluble binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent. (E).

着色剤(A)
着色剤は、前述のパール顔料の他に、本発明の範囲内において当分野で知られた着色剤、例えば、染料及び顔料をさらに含むことができる。
Colorant (A)
In addition to the pearl pigments described above, the colorant can further include colorants known in the art within the scope of the present invention, such as dyes and pigments.

アルカリ可溶性バインダ樹脂(B)
アルカリ可溶性バインダ樹脂は、本発明の溶媒に溶解され得、前記着色剤に対する結着(バインダ)樹脂の機能を有し、且つアルカリ性現像液に溶解可能な樹脂であれば、特にその種類を制限することなく用いることができる。
Alkali-soluble binder resin (B)
The alkali-soluble binder resin is particularly limited as long as it is a resin that can be dissolved in the solvent of the present invention, has a function of a binder resin for the colorant, and can be dissolved in an alkaline developer. Can be used without any problem.

前記バインダ樹脂は、例えば、カルボキシル基含有単量体、及びこの単量体と共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。   Examples of the binder resin include a carboxyl group-containing monomer and a copolymer with another monomer copolymerizable with this monomer.

前記カルボキシル基含有単量体としては、例えば、不飽和モノカルボン酸や、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸等の、分子中に1個以上のカルボキシル基を有する不飽和多価カルボン酸等の不飽和カルボン酸等が挙げられる。   Examples of the carboxyl group-containing monomer include unsaturated polycarboxylic acids having one or more carboxyl groups in the molecule, such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, and unsaturated tricarboxylic acids. Unsaturated carboxylic acid etc. are mentioned.

前記不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロロアクリル酸、ケイ皮酸等が挙げられる。   Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid.

前記不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等が挙げられる。   Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid.

前記不飽和多価カルボン酸は、酸無水物であってよく、具体的には、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物等が挙げられる。また、前記不飽和多価カルボン酸は、そのモノ(2−メタクリロイロキシアルキル)エステル類であってよく、例えば、コハク酸モノ(2−アクリルロイロキシエチル)、コハク酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)、フタル酸モノ(2−アクリルロイロキシエチル)、フタル酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)等が挙げられる。前記不飽和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモノ(メタ)アクリレート類であってよく、例えば、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレート等が挙げられる。   The unsaturated polyvalent carboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples include maleic acid anhydride, itaconic acid anhydride, citraconic acid anhydride, and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (2-methacryloyloxyalkyl) esters such as succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl), succinic acid mono (2-methacryloyl). Roxyethyl), mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate, mono (2-methacryloyloxyethyl) phthalate and the like. The unsaturated polyvalent carboxylic acid may be mono (meth) acrylates of dicarboxy polymers at both ends, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate.

前記カルボキシル基含有単量体は、それぞれ単独で又は2種以上混合して用いることができる。   The said carboxyl group-containing monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

前記カルボキシル基含有単量体と共重合可能な他の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−クロロスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、インデン等の芳香族ビニル化合物;メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、i−プロピルアクリレート、i−プロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、i−ブチルアクリレート、i−ブチルメタクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、2−フェノキシエチルメタクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンタジエニルアクリレート、ジシクロペンタジエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロールモノメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類;2−アミノエチルアクリレート、2−アミノエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−アミノプロピルアクリレート、2−アミノプロピルメタクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリレート、2−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、3−アミノプロピルアクリレート、3−アミノプロピルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリレート、3−ジメチルアミノプロピルメタクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニルリデン等のシアン化ビニル化合物;アクリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチルメタクリルアミド等の不飽和アミド類;マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類;及びポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリ−n−ブチルアクリレート、ポリ−n−ブチルメタクリレート、ポリシロキサンの重合体分子鎖の末端にモノアクリロイル又はモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類等が挙げられる。これら単量体は、それぞれ単独で又は2種以上混合して用いることができる。   Examples of other monomers copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer include styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o -Methoxy styrene, m-methoxy styrene, p-methoxy styrene, o-vinyl benzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p -Aromatic vinyl compounds such as vinylbenzyl glycidyl ether and indene; methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-pro Methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2 -Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxy Butyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate Rate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate , Methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate Isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadiethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate Unsaturated amino acid esters such as 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as tacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl butyrate Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl benzoate; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinyl cyanide cyanide Acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide, N-2-hydroxyethyl methacrylamide, etc. Saturated amides; unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene; and polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, Examples thereof include macromonomers having a monoacryloyl or monomethacryloyl group at the end of a polymer molecular chain of poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, or polysiloxane. These monomers can be used alone or in admixture of two or more.

前記バインダ樹脂が、カルボキシル基含有単量体及び当該単量体と共重合可能な他の単量体との共重合体である場合、前記カルボキシル基含有単量体から誘導される構成単位の含有量割合は、前記共重合体を構成する構成単位の全含有量に対して、重量分率で10〜50重量%であり、好ましくは15〜40重量%であり、より好ましくは25〜40重量%である。前記カルボキシル基含有単量体から誘導される構成単位の含有量割合が前記基準で10〜50重量%であれば、現像液への溶解性が良好であり、現像の際にパターンが正確に形成されるため好ましい。   In the case where the binder resin is a copolymer of a carboxyl group-containing monomer and another monomer copolymerizable with the monomer, the inclusion of structural units derived from the carboxyl group-containing monomer The amount ratio is 10 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight, and more preferably 25 to 40% by weight based on the total content of the structural units constituting the copolymer. %. If the content ratio of the structural unit derived from the carboxyl group-containing monomer is 10 to 50% by weight based on the above criteria, the solubility in the developer is good and the pattern is accurately formed during development. Therefore, it is preferable.

前記バインダ樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/コハク酸モノ(2−アクリロイロキシ)/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/コハク酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)/スチレン/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/スチレン/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体等が挙げられる。   Examples of the binder resin include (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer Copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic Acid / 2-hydroxyethyl ( ) Acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (Meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxy) / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer Copolymer, (Meth) acrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / N- Phenylmaleimide / St On / glycerol mono (meth) acrylate copolymer, and the like.

