JP5773970B2

JP5773970B2 - 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および製造方法

Info

Publication number: JP5773970B2
Application number: JP2012251949A
Authority: JP
Inventors: 岩崎　直子; 直子岩崎; 智毅桂; 山下　真司; 真司山下; 横溝　政幸; 政幸横溝
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2012-11-16
Filing date: 2012-11-16
Publication date: 2015-09-02
Anticipated expiration: 2032-11-16
Also published as: JP2014098880A

Description

本発明は、液晶表示装置の画素に発生した輝点欠陥にレーザ光を照射して暗点化する液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および製造方法に関するものである。

液晶パネルには、製造工程における異物混入などによって、輝点欠陥と呼ばれる欠陥が発生することがある。輝点欠陥は、例えば、黒のような暗い色を表示しようとした際に、所望の色を表示することができずに明るい点として視認される欠陥である。こうした輝点欠陥は、人間の目に視認されやすく非常に目立つことから、輝点欠陥が発生した液晶パネルは不良品として廃棄されることが多く、その結果、液晶パネル製造における歩留り低下の原因となっている。

このような液晶パネルにおける輝点欠陥を修正する方法として、従来、液晶パネルの輝点欠陥画素に対応した部分のカラーフィルタにレーザ光を照射することにより、カラーフィルタを変質させてバックライトからの光を透過させないようにし、輝点欠陥を暗点化して目立たなくするという技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この技術では、スリット状に整形したレーザ光を画素内で一次元走査することによって、カラーフィルタを変質させて輝点欠陥を暗点化している。

特開２００６−２２７６２１号公報（１８頁２５行〜２０頁５０行、図７〜図１３）

このような輝点欠陥の暗点化方法にあっては、レーザ光を照射する対象はカラーフィルタであるが、カラーフィルタは厚みが数μｍ以下の比較的薄い膜である。また、カラーフィルタのガラス基板と反対側の面には、液晶の配列状態を制御するための配向膜が配置されている。また、カラーフィルタが形成された基板に対向する薄膜トランジスタアレイ基板の最上部にも配向膜が配置されている。

レーザ光のエネルギーを、カラーフィルタを変質させて暗点化するために最適な値に設定した場合であっても、レーザ光の照射および走査を開始すると、レーザ光の照射位置、特にレーザ光の照射開始位置の近傍で配向膜が熱により変質して、液晶配向の乱れが発生することがある。また、レーザ光の照射開始時にカラーフィルタの膜が破損し、異物が飛散してカラーフィルタ基板あるいは薄膜トランジスタアレイ基板の配向膜上に付着することにより、液晶配向の乱れを引き起こすこともある。このような液晶配向の乱れが発生すると、たとえば黒を表示しようとするときに輝点欠陥画素の周辺画素で光が液晶層を透過してしまうようになり、新たな表示不良を発生させるという問題が生じることがある。

本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、レーザ光照射の際、輝点欠陥画素の周辺に発生する表示不良を低減し、輝点を適切に暗点化することができる液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は、少なくとも３つの色を含む複数の色画素が配列したカラーフィルタ基板と、
各色画素に対応した画素電極を駆動する複数の薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記カラーフィルタ基板と前記薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置において、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、
前記輝点欠陥画素に向けて、前記輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズで前記レーザ光を照射する工程と、
前記レーザ光を前記液晶表示装置に対して相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内で前記レーザ光を走査する工程とを含み、
前記レーザ光を走査する工程において、前記レーザ光の照射開始位置が、前記輝点欠陥画素に隣接する色画素のうち比視感度が高い色の画素と比べて、比視感度が低い色の画素の方に接近して設定されることを特徴とする。

また本発明は、少なくとも３つの色を含む複数の色画素が配列したカラーフィルタ基板と、
各色画素に対応した画素電極を駆動する複数の薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記カラーフィルタ基板と前記薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置において、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させ、輝点欠陥を修正する工程を含む液晶表示装置の製造方法であって、
前記輝点欠陥画素に向けて、前記輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズで前記レーザ光を照射する工程と、
前記レーザ光を前記液晶表示装置に対して相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内で前記レーザ光を走査する工程とを含み、
前記レーザ光を走査する工程において、前記レーザ光の照射開始位置が、前記輝点欠陥画素に隣接する色画素のうち比視感度が高い色の画素と比べて、比視感度が低い色の画素の方に接近して設定されることを特徴とする。

本発明によれば、レーザ光照射による輝点欠陥の暗点化処理の後、輝点画素の周辺画素において液晶の配向異常による光漏れが万一発生したとしても、比視感度の低い色の画素での光漏れで済むため、輝点画素の周辺に新たに発生する表示不良を目立たなくすることができる。

本発明の実施の形態１による液晶モジュールを示す断面図である。本発明の実施の形態１による液晶表示装置の輝点欠陥黒化装置の構成図である。輝点欠陥を有する画素におけるレーザ光の走査経路の一例を示す上面図である。レーザ光の照射後に液晶の配向異常が発生したときの様子を示す上面図である。明所視標準比視感度曲線を示す説明図である。本発明の実施の形態１におけるカラーフィルタ色材の透過スペクトルを示す説明図である。本発明の実施の形態１によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態２によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態３によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態４によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態５によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態６におけるマトリクス配列のカラーフィルタを示す上面図である。本発明の実施の形態６によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態７によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態８におけるカラーフィルタ色材の透過スペクトルを示す説明図である。本発明の実施の形態８におけるマトリクス配列のカラーフィルタを示す上面図である。本発明の実施の形態８によるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す図である。本発明の実施の形態８によるレーザ光の他の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態８によるレーザ光の他の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。本発明の実施の形態８によるレーザ光の他の走査経路と配向異常の発生状態を示す説明図である。

実施の形態１．
以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。なお、図面によっては、理解が容易になるように一部を極端に誇張して示すことがある。

図１は、本実施の形態１における液晶モジュール２０の断面図である。同図に示すように、液晶モジュール２０は、液晶パネル１５、バックライト１６、駆動制御基板１７などで構成される。バックライト１６は、液晶パネル１５の背面側に配置される。バックライト１６と液晶パネル１５は、これらを動作制御する駆動制御基板１７と電気的に接続される。

液晶パネル１５は、カラーフィルタ基板１３と薄膜トランジスタアレイ基板１４との間に液晶１が封入された構造となっている。なお、以下では薄膜トランジスタアレイ基板をＴＦＴ基板（TFT：Thin Film Transistor）という。

カラーフィルタ基板１３は、ガラス基板２を有し、ガラス基板２の液晶１側の面上にはカラーフィルタ１２が配置されている。カラーフィルタ１２の液晶１側の面上には液晶１に電圧を印加するための共通電極４が形成され、共通電極４の面上には液晶１の分子を所定の向きに配向させるための配向膜５が形成されている。また、ガラス基板２の液晶１と反対側の面上には偏光板３が配置されている。

カラーフィルタ１２は、加法混色の三原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に相当する特定の波長域の光を透過するカラーフィルタ色材６と、これら隣接するＲＧＢの各色画素間に配置された遮光用のブラックマトリクス７を有する。カラーフィルタ色材６としては、例えばポリイミド、アクリル系、エポキシ系の樹脂に着色したもの等が用いられ、膜厚は例えば1μｍ程度である。ここで、カラーフィルタ色材６の３色は同じ色が連続することなく、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）が順番に配列されている。ブラックマトリクス７は遮光性に優れた膜であり、カーボンを添加した黒色の樹脂、または金属のクロム膜等が用いられ、金属クロム膜では膜厚を０．１μｍ程度と薄くできる。

共通電極４は、液晶１に電圧を印加するためのものであり、例えばＩＴＯ(Indium Tin Oxide)のような透明導電膜で形成される。共通電極４の厚みは、例えば５０〜１５０ｎｍ程度である。

配向膜５は、液晶１の分子を所定の向きに配向させるためのものであり、例えばポリイミド等で形成される。厚みは、数十ｎｍ程度である。

ＴＦＴ基板１４は、ガラス基板８を有し、ガラス基板８の液晶１側の面上には、各色画素単位で液晶１に印加する電圧を制御するためのＴＦＴアレイ１０が形成され、ＴＦＴアレイ１０上には配向膜１１が形成されている。また、ガラス基板８の液晶１と反対側の面上には偏光板９が配置されている。

ＴＦＴアレイ１０には、液晶１に電圧を印加するための画素電極および、印加する電圧を制御するためのＴＦＴのアレイ等が含まれる。駆動制御基板１７は、このＴＦＴアレイ１０と電気的に接続されている。

配向膜１１としては、カラーフィルタ基板１３側の配向膜５と同じものが使用される。

次に、バックライト１６について説明する。バックライト１６としては、例えば発光ダイオードまたは蛍光管といった点光源または線光源とライトガイドとを用いて面光源を形成したもの、あるいはエレクトロルミネッセンス素子による面光源等が使用される。

次に、駆動制御基板１７について説明する。駆動制御基盤１７は、制御用のＩＣ等を含み、液晶パネル１５のＴＦＴアレイ１０の動作を制御することによって液晶１を駆動するとともに、バックライト１６の動作も制御する。

以上のような液晶モジュール２０において、液晶パネル１５の製造時に異物混入等に起因して、液晶パネル１５に輝点欠陥が発生することがある。本実施の形態では、このような輝点欠陥が発生した液晶パネル１５を対象とし、液晶パネル１５を構成するカラーフィルタ色材６のうち、輝点欠陥を有する画素に形成されたカラーフィルタ色材６に対してレーザを照射することによって輝点画素を暗点化し、液晶パネル１５上の輝点欠陥を遮蔽し、目立たなくしている。

次に、本実施の形態で使用される液晶パネルの輝点欠陥暗点化装置について以下に説明する。ここで、「輝点欠陥の暗点化」とは、輝点欠陥を有する画素を完全に黒化することだけでなく、輝点画素の光透過率をある程度低下させて画素の輝度を暗くすることによって目立ちにくくすることも含むものとする。

図２は、本実施の形態１における液晶表示装置の輝点欠陥暗点化装置を示す構成図である。輝点欠陥暗点化装置５０は、主にレーザ照射・観察部３０と、液晶パネル設置部４０などを備える。レーザ照射・観察部３０は、レーザ光の発生、整形、集光等と、液晶パネル１５の観察という機能を有する。

液晶パネル設置部４０は、レーザ光の照射対象である液晶パネル１５を設置するとともに、レーザ照射・観察部３０に対して液晶パネル１５を互いに直交するＸ、Ｙ方向に移動させる機能を有する。そして、レーザ照射・観察部３０で発生したレーザ光を、液晶パネル設置部４０に設置された液晶パネル１５の輝点欠陥を有する画素に向けて照射することによって、液晶パネル１５の輝点欠陥を暗点化する。

まず、レーザ照射・観察部３０について説明する。レーザ照射・観察部３０では、レーザ駆動電源３１から電力を、輝点欠陥の暗点化用の光源の一例であるレーザ発振器３２に供給してレーザ光を発生させる。レーザ発振器３２として、半導体レーザ、固体レーザ、ガスレーザ等を使用することができる。

レーザ発振器３２から出射されたレーザ光は、調整光学系３４によって整形される。調整光学系３４は、球面レンズ、円筒面レンズ、プリズムなどで構成され、レーザ光を、輝点欠陥画素の暗点化に適したビーム径およびビーム発散角に調整する。

このように調整されたレーザ光は、可変開口装置３５を通過する際、可変開口装置３５の開口形状（例えば、円形または矩形）に整形される。可変開口装置３５により円形または矩形に整形されたレーザ光は、レーザ加工光学系３６によって、ＸＹテーブル４２上に設置された液晶パネル１５のカラーフィルタ基板１３上に、画素よりも小さいスポットサイズで転写される。

液晶パネル１５のカラーフィルタ色材６上に照射されるレーザスポットの形状は、可変開口装置３５の開口形状およびレーザ加工光学系３６の転写倍率で決定される。たとえば、可変開口装置３５の開口形状をφ１５０μｍの円形とし、転写倍率を１／５０倍とすると、液晶パネル１５でのレーザスポットはφ３μｍの円形となる。レーザスポットのサイズは、加工パラメータとして可変開口装置３５の開口形状を調整したり、レーザ加工光学系３６の転写倍率を変更することによって、液晶パネル１５の機種、カラーフィルタ色材６の種類に応じて最適化することができる。レーザスポットのサイズが大きすぎると、カラーフィルタ色材６が暗点化せずに、カラーフィルタ基板１３を破損する確率が高くなる。一方、レーザスポットのサイズが小さすぎると、輝点欠陥の遮蔽に十分な黒化レベルを得ることができない。本発明者の実験によれば、液晶パネル１５の画素サイズにも依存するが、一般に、レーザスポットはサイズφ３μｍ〜φ５μｍの円形が適切であることが判った。