これらの中で、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体が好ましく用いられる。   Among these, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer A coalescent, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / styrene copolymer is preferably used.

前記バインダ樹脂は、特に制限されないが、そのポリスチレン換算の重量平均分子量が3,000〜100,000の数値範囲にあることが好ましく、3,000〜50,000、特に5,000〜50,000の数値範囲にあることがより好ましい。バインダ樹脂の重量平均分子量が3,000〜100,000の数値範囲にあれば、着色剤分散が容易で、粘度が低く、且つ保存安定性に優れるため好ましい。   The binder resin is not particularly limited, but its polystyrene-equivalent weight average molecular weight is preferably in a numerical range of 3,000 to 100,000, preferably 3,000 to 50,000, particularly 5,000 to 50,000. It is more preferable that it is in the numerical range. A binder resin having a weight average molecular weight in the numerical range of 3,000 to 100,000 is preferable because colorant dispersion is easy, viscosity is low, and storage stability is excellent.

前記バインダ樹脂は、組成物中の固形分の全重量に対して、3〜80重量%、好ましくは5〜70重量%の量で含まれ得る。前記バインダ樹脂の含有量が前記基準で3〜80重量%であれば、着色剤の分散が容易であり、且つ保存安定性に優れるため好ましい。   The binder resin may be included in an amount of 3 to 80% by weight, preferably 5 to 70% by weight, based on the total weight of the solid content in the composition. If the content of the binder resin is 3 to 80% by weight based on the above criteria, it is preferable because dispersion of the colorant is easy and storage stability is excellent.

光重合性化合物(C)
光重合性化合物は、光及び後述の光重合開始剤の作用により重合することができる化合物であって、単官能性単量体、二官能性単量体、その他の多官能性単量体等を用いることができる。
Photopolymerizable compound (C)
The photopolymerizable compound is a compound that can be polymerized by the action of light and a photopolymerization initiator described later, and includes a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, other polyfunctional monomers, etc. Can be used.

単官能性単量体の具体的な例としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。   Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenyl carbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinyl pyrrolidone and the like. It is done.

二官能性単量体の具体的な例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth). Examples thereof include acrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate.

三官能以上の多官能光重合性化合物の具体的な例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipenta Examples include erythritol hexa (meth) acrylate.

前記例として挙げた光重合性化合物の中でも、二官能以上の多官能性単量体が好ましく用いられ、三官能以上の(メタ)アクリル酸エステル類、及びウレタン(メタ)アクリレートが重合性に優れて強度を向上させ得る点から特に好ましい。前記例として挙げた光重合性化合物は、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Among the photopolymerizable compounds mentioned as examples, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used, and trifunctional or higher (meth) acrylic acid esters and urethane (meth) acrylates are excellent in polymerizability. It is particularly preferable from the viewpoint that the strength can be improved. The photopolymerizable compounds mentioned as examples can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合性化合物は、組成物中の固形分の全重量に対して、1〜60重量%、好ましくは5〜50重量%の量で含まれ得る。光重合性化合物が前記数値範囲で含まれれば、画素部の強度や平滑性が良好になり得る。   The photopolymerizable compound may be included in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the total weight of the solid content in the composition. If the photopolymerizable compound is included in the numerical range, the strength and smoothness of the pixel portion can be improved.

光重合開始剤(D)
前記光重合開始剤としては、当分野で知られた光重合開始剤を特に制限なく用いることができ、例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、及びオキシム化合物からなる群から選択される少なくとも1種を用いることができる。
Photopolymerization initiator (D)
As the photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator known in the art can be used without particular limitation, and for example, selected from the group consisting of triazine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, and oxime compounds. At least one of the above can be used.

前記トリアジン系化合物としては、具体的に、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−フラン−2−イル)エテニル]−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。   Specific examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- ( 4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2-furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4- Diethylamino-2-methylphenol Nyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like. .

前記アセトフェノン系化合物としては、具体的に、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパン−1−オン、2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン等が挙げられる。   Specific examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy). ) Phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and the like.

前記ビイミダゾール化合物としては、具体的に、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(アルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(トリアルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2−ビス(2,6−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、又は4,4’,5,5’位のフェニル基がカルボアルコキシ基で置換されたイミダゾール化合物等が挙げられる。これらの中で、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2−ビス(2,6−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好ましく用いられる。   Specific examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl). ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2 '-Bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5' -Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, or an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4 ', 5,5' position is substituted with a carboalkoxy group. Among these, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ′ , 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole are preferably used.

前記オキシム化合物は、具体的に、o−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられ、市販品としては、BASF社のOXE01、OXE02が主に挙げられる。   Specific examples of the oxime compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and commercially available products mainly include OXE01 and OXE02 manufactured by BASF.

また、本発明の効果を損なわない程度であれば、この分野において通常用いられるその他の光重合開始剤等をさらに併用することもできる。なお、前記光重合開始剤は、この分野において一般的に用いられる光重合開始助剤を組み合わせて用いることもできる。   Moreover, as long as the effect of the present invention is not impaired, other photopolymerization initiators or the like usually used in this field can be used in combination. In addition, the said photoinitiator can also be used in combination with the photoinitiator adjuvant generally used in this field | area.

具体的には、例として、アミン化合物、カルボン酸化合物が挙げられる。前記アミン化合物の具体的な例としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物;4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称:ミヒラーケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等の芳香族アミン化合物が挙げられる。好ましくは、前記アミン化合物は、芳香族アミン化合物であってよい。   Specific examples include amine compounds and carboxylic acid compounds. Specific examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine; methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid. Isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid-2-ethylhexyl, benzoic acid (2-dimethylamino) ethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone), 4, Aromatic amine compounds such as 4′-bis (diethylamino) benzophenone are exemplified. Preferably, the amine compound may be an aromatic amine compound.

前記カルボン酸化合物の具体的な例としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、N−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。   Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, Examples include aromatic heteroacetic acids such as dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

前記光重合開始剤は、組成物中の固形分の全重量に対して、1〜40重量%、好ましくは3〜20重量%の量で含まれることが好ましい。光重合開始剤が前記含有量範囲で含まれることで、感度の上昇による露出時間の短縮、及び生産性の向上を図ることができる。   The photopolymerization initiator is preferably contained in an amount of 1 to 40% by weight, preferably 3 to 20% by weight, based on the total weight of the solid content in the composition. By including the photopolymerization initiator in the content range, it is possible to shorten the exposure time due to an increase in sensitivity and improve productivity.

溶媒(E)
前記溶媒は特に制限されない。好ましくは、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類又はアミド類等を用いることができる。
Solvent (E)
The solvent is not particularly limited. Preferably, ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters or amides can be used.

前記溶媒は、具体的に、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類;3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、アミルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、ブチルラクテート、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシ−1−ブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、又はγ−ブチロラクトン等のエステル類等が挙げられる。前記例として挙げた溶媒のうち、塗布性及び乾燥性面を考慮すると、好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、エチルラクテート、ブタルラクテート、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。前記例として挙げた溶媒は、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the solvent include ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene; ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, etc. Alcohols; ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Methyl toxipropionate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxy-1-butyl acetate, Methoxypentyl acetate, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol diacetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, Propylene glycol Monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene carbonate, propylene carbonate, or γ- butyrolactone esters such like. Of the solvents mentioned as examples, in view of coating properties and drying properties, preferably propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lactate, butalactate, ethyl 3-ethoxypropionate And methyl 3-methoxypropionate. The solvents mentioned as the examples can be used alone or in combination of two or more.

前記溶媒は、組成物の全重量に対して30〜90重量%、好ましくは50〜80重量%の量で含まれ得る。   The solvent may be included in an amount of 30 to 90% by weight, preferably 50 to 80% by weight, based on the total weight of the composition.

溶媒が前記数値範囲で含まれれば、組成物を塗布する際の塗布性が良好になるため好ましい。   It is preferable if the solvent is contained within the above numerical range because the coating property when the composition is applied becomes good.

図3に示すように、フォトリソグラフィによる凹凸パターン210の形成は、ウィンドウ基板100一面の非表示部に凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物を塗布し、露光及び現像する工程を経て遂行され得る。   As shown in FIG. 3, the formation of the concavo-convex pattern 210 by photolithography may be performed through a process of applying a photosensitive resin composition for concavo-convex pattern formation to a non-display portion on one surface of the window substrate 100, and exposing and developing.

前記塗布は、非伝導性色相パターン形成用組成物をウィンドウ基板100一面の非表示部に塗布して予備乾燥することで、溶媒等の揮発成分を除去して平滑な塗膜を得るものである。   In the coating, a non-conductive hue pattern forming composition is coated on a non-display portion on one surface of the window substrate 100 and preliminarily dried to remove volatile components such as a solvent and obtain a smooth coating film. .

塗布方法は、特に限定されることなく、例えば、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、吐出ノズル式塗布法等のスリットノズルを用いたコーティング法、中央滴下スピン法等の回転塗布法、押出し(extrusion)コーティング法、バーコーティング法等が挙げられる。   The coating method is not particularly limited. For example, a spray coating method, a roll coating method, a coating method using a slit nozzle such as a discharge nozzle type coating method, a spin coating method such as a central dropping spin method, an extrusion (extrusion) Examples thereof include a coating method and a bar coating method.

前記露光は、前記で得られた塗膜に、目的のパターンを得るため、マスクを介して特定領域に紫外線を照射することである。この時、露光部全体に均一に平行光線が照射され、且つマスクと基板との正確な位置合わせができるように、マスクアライナやステッパ等の装置を用いることができる。   The exposure is to irradiate a specific region with ultraviolet rays through a mask in order to obtain a desired pattern on the coating film obtained above. At this time, an apparatus such as a mask aligner or a stepper can be used so that parallel light is uniformly irradiated on the entire exposure unit and accurate alignment between the mask and the substrate can be performed.

前記現像は、前記において硬化が完了した塗膜を、現像液であるアルカリ水溶液に接触させて現像することで、目的のパターンを製造することである。現像後、必要に応じて、150〜230℃で10〜60分程度のベーキング段階を実施することができる。必要に応じて、ベーキング段階以後に更なるベーキング段階を備えることができる。   The development is to produce a target pattern by bringing the coating film, which has been cured in the above, into contact with an alkaline aqueous solution that is a developing solution and developing. After the development, a baking step can be performed at 150 to 230 ° C. for about 10 to 60 minutes as necessary. If necessary, further baking steps can be provided after the baking step.

前記のような過程によって、ウィンドウ基板100上に凹凸パターン210を形成することができる。   The concave / convex pattern 210 can be formed on the window substrate 100 through the above process.

次に、図3に示すように、前記凹凸パターン210が形成されたウィンドウ基板上に非伝導性色相パターン形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィで前記凹凸パターンを覆って平坦な表面を形成する色相パターン層を形成する。   Next, as shown in FIG. 3, a non-conductive hue pattern forming composition is applied on the window substrate on which the uneven pattern 210 is formed, and a flat surface is formed by photolithography covering the uneven pattern. A hue pattern layer is formed.

非伝導性色相パターン形成用組成物は、着色剤と、アルカリ可溶性バインダ樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含む。   The composition for forming a nonconductive hue pattern includes a colorant, an alkali-soluble binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

着色剤は、当分野で知られた着色剤を特に制限なく用いることができる。着色剤の種類は、ユーザの求める色相を具現するために特に限定されず、例えば、白色、赤色、緑色、青色の染料及び顔料、調色用の黄色、オレンジ、バイオレット、ブラウン等の染料及び顔料、及びカーボンブラック等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上混合して用いることができる。   As the colorant, a colorant known in the art can be used without particular limitation. The type of the colorant is not particularly limited in order to embody the hue desired by the user. For example, white, red, green, blue dyes and pigments, toning yellow, orange, violet, brown and other dyes and pigments , And carbon black. These can be used alone or in admixture of two or more.