レーザ照射・観察部３０には、輝点欠陥の暗点化用のレーザ光を照射するとき、または液晶パネル１５を観察するときに、液晶パネル１５にフォーカスを合わせるためのＺステージ３３が設置されている。Ｚステージ３３は、レーザ照射・観察部３０と液晶パネル１５との距離を調整可能であり、図２の上下方向にレーザ照射・観察部３０を移動させて輝点欠陥の暗点化用のレーザ光、または観察用の光のフォーカスを調整する。

液晶パネル１５のカラーフィルタ色材６におけるレーザスポットの大きさが数μｍと小さい場合、たとえば液晶パネル１５の傾きなどによってレーザ加工光学系３６と液晶パネル１５との間の距離が変動したときには、カラーフィルタ色材６におけるレーザスポットの形状が変化し、レーザ加工が不安定になる。したがって、安定した加工のために、画像処理などによりレーザ加工光学系３６と液晶パネル１５との間の距離を推定し、この距離を元に自動的にＺステージ３３を制御して、レーザ加工光学系３６と液晶パネル１５との距離を一定に保つことが有効である。

このため本実施形態では、レーザ加工光学系３６にカメラ３７を併設することにより、レーザ照射時の液晶パネル１５の様子を観察することを可能にしている。このような観察用のカメラ３７は省略してもレーザ照射による暗点化加工自体は可能であるが、加工対象画素の位置決めのために設置した方が望ましい。

次に、液晶パネル設置部４０について説明する。液晶パネル設置部４０は、ＸＹテーブル４２と、観察用光源４３と、駆動制御装置４１などを備える。

ＸＹテーブル４２は、その上面に液晶パネル１５を設置し、液晶パネル１５に入射するレーザ光に対して略垂直な面内で略直交する２方向に移動可能である。これにより、液晶パネル１５上の任意の場所にレーザ光を照射することができる。ＸＹテーブル４２には透過穴４２ａが設けられており、ＸＹテーブル４２の背面側に設置された観察用光源４３から出射された光が、透過穴４２ａを通って液晶パネル１５に照射されるようになっていて、レーザ照射・観察部３０のレーザ加工光学系３６に併設されたカメラ３７により観察することができる。観察用光源４３としては、例えば、発光ダイオードまたはランプなどが使用でき、また、観察用光源４３から出射した光を集光するレンズ等も備えていることが好ましい。

駆動制御装置４１は、液晶パネル１５と電気的に接続され、液晶パネル１５のＴＦＴアレイ１０の動作を制御することによって液晶１を駆動する。なお、駆動制御装置４１の機能は基本的に液晶モジュール２０の駆動制御基板１７と同様であるため、液晶表示装置の輝点欠陥の黒点化装置５０に駆動制御装置４１を設ける代わりに、液晶モジュール２０の駆動制御基板１７を使用してもよい。

液晶パネル１５を観察するときは、駆動制御装置４１によって液晶パネル１５を動作させて全黒表示とすることが好ましい。全黒表示にすることによって、輝点欠陥以外の部分は黒表示となる一方で、輝点欠陥の部分では観察用光源４３から出射された観察光が漏れて輝点となり、輝点欠陥として判別がしやすくなる。

以上のように構成された輝点欠陥暗点化装置５０を用いて、液晶表示装置の輝点欠陥を暗点化する方法について、以下に詳しく説明する。

まず、液晶パネル１５をＸＹテーブル４２上に設置する。ここで、観察用光源４３から出射される観察光が液晶パネル１５に照射されるように、液晶パネル１５は、ＸＹテーブル４２の透過穴４２ａの上に設置される。

次に、駆動制御装置４１と液晶パネル１５を接続し、駆動制御装置４１から液晶パネル１５へ全黒表示の信号を送って液晶パネル１５を全黒表示状態とする。そして、観察用光源４３から観察光を液晶パネル１５へ照射し、液晶パネル１５から漏れる光をカメラ３７で受光して液晶パネル１５の輝点欠陥を観察する。

なお、暗点化処理の前工程における検査工程によって輝点欠陥を発見し、発見された輝点欠陥の場所（アドレス）を輝点欠陥暗点化装置５０に転送することで、輝点欠陥画素の位置決めを効率的に実施することも可能である。

ＸＹテーブル４２の移動によって液晶パネル１５の輝点欠陥を有する画素にレーザ照射できるように位置決めしたあと、輝点欠陥を有する画素にレーザ光を照射する。このとき、レーザ発振器３２から出射されたレーザ光は、調整光学系３４、可変開口装置３５、加工光学系３６を通して整形、集光され、輝点欠陥を有する画素よりも小さいスポットサイズで液晶パネル１５の輝点欠陥を有する画素に対して照射される。これによりカラーフィルタ基板１３の一部を変質させ、光透過率を低下させることによって、輝点欠陥を暗点化している。

ここで、「カラーフィルタ基板１３の一部」とは、カラーフィルタ基板１３を構成する構成物を指し、例えば、配向膜５、共通電極４、カラーフィルタ色材６、ガラス基板２、偏光板３のいずれかである。これらは、全てが変質される必要はなく、少なくとも１つが変質されて光透過率が低下すればよい。

次に、輝点欠陥を有する画素内でレーザ光を走査する工程について説明する。図３は、暗点化加工時のレーザ光の走査経路の一例を示す上面図である。

液晶パネル１５の画素は、たとえば一辺が数十μｍ〜数百μｍの矩形または矩形に近い形状である。図３に示すように、輝点欠陥を暗点化する工程においては、輝点欠陥を有する画素６０よりも小さいスポットサイズ、たとえば数μｍのスポットサイズで輝点欠陥を有する画素６０全体を隙間なく暗点化するために、レーザ光を画素内で走査する必要がある。レーザ光の走査は、液晶パネル１５を設置したＸＹテーブル４２を移動させることによって行う。