着色剤は、必要に応じて、金属粉、白色顔料、蛍光顔料等をさらに含むことができる。   The colorant can further contain a metal powder, a white pigment, a fluorescent pigment, and the like, if necessary.

顔料は、無機顔料又は有機顔料であってよい。   The pigment may be an inorganic pigment or an organic pigment.

無機顔料の種類は、特に限定されず、例えば、硫酸バリウム、硫酸鉛、酸化チタン、黄鉛、ベンガル、酸化クロム、カーボンブラック等が挙げられる。   The kind of inorganic pigment is not particularly limited, and examples thereof include barium sulfate, lead sulfate, titanium oxide, chrome lead, Bengal, chromium oxide, and carbon black.

有機顔料の種類は、特に限定されず、例えば、以下のC.I.(カラーインデックス)番号で列挙する顔料が挙げられ、これらはそれぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The kind of organic pigment is not particularly limited, and examples thereof include the following C.I. I. (Color index) The pigment enumerated with a number is mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

白色顔料は、例えば、C.I.ピグメントホワイト4、5、6、6:1、7、18、18:1、19、20、22、25、26、27、28、32が挙げられる。反射効率及び白色度の側面から、C.I.ピグメントホワイト6及びC.I.ピグメントホワイト22を用いることが好ましい。前記C.I.ピグメントホワイト6に分類されるTiOは、価格が非常に安く、且つ屈折率が高くて反射率が高いといった長所を有するため、効果的な白色着色剤として用いることができる。また、前記TiOは、ルチル構造を有することが好ましい。ルチル構造を有するTiOは優れた白色度を有するため、ディスプレイ最外殻の遮光層に好ましく用いることができる。 Examples of the white pigment include C.I. I. Pigment white 4, 5, 6, 6: 1, 7, 18, 18: 1, 19, 20, 22, 25, 26, 27, 28, 32. From the aspect of reflection efficiency and whiteness, C.I. I. Pigment white 6 and C.I. I. It is preferable to use CI Pigment White 22. C. above. I. TiO 2 classified as CI Pigment White 6 has the advantages that it is very cheap and has a high refractive index and a high reflectance, so it can be used as an effective white colorant. The TiO 2 preferably has a rutile structure. Since TiO 2 having a rutile structure has excellent whiteness, it can be preferably used for the light shielding layer of the outermost shell of the display.

黄色顔料は、例えば、C.I.ピグメントイエロー1、2、3、4、5、6、12、13、14、16、17、24、55、65、73、74、81、83、87、93、94、95、97、100、101、105、108、109、110、116、120、127、128、129、133、138、139、147、148、150、151、153、154、155、166、168、169、170、172、173、174、175、176、180、185、193、194、202等が挙げられる。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 55, 65, 73, 74, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 105, 108, 109, 110, 116, 120, 127, 128, 129, 133, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 185, 193, 194, 202 and the like.

オレンジ顔料は、例えば、C.I.ピグメントオレンジ1、2、5、13、16、17、19、22、24、34、36、38、39、43、46、48、61、62、64、65、67、69、73、77等が挙げられる。   Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 22, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 61, 62, 64, 65, 67, 69, 73, 77, etc. Is mentioned.

赤色顔料としては、例えば、C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、8、9、12、14、15、17、22、23、31、37、38、41、48:1、48:2、48:3、49、50:1、52:1、53、57:1、58:4、60、63、64、68、81、88、90:1、112、114、122、123、144、146、147、149、150、151、166、168、170、175、176、177、178、179、181、185、187、188、190、193、194、202、207、208、209、214、216、220、221、224、242、243、245、247、254、255、264、272等が挙げられる。   Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 17, 22, 23, 31, 37, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 49, 50: 1, 52: 1, 53, 57: 1, 58: 4, 60, 63, 64, 68, 81, 88, 90: 1, 112, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 150, 151, 166, 168, 170, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 202, 207, 208, 209, 214, 216, 220, 221,224,242,243,245,247,254,255,264,272 etc. are mentioned.

バイオレット顔料は、例えば、C.I.ピグメントバイオレット1、2、3、5、19、23、29、31、32、37、39、50等が挙げられる。   Examples of violet pigments include C.I. I. Pigment violet 1, 2, 3, 5, 19, 23, 29, 31, 32, 37, 39, 50 and the like.

青色顔料は、例えば、C.I.ピグメントブルー1、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、17、25、56、60、66、75、79等が挙げられる。   Examples of the blue pigment include C.I. I. Pigment blue 1, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 25, 56, 60, 66, 75, 79, and the like.

緑色顔料は、例えば、C.I.ピグメントグリーン2、7、8、13、36、54等が挙げられる。   Examples of the green pigment include C.I. I. Pigment green 2, 7, 8, 13, 36, 54, and the like.

ブラウン顔料は、例えば、C.I.ピグメントブラウン1、22、23、25、27等が挙げられる。   Examples of the brown pigment include C.I. I. Pigment brown 1, 22, 23, 25, 27, and the like.

黒色顔料は、例えば、C.I.ピグメントブラック1、7、31、32等が挙げられる。   Examples of black pigments include C.I. I. Pigment black 1, 7, 31, 32, and the like.

染料の種類は、特に限定されず、例えば、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、キノンイミン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、カルボニル系染料、メチン系染料等が挙げられる。   The type of the dye is not particularly limited, and examples thereof include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, carbonyl dyes, and methine dyes.