図３に示したレーザ光の走査経路について説明する。輝点欠陥画素６０の角部近傍にレーザ光の加工開始点６４を設定した後、レーザ光は、加工開始点６４から図３に示した走査経路６３に沿ってジグザグ状に隙間なく往復走査され、加工開始点６４の近くの角部とは異なる角部、好ましくは対角に位置する角部の近傍に設定された加工終了点６５に到達した時点で走査を終了する。

ここで、レーザ光の照射によって暗点化する対象物はカラーフィルタ色材６であり、レーザ光のエネルギーはカラーフィルタ色材６を変質させて暗点化するために最適な値に設定している。しかし、カラーフィルタ色材６は、厚みが数μｍ以下の薄い膜であり、図１に示したように、カラーフィルタ色材６のガラス基板２と反対側の面には、共通電極４および配向膜５が配置されている。

このため、レーザ光を照射すると、照射位置近傍でカラーフィルタ色材６だけでなく、共通電極４、配向膜５も熱により変質することがあり、とくに配向膜５が変質すると液晶配向の乱れが発生することがある。また、レーザ光の照射によりカラーフィルタ色材６の膜が破損し、異物が飛散してカラーフィルタ基板１３の配向膜５あるいはＴＦＴ基板１４の配向膜１１上に付着することにより液晶配向の乱れを引き起こすこともある。

本発明者の観察によれば、このようなカラーフィルタ色材６あるいは配向膜５，１１などの変質または破損は、特にレーザ光の照射開始位置近傍で生じやすいことが判明した。これは、レーザ光の照射時に、薄膜が急加熱されて急激に熱膨張するために、薄膜に対して応力が働くからであると考えられる。

図４は、レーザ光照射後に液晶の配向異常が発生したときの様子を示す上面図である。輝点欠陥画素６０には、図３で説明したようにレーザ光を走査している。すなわち、輝点欠陥画素６０の角部の加工開始点６４にてレーザ照射を開始し、レーザ光は走査経路６３に沿ってジグザグ状に走査され、加工開始点６４と異なる角部である加工終了点６５にて走査を終了している。このとき、レーザ照射を行った輝点欠陥画素６０の両側に配置された隣接画素６１および６２で液晶の配向異常が発生し、黒を表示しようとするときにこの配向異常領域６６で光が液晶層を透過してしまう。これにより輝点欠陥画素６０自体は暗点化されても、輝点欠陥画素６０の周辺部が光って見えてしまうという新たな表示不良が発生する。

ここで、配向異常領域６６は、輝点欠陥画素６０の図４における上下に形成された幅の広いブラックマトリクス７を越えて上下の画素に広がることはほとんどないが、輝点欠陥画素６０の図４における左右両側に形成された幅の狭いブラックマトリクス７を越えて隣接画素６１，６２に広がる様子が見られる。しかも、両側の隣接画素６１，６２に均等に広がるのではなく、特に輝点欠陥画素６０におけるレーザ光の加工開始点６４に近い側の隣接画素６１で配向異常領域６６がより広い範囲に広がる様子が見られる。

本実施の形態１では、上記のように新たに発生する表示不良を目立たなくするために、輝点欠陥画素に隣接する画素の色を考慮してレーザ光の加工開始点の位置を決める、という工夫を施している。

次に、輝点欠陥画素におけるレーザ光の加工開始点の位置を決める方法について以下に詳しく説明する。

図４において、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色が赤（Ｒ）である場合について説明する。本実施の形態１で用いたカラーフィルタ色材６は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）から成り、同じ色が連続しないように順番に並んで形成されているため、輝点欠陥画素６０がＲの場合は両側の画素６１，６２の一方がＧ、もう一方がＢとなる。例えば、ここで隣接画素６１がＧであり、隣接画素６２がＢである場合、配向異常領域６６の広がりは、加工開始点６４がより接近している隣接画素６１の方が大きいので、液晶の配向異常による光漏れは隣接画素６２よりも隣接画素６１で多くなり、Ｂの光よりもＧの光の方が広い範囲から放射されることになる。

ところで、人間の目は３８０〜７８０ｎｍの波長の光を感じることができるが、人間の目の光に対する感度は光の波長により異なるということが知られている。この波長による目の感覚は視感度と呼ばれ、明るいところでは５５５ｎｍ付近の光を最も強く感じ、暗いところでは５０７ｎｍ付近の光を最も強く感じるとされる。図５に明所視標準比視感度曲線を示すが、これは明るい場所に順応したときに人間の目が最大感度となる波長で感じる強さを１として、他の波長の明るさを感じる度合いをその比となるよう、１以下の数で表したものである。

図６は、本実施の形態１で用いられるカラーフィルタ色材６のＲ，Ｇ，Ｂの透過スペクトルを示す。図５と図６を比較すると明らかなように、カラーフィルタ色材６のＧは透過スペクトルのピークが波長５４０ｎｍ程度であり、比視感度が非常に高い。それに比べると、カラーフィルタ色材６のＢは透過スペクトルのピークが波長４６０ｎｍ程度で比視感度はかなり低い。ピーク波長が６００ｎｍ以上のＲの比視感度はＧとＢの中間のレベルである。

即ち、上述したように図４における輝点欠陥画素６０がＲの場合に、隣接画素６１がＧ、隣接画素６２がＢとなるように配置して、輝点欠陥画素６０内の隣接画素６１に近い角部を加工開始点６４に設定してレーザ光を照射すると、比視感度が非常に高いＧの光が広い範囲から放射されることになり、かなり目立つ表示不良として視認されることになる。

そこで、本実施の形態１では、比視感度が高い光が放射される領域が小さくなるように、レーザ光による加工開始点の位置を設定した。

図７は、本実施の形態１におけるレーザ光の走査経路と配向異常の発生状態を示す。特に、図７（ａ）は、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６がＲの場合を示す。図７（ａ）において、輝点欠陥画素６０のカラーフィルタ色材６の色はＲ、隣接する一方の画素６１のカラーフィルタ色材６の色はＧ、隣接するもう一方の画素６２のカラーフィルタ色材６の色はＢである。隣接する画素の色の比視感度を図５の標準比視感度曲線および図６のカラーフィルタの透過スペクトルに照らして比較すると、隣接画素６１のＧの方が比視感度が高く、隣接画素６２のＢの方が低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６２に近い角部に加工開始点６４を設定してレーザ照射を開始し、図７（ａ）に示したように、Ｘ方向の主走査とＹ方向の副走査を組み合わせた走査経路６３に沿ってレーザ光をジグザグ状に隙間なく往復走査し、輝点欠陥画素６０の加工開始点６４と異なる角部に設定した加工終了点６５に到達した時点で走査を終了する。このときの走査速度は、例えば４０μｍ／ｓである。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点６４は隣接画素６２に近い位置であるため、液晶の配向異常領域６６は隣接画素６１よりも隣接画素６２内に広く発生する。従って、隣接画素６２に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素６１からのＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