アゾ系染料は、特に限定されず、例えば、C.I.アシッドイエロー11、C.I.アシッドオレンジ7、C.I.アシッドレッド37、C.I.アシッドレッド180、C.I.アシッドブルー29、C.I.ダイレクトレッド28、C.I.ダイレクトレッド83、C.I.ダイレクトイエロー12、C.I.ダイレクトオレンジ26、C.I.ダイレクトグリーン28、C.I.ダイレクトグリーン59、C.I.リアクティブイエロー2、C.I.リアクティブレッド17、C.I.リアクティブレッド120、C.I.リアクティブブラック5、C.I.ディスパースオレンジ5、C.I.ディスパースレッド58、C.I.ディスパースブルー165、C.I.ベーシックブルー41、C.I.ベーシックレッド18、C.I.モルダントレッド7、C.I.モルダントイエロー5、C.I.モルダントブラック7等が挙げられる。   The azo dye is not particularly limited, and examples thereof include C.I. I. Acid Yellow 11, C.I. I. Acid Orange 7, C.I. I. Acid Red 37, C.I. I. Acid Red 180, C.I. I. Acid Blue 29, C.I. I. Direct Red 28, C.I. I. Direct Red 83, C.I. I. Direct Yellow 12, C.I. I. Direct Orange 26, C.I. I. Direct Green 28, C.I. I. Direct Green 59, C.I. I. Reactive Yellow 2, C.I. I. Reactive Red 17, C.I. I. Reactive Red 120, C.I. I. Reactive Black 5, C.I. I. Disperse Orange 5, C.I. I. Disperse thread 58, C.I. I. Disperse blue 165, C.I. I. Basic Blue 41, C.I. I. Basic Red 18, C.I. I. Molded Red 7, C.I. I. Moldant Yellow 5, C.I. I. Examples thereof include Moldant Black 7.

アントラキノン系染料は、特に限定されず、例えば、C.I.バットブルー4、C.I.アシッドブルー40、C.I.アシッドグリーン25、C.I.リアクティブブルー19、C.I.リアクティブブルー49、C.I.ディスパースレッド60、C.I.ディスパースブルー56、C.I.ディスパースブルー60等が挙げられる。   The anthraquinone dye is not particularly limited, and examples thereof include C.I. I. Bat Blue 4, C.I. I. Acid Blue 40, C.I. I. Acid Green 25, C.I. I. Reactive Blue 19, C.I. I. Reactive Blue 49, C.I. I. Disperse thread 60, C.I. I. Disperse Blue 56, C.I. I. Disperse Blue 60 etc. are mentioned.

フタロシアニン系染料は、特に限定されず、例えば、C.I.バットブルー5等が挙げられる。   The phthalocyanine dye is not particularly limited, and examples thereof include C.I. I. Bat Blue 5 etc. are mentioned.

キノンイミン系染料は、特に限定されず、例えば、C.I.ベーシックブルー3、C.I.ベーシックブルー9等が挙げられる。   The quinoneimine dye is not particularly limited, and examples thereof include C.I. I. Basic Blue 3, C.I. I. Basic blue 9 etc. are mentioned.

キノリン系染料は、特に限定されず、例えば、C.I.ソルベントイエロー33、C.I.アシッドイエロー3、C.I.ディスパースイエロー64等が挙げられる。   The quinoline dye is not particularly limited, and examples thereof include C.I. I. Solvent Yellow 33, C.I. I. Acid Yellow 3, C.I. I. Disperse Yellow 64 and the like.

ニトロ系染料は、特に限定されず、例えば、C.I.アシッドイエロー1、C.I.アシッドオレンジ3、C.I.ディスパースイエロー42等が挙げられる。   The nitro dye is not particularly limited, and examples thereof include C.I. I. Acid Yellow 1, C.I. I. Acid Orange 3, C.I. I. Disperse Yellow 42 and the like.

前記例示した染料、顔料、及びカーボンブラックの具体的な例を挙げると、三菱カーボンブラックM1000、三菱カーボンブラックMA−100、三菱カーボンブラック#40、ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベーシック13)、ローダミン6GCP(45160)、ローダミンB(45170)、サクラニンOK 70:100(50240)、エリオグラウシンX(42080)、NO.120/リオノールイエロー(21090)、リオノールイエローGRO(21090)、シミラーファーストイエローGRO(21090)、シミラーファーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイエロー4J−564D(21095)、ペリオトルイエローL0960(ピグメントイエロー139)、イエローピグメントE4−GN(ピグメントイエロー150誘導体)、シミラーファストレッド4015(12355)、リオノールレッド7B4401(15850)、ペストゲンブルーJGR−L(74160)、リオノールブルーSM(26150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー15:6、ピグメントブルー1536)、リオノーゲンレッドGD(ピグメントレッド168、ピグメントレッド108)、クロモフタルレッドA2B(ピグメントレッド177)、イルガフォアレッドB−CF(ピグメントレッド254)、ヘリオゲングリーンL8730(ピグメントグリーン7)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリーン36)等が挙げられる。   Specific examples of the exemplified dyes, pigments, and carbon black include Mitsubishi Carbon Black M1000, Mitsubishi Carbon Black MA-100, Mitsubishi Carbon Black # 40, Victoria Pure Blue (42595), Auramin O (41000), Catillon Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170), Sakuranin OK 70: 100 (50240), Erioglaucine X (42080), NO. 120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Similar First Yellow GRO (21090), Similar First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4J-564D (21095), Periotor Yellow L0960 (Pigment) Yellow 139), Yellow Pigment E4-GN (Pigment Yellow 150 Derivative), Similar Fast Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850), Pestogen Blue JGR-L (74160), Lionol Blue SM (26150) , Lionol Blue ES (Pigment Blue 15: 6, Pigment Blue 1536), Lionogen Red GD (Pigment Red 168, Pigment Red 108), Romo phthalate Red A2B (Pigment Red 177), IRGAPHOR Red B-CF (Pigment Red 254), Heliogen Green L8730 (Pigment Green 7), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36), and the like.

非伝導性色相パターン形成用組成物のアルカリ可溶性バインダ樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とは、前述の凹凸パターン形成用組成物と同一の範疇に属する成分及び含有量で使用可能なため、ここでの説明は省略する。   The alkali-soluble binder resin, the photopolymerizable compound, the photopolymerization initiator, and the solvent of the composition for forming a nonconductive hue pattern are components and contents belonging to the same category as the composition for forming an uneven pattern described above. Therefore, the description is omitted here.

非伝導性色相パターン形成用組成物を塗布して硬化させた後には、フォトリソグラフィで非表示部の目的の部分のみに色相パターン層220が残るようにすることができる。   After the composition for forming a nonconductive hue pattern is applied and cured, the hue pattern layer 220 can be left only in the target portion of the non-display portion by photolithography.

必要に応じて、色相パターン層は、複数の着色層からなり得る。複数の着色層を備えることで、より様々な色相を具現し、金属配線の遮蔽効果を向上することができる。このような側面から、複数の着色層で形成された色相パターン層は、各層の色相が互いに異なってもよい。   If necessary, the hue pattern layer may be composed of a plurality of colored layers. By providing a plurality of colored layers, more various hues can be realized and the shielding effect of the metal wiring can be improved. From such a side, the hue pattern layer formed of a plurality of colored layers may have a different hue from each other.

必要に応じて、色相パターン層220のフォトリソグラフィは、後述の遮光層230を形成するためのフォトリソグラフィと同時に遂行され、一つの工程として遂行され得る。   If necessary, photolithography of the hue pattern layer 220 may be performed simultaneously with photolithography for forming a light shielding layer 230 described later, and may be performed as one process.

次に、図3に示すように、前記色相パターン層220に非伝導性遮光層形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィで遮光層230を形成する。   Next, as shown in FIG. 3, a composition for forming a nonconductive light shielding layer is applied to the hue pattern layer 220, and a light shielding layer 230 is formed by photolithography.

遮光層230は、色相パターン層220で用いられた非伝導性色相パターン形成用組成物と同一の範疇に属する非伝導性遮光層形成用組成物を用いて、同一のフォトリソグラフィ方式で形成され得る。遮光層230は、好ましい例として、図3に示したように、金属配線の遮蔽効果及び下部着色遮光層230の明瞭な色相表現のために、黒色の色相層で形成され得る。   The light shielding layer 230 can be formed by the same photolithography method using a nonconductive light shielding layer forming composition belonging to the same category as the nonconductive hue pattern forming composition used in the hue pattern layer 220. . As a preferred example, the light shielding layer 230 may be formed of a black hue layer as shown in FIG. 3 for the shielding effect of metal wiring and the clear hue expression of the lower colored light shielding layer 230.

このように、蒸着及びフォトリソグラフィによって形成される本発明の非伝導性遮光パターンは、薄膜構造の具現が可能である。   As described above, the non-conductive light-shielding pattern of the present invention formed by vapor deposition and photolithography can implement a thin film structure.

本発明のウィンドウ基板は、当分野で通常的に用いられる構成と組み合わせることで、タッチスクリーンパネルを形成することができる。例えば、前記非伝導性パターンが形成されたウィンドウ基板上に形成された感知パターン、前記感知パターンを回路に接続して、非表示部の対応領域上に形成された金属配線、感知パターン上に形成された保護膜、及び電極パターンに接続された印刷回路基板等をさらに備えることができる。   A touch screen panel can be formed by combining the window substrate of the present invention with a structure normally used in this field. For example, a sensing pattern formed on a window substrate on which the non-conductive pattern is formed, the sensing pattern is connected to a circuit, a metal wiring formed on a corresponding region of the non-display portion, and formed on the sensing pattern. The printed circuit board connected to the protective film and the electrode pattern may be further provided.

感知パターンは、映像センサのタッチ領域である表示部に指が触れると、人体に発生する静電気を感知して電気信号と接続する役割を果たす。   The sensing pattern plays a role of sensing static electricity generated in a human body and connecting to an electric signal when a finger touches the display unit which is a touch area of the image sensor.

感知パターンの形成に用いられる導電性物質は、特に限定されず、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸貨物(IZTO)、カドミウムスズ酸貨物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、金属ワイヤ等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上混合して用いることができる。   The conductive material used for forming the sensing pattern is not particularly limited. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc stannate cargo (IZTO) , Cadmium stannate cargo (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotube (CNT), metal wire and the like. These can be used alone or in admixture of two or more.

金属ワイヤに用いられる金属は特に限定されず、例えば、銀(Ag)、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタニウム、テルル、クロム等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上混合して用いることができる。   The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver (Ag), gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, tellurium, and chromium. These can be used alone or in admixture of two or more.

金属配線は、ウィンドウ基板表示部のタッチによって感知パターンから発生する電気的信号をFPCB、IC Chip等に伝達する役割を果たす。   The metal wiring plays a role of transmitting an electrical signal generated from the sensing pattern by touching the window substrate display unit to the FPCB, IC Chip, or the like.

保護膜は、前記感知パターン及び金属配線を保護し、ウィンドウ基板が破損された時に飛散することを防止する役割を果たす。   The protective film protects the sensing pattern and the metal wiring, and prevents the window substrate from being scattered when it is damaged.

保護膜の材質は、耐久性を提供して透明な材質であれば特に限定されず、例えば、PET(polyethylene terephthalate)であってよい。   The material of the protective film is not particularly limited as long as it provides durability and is a transparent material, and may be, for example, PET (polyethylene terephthalate).

印刷回路基板としては様々な形態の印刷回路基板が用いられ得るが、例えば、軟性印刷回路基板(FPCB;flexible printed circuit board)であってよい。   Various types of printed circuit boards can be used as the printed circuit board. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) may be used.

本発明に係るタッチスクリーンパネルは、当分野で公知の追加工程を経ることで、液晶ディスプレイ、OLED、フレキシブルディスプレイ等の画像表示装置と結合されて有用に用いることができる。   The touch screen panel according to the present invention can be usefully combined with an image display device such as a liquid crystal display, an OLED, or a flexible display through an additional process known in the art.