図７（ｂ）は、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６がＧの場合を示す。この場合、輝点欠陥画素６０の色はＧ、隣接画素６１の色はＢ、隣接画素６２の色はＲである。隣接画素６１，６２の色の比視感度を比較すると、隣接画素６２のＲの方が比視感度が高く、隣接画素６１のＢの方が低い。従って、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６１に近い角部に加工開始点６４を設定してレーザ照射を開始し、走査経路６３に沿ってレーザ光を走査し、輝点欠陥画素６０の加工開始点６４と異なる角部に設定した加工終了点６５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点６４は隣接画素６１に近い位置であるため、液晶の配向異常領域６６は隣接画素６２よりも隣接画素６１内に広く発生する。従って、隣接画素６１のカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素６２からのＲの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

図７（ｃ）は、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６がＢの場合を示す。この場合、輝点欠陥画素６０の色はＢ、隣接画素６１の色はＲ、隣接画素６２の色はＧである。隣接画素６１、６２の色の比視感度を比較すると、隣接画素６２のＧの方が比視感度が高く、隣接画素６１のＲの方が低い。従って、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６１に近い角部に加工開始点６４を設定してレーザ照射を開始し、走査経路６３に沿ってレーザ光を走査し、輝点欠陥画素６０の加工開始点６４と異なる角部に設定した加工終了点６５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点６４は隣接画素６１に近い位置であるため、液晶の配向異常領域６６は隣接画素６２よりも隣接画素６１内に広く発生する。従って、隣接画素６１のカラーフィルタ色材６の色であるＲの光が広い範囲から出射され、隣接画素６２からのＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

なお、ここではカラーフィルタ色材をＲ，Ｇ，Ｂの３色としているが、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外の色であってもよい。また、３色に限らず、黄（Ｙ）などを加えた４色以上であってもよい。いずれの場合も、輝点欠陥画素に隣接する画素の色を比較して、レーザ光の照射開始位置を比視感度が低い色の画素により接近した角部に設定することにより、上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。

以上のように、本実施の形態１によれば、輝点欠陥画素をレーザ光を照射することによって暗点化するときに、レーザ光の照射開始位置を、輝点欠陥画素に隣接する画素のうち比視感度が低い色の画素により接近した角部に設定することにより、レーザ光照射により輝点欠陥画素を修正したときに、輝点欠陥画素の周辺に発生する表示不良を目立たなくすることができる。

実施の形態２．
図８は、本実施の形態２におけるレーザ光の走査経路およびレーザ光照射後に液晶の配向異常が発生したときの様子を併せて示す上面図である。

図８において、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲであり、隣接画素６１の色がＧ、隣接画素６２の色がＢの場合について説明する。

隣接画素６１，６２の色の比視感度を比較すると、隣接画素６１のＧの方が比視感度が高く、隣接画素６２のＢの方が低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６２に近い角部に加工開始点７４を設定してレーザ照射を開始し、続いて隣接画素６２に近い外周部に沿って、図８に示したように、Ｘ方向の主走査とＹ方向の主走査を組み合わせた走査経路７３のように輝点欠陥画素６０の外周部から内部に向かって渦巻状にレーザ光を走査し、輝点欠陥画素６０のほぼ中央部に設定した加工終了点７５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点７４は隣接画素６２に近い位置であるため、液晶の配向異常領域６６は隣接画素６１よりも隣接画素６２内に広く発生する。したがって、隣接画素６２に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素６１からのＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

また、図８では輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲの場合について説明したが、輝点欠陥画素６０の色がＧの場合には、隣接するＲとＢの画素のうち比視感度が低いＢの画素に近い角部に加工開始点７４を設定してレーザ光を照射し、渦巻状の走査経路７３に沿ってレーザ光を走査する。

また、輝点欠陥画素６０の色がＢの場合には、隣接するＲとＧの画素のうち比視感度が低いＲの画素に近い角部に加工開始点７４を設定してレーザ光を照射し、渦巻状の走査経路７３に沿ってレーザ光を走査する。

このように、レーザ光の加工開始点７４を、隣接画素のうち比視感度が低い色の画素に近い角部に設定することにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

実施の形態３．
図９は、本実施の形態３におけるレーザ光の走査経路およびレーザ光照射後に液晶の配向異常が発生したときの様子を併せて示す上面図である。

図９において、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲであり、隣接画素６１の色がＧ、隣接画素６２の色がＢの場合について説明する。

隣接画素６１，６２の色の比視感度を比較すると、隣接画素６１のＧの方が比視感度が高く、隣接画素６２のＢの方が低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６２に近い角部に加工開始点８４を設定してレーザ照射を開始し、１本目の加工終了点８６まで走査経路８３の矢印に沿ってＹ方向に走査し、１本目の加工終了点８６に到達した時点でレーザ照射を停止する。その後、ＸＹテーブル４２の駆動により２本目の加工開始点８７にＸ方向に移動する。２本目の加工開始点８７よりレーザ照射を開始し、今度は−Ｙ方向に走査し２本目の加工終了点８８に到達した時点でレーザ照射を停止する。その後、ＸＹテーブル４２の駆動により３本目の加工開始点８９にＸ方向に移動する。この動作を繰り返すことにより、輝点欠陥画素６０の全体を暗点化し、加工終了点８５まで走査が終わった時点で暗点化を完了する。

図９において、走査経路８３は、最初の加工開始点８４から最後の加工終了点８５まで連続していない。これは、走査の向きが変更される箇所ではＸＹステージ４２が停止すると、その変更箇所に比較的長い時間レーザ光が照射されることになるため、これを防止する目的でレーザ照射をＯＮ−ＯＦＦしながら図９のように往復走査している。このようにすると、複数の加工開始点が設定されることになるが、たとえば１本目の加工終了点８６でレーザ照射を停止し、２本目加工開始点８７に移動してレーザ照射を開始する場合には、１本目のレーザ照射によりすでに周辺のカラーフィルタ１２および配向膜５はある程度熱せられていて、２本目のレーザ照射開始により急激に加熱されることがないため、２本目以降の加工開始点を基点として配向異常領域６６が大きく広がることはほとんどない。

なお、１本目のレーザ照射完了後、１本目加工終了点８６から遠く離れてレーザ照射による熱の影響をほとんど受けていない箇所を２本目の加工開始点８７としてレーザ照射することは、新たにレーザ照射するのと同様の影響をカラーフィルタ１２および配向膜５に及ぼすため、好ましくない。

なお、図９では、上記のように走査の向きが変更される箇所でレーザ照射時間が長くなる点を勘案して不連続な走査経路としているが、レーザパワーの最適化等でレーザ照射時間が長くなることによる不具合を回避できるのであれば、本実施の形態３における走査経路８３は加工開始点８４から加工終了点８５まで連続していても問題ない。

また、図９では、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲの場合について説明したが、輝点欠陥画素６０の色がＧの場合には、隣接するＲとＢの画素のうち比視感度が低いＢの画素に近い角部に最初の加工開始点８４を設定してレーザ光を照射し、走査経路８３に沿ってレーザ光を走査する。

また、輝点欠陥画素６０の色がＢの場合には、隣接するＲとＧの画素のうち比視感度が低いＲの画素に近い角部に最初の加工開始点８４を設定してレーザ光を照射し、走査経路８３に沿ってレーザ光を走査する。

このように、レーザ光の加工開始点８４を、隣接画素のうち比視感度が低い色の画素に近い角部に設定することにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

実施の形態４．
図１０は、本実施の形態４におけるレーザ光の走査経路およびレーザ光照射後に液晶の配向異常が発生したときの様子を併せて示す上面図である。

図１０において、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲであり、隣接画素６１の色がＧ、隣接画素６２の色がＢの場合について説明する。

隣接画素６１，６２の色の比視感度を比較すると、隣接画素６１のＧの方が比視感度が高く、隣接画素６２のＢの方が低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６２に接する外周部中央付近に加工開始点９４を設定してレーザ照射を開始し、比視感度が高い隣接画素６１に向かってＹ方向にレーザ光を走査し、さらにＹ方向の主走査とＸ方向の副走査を組み合わせた走査経路９３に沿って輝点欠陥画素６０の半分をジグザグ状に往復走査し、続いて画素６０の外周部に沿ってＸ方向に走査し、そして画素６０の残り半分をジグザグ状に往復走査し、外周部中央付近に設定した加工終了点９５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点９４は隣接画素６２に近い位置であるため、液晶の配向異常領域６６は隣接画素６１よりも隣接画素６２内に広く発生する。従って、隣接画素６２に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素６１からのＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

また、図１０では輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲの場合について説明したが、輝点欠陥画素６０の色がＧの場合には、隣接するＲとＢの画素のうち比視感度が低いＢの画素に近い外周部中央付近に加工開始点９４を設定してレーザ光を照射し、走査経路９３に沿ってレーザ光を走査する。

また、輝点欠陥画素６０の色がＢの場合には、隣接するＲとＧの画素のうち比視感度が低いＲの画素に近い外周部中央付近に加工開始点９４を設定してレーザ光を照射し、走査経路９３に沿ってレーザ光を走査する。

このように、レーザ光の加工開始点９４を、隣接画素のうち比視感度が低い色の画素に近い外周部中央付近に設定することにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

実施の形態５．
図１１は、本実施の形態５におけるレーザ光の走査経路およびレーザ光照射後に液晶の配向異常が発生したときの様子を併せて示す上面図である。

図１１において、輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲであり、隣接画素６１の色がＧ、隣接画素６２の色がＢの場合について説明する。

隣接画素６１，６２の色の比視感度を比較すると、隣接画素６１のＧの方が比視感度が高く、隣接画素６２のＢの方が低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素６０において、比視感度が低い方の隣接画素６２に近い角部に加工開始点１０４を設定してレーザ照射を開始し、図１１に示したように、Ｘ方向およびＹ方向に対して傾斜した主走査を組み合わせた走査経路１０３に沿って、加工開始点１０４の対角上の角部に向かってレーザ光をジグザグ状に往復走査し、隣接画素６１に近い角部に設定した加工終了点１０５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点１０４は隣接画素６２に近い位置であるため、液晶の配向異常領域６６は隣接画素６１よりも隣接画素６２内に広く発生する。従って、隣接画素６２に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素６１からのＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

また、図１１では輝点欠陥画素６０に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲの場合について説明したが、輝点欠陥画素６０の色がＧの場合には、隣接するＲとＢの画素のうち比視感度が低いＢの画素に近い角部に加工開始点１０４を設定してレーザ光を照射し、走査経路１０３に沿ってレーザ光を走査する。

また、輝点欠陥画素６０の色がＢの場合には、隣接するＲとＧの画素のうち比視感度が低いＲの画素に近い角部に加工開始点１０４を設定してレーザ光を照射し、走査経路１０３に沿ってレーザ光を走査する。

このように、レーザ光の加工開始点１０４を、隣接画素のうち比視感度が低い色の画素に近い角部に設定することにより、輝点欠陥画素６０にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

実施の形態６．
液晶ディスプレイのカラーフィルタ配列においては、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色のカラーフィルタ色材をマトリクス状（田の字状）にモザイク配列するものがある。

図１２は、本実施の形態６における液晶モジュールに使用されるマトリクス配列のカラーフィルタ１２の上面図である。Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ色材６が形成された画素間はブラックマトリクス７で仕切られている。図において、Ｒのカラーフィルタ色材６が形成された画素が輝点欠陥画素２００である場合について以下に詳しく説明する。