100:ウィンドウ基板
200:非伝導性遮光パターン
210:凹凸パターン
220:色相パターン層
230:遮光層
100: Window substrate 200: Non-conductive light shielding pattern 210: Concavity and convexity pattern 220: Hue pattern layer 230: Light shielding layer

Claims (17)

ウィンドウ基板と、前記ウィンドウ基板の一面の非表示部に形成された非伝導性遮光パターンとを備え、
前記非伝導性遮光パターンが、パール顔料を含む凹凸パターンと、前記凹凸パターンを覆って平坦な表面を形成する色相パターン層と、前記色相パターン層の上部の遮光層とを備える、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。
A window substrate, and a non-conductive light-shielding pattern formed on a non-display portion on one surface of the window substrate,
For the touch screen panel, the non-conductive light-shielding pattern includes a concavo-convex pattern containing a pearl pigment, a hue pattern layer covering the concavo-convex pattern to form a flat surface, and a light-shielding layer above the hue pattern layer. Window board.
前記凹凸パターンの高さが2〜20μmである、請求項1に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to claim 1, wherein a height of the uneven pattern is 2 to 20 μm. 前記パール顔料が、前記凹凸パターンの全重量に対して0.2〜2重量%の量で含まれる、請求項1または2に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to claim 1 or 2, wherein the pearl pigment is contained in an amount of 0.2 to 2% by weight based on the total weight of the uneven pattern. 前記パール顔料の平均粒径が5〜15μmである、請求項1ないし3のいずれかに記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to claim 1, wherein the pearl pigment has an average particle diameter of 5 to 15 μm. 前記パール顔料が、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備える、請求項1ないし4のいずれかに記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to any one of claims 1 to 4, wherein the pearl pigment includes a reflective layer core part and a high refractive index layer coating the core part. 前記反射層コア部が、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、及び板状チタニア・シリカ複合酸化物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項5に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The reflective layer core portion is mica, sericite, talc, kaolin, smectite clay mineral, plate-like titanium dioxide, plate-like silica, plate-like aluminum oxide, boron nitride, barium sulfate, and plate-like titania / silica composite oxide. The window substrate for a touch screen panel according to claim 5, wherein the window substrate is at least one selected from the group consisting of: 前記高屈折率層が、TiO、ZrO、Sb、ZnS、SnO、及びZnOからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項5または6に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。 The touch screen panel according to claim 5 or 6, wherein the high refractive index layer includes at least one selected from the group consisting of TiO 2 , ZrO 2 , Sb 2 O 3 , ZnS, SnO 2 , and ZnO. Window board. 前記色相パターン層が複数の着色層からなる、請求項1ないし7のいずれかに記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to claim 1, wherein the hue pattern layer includes a plurality of colored layers. 前記複数の着色層で形成された前記色相パターン層は、各層の色相が互いに異なる、請求項8に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to claim 8, wherein the hue pattern layer formed of the plurality of colored layers has a hue different from each other. 前記遮光層が黒色の色相を有する、請求項1ないし9のいずれかに記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板。   The window substrate for a touch screen panel according to claim 1, wherein the light shielding layer has a black hue. ウィンドウ基板の一面の非表示部にパール顔料を含む凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物を塗布し、フォトリソグラフィで凹凸パターンを形成する段階と、
前記凹凸パターンが形成されたウィンドウ基板上に非伝導性色相パターン形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィで前記凹凸パターンを覆って平坦な表面を形成する色相パターン層を形成する段階と、
前記色相パターン層に非伝導性遮光層形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィで遮光層を形成する段階と
を備える、タッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。
Applying a photosensitive resin composition for forming a concavo-convex pattern containing a pearl pigment to a non-display portion on one surface of a window substrate, and forming a concavo-convex pattern by photolithography,
Applying a non-conductive hue pattern forming composition on a window substrate on which the concavo-convex pattern is formed, and forming a hue pattern layer that covers the concavo-convex pattern by photolithography to form a flat surface;
Applying a non-conductive light-shielding layer forming composition to the hue pattern layer, and forming the light-shielding layer by photolithography.
前記凹凸パターン形成用感光性樹脂組成物が、前記パール顔料を含む着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含み、
前記パール顔料が、固形分を基準とし、前記組成物の全重量に対して0.2〜2重量%の量で含まれる、請求項11に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。
The concavo-convex pattern-forming photosensitive resin composition includes a colorant containing the pearl pigment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent,
The method for manufacturing a window substrate for a touch screen panel according to claim 11, wherein the pearl pigment is contained in an amount of 0.2 to 2% by weight based on the solid content with respect to the total weight of the composition.
前記非伝導性色相パターン形成用組成物及び前記非伝導性遮光層形成用組成物が、互いに独立して、着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含む、請求項11または12に記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   The composition for forming a nonconductive hue pattern and the composition for forming a nonconductive light-shielding layer are independently of each other, a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent. The manufacturing method of the window board | substrate for touch screen panels of Claim 11 or 12 containing these. 前記色相パターン層が複数の着色層で形成される、請求項11ないし13のいずれかに記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   The method for manufacturing a window substrate for a touch screen panel according to claim 11, wherein the hue pattern layer is formed of a plurality of colored layers. 前記遮光層が黒色の色相層で形成される、請求項11ないし14のいずれかに記載のタッチスクリーンパネル用のウィンドウ基板の製造方法。   The method for manufacturing a window substrate for a touch screen panel according to claim 11, wherein the light shielding layer is formed of a black hue layer. 請求項1〜10のいずれか一項に記載のウィンドウ基板を備えたタッチスクリーンパネル。   The touch screen panel provided with the window substrate as described in any one of Claims 1-10. 請求項16に記載のタッチスクリーンパネルを備えた画像表示装置。   An image display device comprising the touch screen panel according to claim 16.
JP2014169265A 2013-08-26 2014-08-22 Window substrate and touch screen panel having the same Active JP5784199B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130101219A KR101452314B1 (en) 2013-08-26 2013-08-26 Window plate and touch screen panel comprising the same
KR10-2013-0101219 2013-08-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015043207A JP2015043207A (en) 2015-03-05
JP5784199B2 true JP5784199B2 (en) 2015-09-24