図１３は、輝点欠陥画素２００におけるレーザ光の走査経路および周辺画素に発生する液晶の配向異常の様子を示す上面図である。

輝点欠陥画素２００に辺で隣接する４つの画素２０１，２０２，２０７，２０８に形成されるカラーフィルタ色材６の色の比視感度を比較すると、右側隣接画素２０２および上側隣接画素２０７のＧが比視感度が高く、左側隣接画素２０１および下側隣接画素２０８のＢは低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素２００において、比視感度が低い隣接画素２０１と隣接画素２０８に近い角部に加工開始点２０４を設定してレーザ照射を開始し、図１３に示される走査経路２０３に沿ってレーザ光をジグザグ状に隙間なく往復走査し、輝点欠陥画素２００の加工開始点２０４と異なる角部に設定した加工終了点２０５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点２０４は、隣接画素２０１および隣接画素２０８により接近した位置に設定されるため、液晶の配向異常領域２０６は隣接画素２０２および隣接画素２０７よりも隣接画素２０１および隣接画素２０８内に広く発生する。従って、隣接画素２０１および隣接画素２０８に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素２０２および隣接画素２０７からのＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

また、図１３では輝点欠陥画素２００に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲの場合について説明したが、輝点欠陥画素２００の色がＧの場合には、辺で隣接する４つの画素はＲを示す２画素とＢを示す２画素となる。そこで、ＲとＢのうち比視感度が低いＢを示す２画素に近い角部に加工開始点２０４を設定してレーザ光を照射し、走査経路２０３に沿ってレーザ光を走査する。

また、輝点欠陥画素２００の色がＢの場合には、隣接するＲとＧの画素のうち比視感度が低いＲを示す２画素に近い角部に加工開始点２０４を設定してレーザ光を照射し、走査経路２０３に沿ってレーザ光を走査する。

このように、レーザ光の加工開始点２０４を、隣接画素のうち比視感度が低い色の２画素に近い角部に設定することにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

実施の形態７．
図１４は、本実施の形態７における輝点欠陥画素２００へのレーザ光の走査経路および周辺画素に発生する液晶の配向異常の様子を示す上面図である。

輝点欠陥画素２００に辺で隣接する４つの画素２０１，２０２，２０７，２０８に形成されるカラーフィルタ色材６の色の比視感度を比較すると、右側隣接画素２０２および上側隣接画素２０７のＧが比視感度が高く、左側隣接画素２０１および下側隣接画素２０８のＢは低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素２００において、比視感度が低い隣接画素２０１に接する外周部のうち輝点欠陥画素２００の角部から離れた位置、たとえば隣接画素２０１に接する外周部の中央付近に加工開始点２１４を設定し、図１４に示される走査経路２１３に沿って輝点欠陥画素２００内をジグザグ状に、あるいは外周部に沿って走査し、外周部中央付近に設定した加工終了点２１５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点２１４は隣接画素２０１に近い位置であるため、液晶の配向異常領域２０６は、隣接画素２０２、隣接画素２０７、隣接画素２０８よりも隣接画素２０１内に広く発生する。したがって、隣接画素２０１に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素２０２および隣接画素２０７からの比視感度の高いＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

また、図１４では輝点欠陥画素２００に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＲの場合について説明したが、輝点欠陥画素２００の色がＧの場合には、辺で隣接する４つの画素はＲを示す２画素とＢを示す２画素となる。そこで、ＲとＢのうち比視感度が低いＢを示す画素に接する外周部において輝点欠陥画素２００の角部から離れた位置に加工開始点２１４を設定してレーザ光を照射し、走査経路２１３に沿ってレーザ光を走査する。

また、輝点欠陥画素２００の色がＢの場合には、辺で隣接する４つの画素はＲを示す２画素とＧを示す２画素となる。そこで、ＲとＧのうち比視感度が低いＲを示す画素に接する外周部において輝点欠陥画素２００の角部から離れた位置に加工開始点２１４を設定してレーザ光を照射し、走査経路２１３に沿ってレーザ光を走査する。

このように、輝点欠陥画素２００におけるレーザ光の加工開始点２１４を、比視感度が低い色の隣接画素に接する外周部のうち角部から離れた位置、たとえば隣接画素に接する外周部の中央付近に設定することにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

また、本実施の形態７では、加工開始点２１４が輝点欠陥画素２００の角部から離れた位置に設定されているので、角部に加工開始点２１４を設定したときと比べて、輝点欠陥画素２００の斜め方向に隣接する画素２０９あるいは２１０内での配向異常を抑えることができる。

実施の形態８．
液晶ディスプレイにおいては、色再現領域を拡大するため、従来のＲ，Ｇ，Ｂの色材に黄（Ｙ）などを加えた４色のカラーフィルタ色材を用いるものがある。

図１５は、本実施の形態８で用いられるカラーフィルタ色材６のＲ，Ｇ，ＢおよびＹの透過スペクトルを示す。カラーフィルタ色材６のＹは波長５００ｎｍ以上の範囲で高い透過率を示し、図５の標準比視感度曲線と比べると明らかなように、人間の目には非常に強い光と感じられる。

図１６は、本実施の形態８における液晶モジュールに使用されるＲ，Ｇ，Ｂ，Ｙの４色がマトリクス状（田の字状）に配列されたカラーフィルタ１２の上面図である。Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｙのカラーフィルタ色材６が形成された画素間はブラックマトリクス７で仕切られている。図において、Ｒのカラーフィルタ色材６が形成された画素が輝点欠陥画素２００である場合について以下に詳しく説明する。

図１７は、輝点欠陥画素２００におけるレーザ光の走査経路および周辺画素に発生する液晶の配向異常の様子を示す上面図である。

輝点欠陥画素２００に辺で隣接する４つの画素２０１，２０２，２０７，２０８に形成されるカラーフィルタ色材６の色の比視感度を比較すると、左側隣接画素２０１のＹが比視感度が最も高く、次に右側隣接画素２０２のＧが高く、上側隣接画素２０７と下側隣接画素２０８のＢが比視感度が最も低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素２００において、比視感度が最も低い隣接画素２０８と比視感度が２番目に低い隣接画素２０２に接する角部に加工開始点２２４を設定してレーザ照射を開始し、図１７に示される走査経路２２３に沿ってレーザ光をジグザグ状に隙間なく往復走査し、輝点欠陥画素２００の加工開始点２２４と異なる角部に設定した加工終了点２２５に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点２２４は、隣接画素２０８および隣接画素２０２により接近した位置に設定されるため、液晶の配向異常領域２０６は隣接画素２０１および隣接画素２０７よりも隣接画素２０８および隣接画素２０２内に広く発生する。従って、隣接画素２０８および隣接画素２０２に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢおよびＧの光が広い範囲から出射され、隣接画素２０１からの比視感度の高いＹの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