Family

ID=51998111

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014169265A Active JP5784199B2 (en) 2013-08-26 2014-08-22 Window substrate and touch screen panel having the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5784199B2 (en)
KR (1) KR101452314B1 (en)
CN (1) CN104423700B (en)
TW (1) TWI534589B (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101391225B1 (en) * 2013-09-05 2014-05-07 동우 화인켐 주식회사 Photo-sensitive resin composition for forming non-diplay part light-shielding pattern
KR101875557B1 (en) * 2014-12-01 2018-07-06 동우 화인켐 주식회사 Window plate and diplay device comprising the same
KR102320640B1 (en) * 2015-04-29 2021-11-02 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus and manufacturing method thereof
KR102342596B1 (en) * 2015-06-26 2021-12-24 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102334796B1 (en) * 2015-07-10 2021-12-07 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus
KR102443361B1 (en) * 2015-09-03 2022-09-19 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102578543B1 (en) * 2016-12-15 2023-09-13 엘지디스플레이 주식회사 Cover window and Display device including the same
KR102673859B1 (en) * 2018-12-06 2024-06-11 삼성디스플레이 주식회사 Display device and electronic device having the same

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0525881Y2 (en) * 1985-03-04 1993-06-30
DE102009010952A1 (en) * 2009-02-27 2010-09-09 Schott Ag Coating for the display area of glass or glass-ceramic panes, method for producing such a coating and its use
WO2011078231A1 (en) * 2009-12-24 2011-06-30 日本写真印刷株式会社 Capacitance type touch sensor, electronic device, and method of manufacturing transparent conductive-film laminate
DE102010004741B4 (en) * 2010-01-14 2023-02-23 Schott Ag Process for manufacturing a composite material and kitchen utensil
JP5585147B2 (en) * 2010-03-23 2014-09-10 凸版印刷株式会社 Bezel decoration
WO2011162221A1 (en) * 2010-06-22 2011-12-29 日本写真印刷株式会社 Narrow-frame touch input sheet superior in anti-rusting property and production method thereof
JP2012098785A (en) * 2010-10-29 2012-05-24 Alps Electric Co Ltd Input device manufacturing method
CN102314278B (en) * 2011-09-30 2014-07-02 汕头超声显示器(二厂)有限公司 Single-chip capacitive touch screen with colorful decorative patterns
US10353520B2 (en) * 2011-11-07 2019-07-16 Oji Holdings Corporation Display device with capacitive touch panel, capacitive touch panel
JP6016050B2 (en) * 2012-01-25 2016-10-26 大日本印刷株式会社 Front protective plate for display device and display device
JP6016051B2 (en) * 2012-01-25 2016-10-26 大日本印刷株式会社 Front protective plate for display device and display device
JP5533937B2 (en) * 2012-05-31 2014-06-25 大日本印刷株式会社 Decorative sheet
TWI478022B (en) * 2012-12-11 2015-03-21 Au Optronics Corp Touch panel and touch display panel

Also Published As

Publication number Publication date
KR101452314B1 (en) 2014-10-22
TWI534589B (en) 2016-05-21
CN104423700B (en) 2017-09-22
TW201508452A (en) 2015-03-01
CN104423700A (en) 2015-03-18
JP2015043207A (en) 2015-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5784199B2 (en) Window substrate and touch screen panel having the same
WO2016031665A1 (en) Composition for forming touch panel electrode protective film, transfer film, layered body, protective film for touch panel electrode and method for forming same, capacitance-type input device, and image display device
TWI704052B (en) Method of manufacturing film sensor, method of manufacturing front face plate integrated sensor and method of manufacturing image display device
TW201333792A (en) Method for producing capacitive touch panel sensor substrate, capacitive touch panel sensor substrate, and display device
WO2013151052A1 (en) Method for forming electroconductive pattern, and electroconductive pattern substrate
JP2014085771A (en) Capacitance type touch panel sensor substrate and method for manufacturing the same and display device
JP6703104B2 (en) Transfer film
KR102024735B1 (en) Window plate and touch screen panel comprising the same
KR102024734B1 (en) Window plate and touch screen panel comprising the same
WO2014129320A1 (en) Resin black matrix substrate and touch panel
JP6693137B2 (en) Decorative member, display device, and method for manufacturing organic electroluminescence display device
JP5996591B2 (en) Photosensitive resin composition for non-display part light shielding pattern formation
JP2016097595A (en) Laminate and method for producing the same, film set, photosensitive conductive film, and electronic component
JP6330412B2 (en) Shielding film forming substrate and touch panel
JP2016046031A (en) Laminate, method for producing laminate, film set and electronic component
JP2017090812A (en) Electrostatic capacitance type touch panel integrated liquid crystal display panel, color filter substrate, and method for manufacturing the electrostatic capacitance type touch panel integrated liquid crystal display panel
WO2017051826A1 (en) Laminate, production method therefor, film set, and photosensitive conductive film
JP6631269B2 (en) Decorative member, display device, and method of manufacturing organic electroluminescence display device
JP2016061878A (en) Liquid crystal display panel
JPWO2017208848A1 (en) Photosensitive resin composition, transfer film, decorative pattern, and touch panel
TW201413535A (en) Touch screen panel and method of preparing the same
JP2014130417A (en) Front plate for touch panel, integrated-type sensor substrate equipped with the same and display device
KR101875557B1 (en) Window plate and diplay device comprising the same
JP6630222B2 (en) Transfer film, decorative material, touch panel, and method of manufacturing decorative material
JP2012220643A (en) Touch panel attached color filter

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150615

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150623

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150721

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5784199

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R154 Certificate of patent or utility model (reissue)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250