なお、ここでは加工開始点２２４を、隣接画素２０８と隣接画素２０２に接する角部に設定したが、比視感度が最も低いＢを示すもう１つの隣接画素２０７と隣接画素２０２に接する角部に加工開始点２２４を設定しても同じ効果が得られる。

同様に、輝点欠陥画素２００に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＢの場合について図１８を用いて説明する。

図１８に示すように、輝点欠陥画素２００がＢの場合には、隣接する画素の色は隣接画素２０２がＹで比視感度が最も高く、次に隣接画素２０１のＧ、最も低いのが隣接画素２０７および隣接画素２０８のＲとなる。そこで、輝点欠陥画素２００において、比視感度が最も低い隣接画素２０８と比視感度が２番目に低い隣接画素２０１に接する角部に加工開始点２３４を設定してレーザ照射を開始し、走査経路２３３に沿ってレーザ光を走査し、加工開始点２３４と異なる角部に設定した加工終了点２３５で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点２３４は、隣接画素２０８および隣接画素２０１により接近した位置に設定されるため、液晶の配向異常領域２０６は隣接画素２０８および隣接画素２０１内に広く発生し、それぞれのカラーフィルタ色材６の色であるＲおよびＧの光が広い範囲から出射され、隣接画素２０２からの比視感度の高いＹの漏れ光は少なくなる。これにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

なお、ここでは加工開始点２３４を、隣接画素２０８と隣接画素２０１に接する角部に設定したが、比視感度が最も低いＲを示すもう１つの隣接画素２０７と隣接画素２０１に接する角部に加工開始点２２４を設定しても同じ効果が得られる。

次に、輝点欠陥画素２００に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＧの場合について図１９を用いて説明する。

図１９において、輝点欠陥画素２００に辺で隣接する４つの画素２０１，２０２，２０７，２０８に形成されるカラーフィルタ色材６の色の比視感度を比較すると、上側隣接画素２０７および下側隣接画素２０８のＹが比視感度が最も高く、次に左側隣接画素２０１のＲが高く、右側隣接画素２０２のＢが比視感度が最も低い。そこで、暗点化対象の輝点欠陥画素２００において、比視感度が最も低い隣接画素２０２に接する外周部のほぼ中央付近に加工開始点２２４を設定してレーザ照射を開始し、図１９に示される走査経路２４３に沿って輝点欠陥画素２００内をジグザグ状に、あるいは外周部に沿って走査し、外周部中央付近に設定した加工終了点に到達した時点で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点２４４は、隣接画素２０２により接近した位置に設定されるため、液晶の配向異常領域２０６は隣接画素２０１、隣接画素２０７、隣接画素２０８よりも隣接画素２０２内に広く発生する。隣接画素２０７および隣接画素２０８においては配光異常がある程度発生するが、隣接画素２０２に比べるとその広がりは小さい。従って、隣接画素２０２に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素２０７および隣接画素２０８からの比視感度の高いＹの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不良を目立たなくすることができる。

なお、ここで、加工開始点２４４を、図１８に示す例のように輝点欠陥画素２００の角部に設定すると、加工開始位置が比視感度の最も高いＹの色を示す隣接画素２０７あるいは隣接画素２０８に近い位置となり、配向異常領域２０６が隣接画素２０７あるいは隣接画素２０８内に大きく広がる結果となり、比視感度が最も高いＹの光が広い範囲から出射されることになるため、好ましくない。

同様に、輝点欠陥画素２００に形成されたカラーフィルタ色材６の色がＹの場合について図２０を用いて説明する。

図２０に示すように、輝点欠陥画素２００がＹの場合には、隣接する画素の色は隣接画素２０７および隣接画素２０８がＧで比視感度が最も高く、次に隣接画素２０２のＲ、最も低いのが隣接画素２０１のＢとなる。そこで、輝点欠陥画素２００において、比視感度が最も低い隣接画素２０１に接する外周部のほぼ中央付近に加工開始点２５４を設定してレーザ照射を開始し、走査経路２５３に沿ってレーザ光を走査し、外周部中央付近に設定した加工終了点２５５で走査を終了する。

このように走査すると、レーザ光の加工開始点２５４は、隣接画素２０１により接近した位置に設定されるため、液晶の配向異常領域２０６は隣接画素２０２、隣接画素２０７、隣接画素２０８よりも隣接画素２０１内に広く発生する。隣接画素２０７および隣接画素２０８においては配向異常がある程度発生するが、隣接画素２０１に比べるとその広がりは小さい。従って、隣接画素２０１に形成されたカラーフィルタ色材６の色であるＢの光が広い範囲から出射され、隣接画素２０７および隣接画素２０８からの比視感度の高いＧの漏れ光は少ない。これにより、輝点欠陥画素２００にレーザ光を照射して暗点化したときに周辺部で発生する表示不要を目立たなくすることができる。

１液晶、２，８ガラス基板、３，９偏光板、４共通電極、
５，１１配向膜、６カラーフィルタ色材、７ブラックマトリクス、
１０ＴＦＴアレイ、１２カラーフィルタ、１３カラーフィルタ基板、
１４ＴＦＴ基板、１５液晶パネル、１６バックライト、
１７駆動制御基板、２０液晶モジュール、３０レーザ照射・観察部、
３１レーザ駆動電源、３２レーザ発振器、３３Ｚステージ、
３４調整光学系、３５可変開口装置、３６レーザ加工光学系、
３７カメラ、４０液晶パネル設置部、４１駆動制御装置、
４２ＸＹテーブル、４２ａ透過穴、４３観察用光源、
５０輝点欠陥暗点化装置、６０，２００輝点欠陥画素、
６１，６２，２０１，２０２，２０７，２０８，２０９，２１０隣接画素、
６３，７３，８３，９３，１０３，２０３，２１３，２２３，２３３，２４３，２５３走査経路、
６４，７４，８４，８７，８９，９４，１０４，２０４，２１４，２２４，２３４，２４４，２５４加工開始点、
６５，７５，８５，８６，８８，９５，１０５，２０５，２１５，２２５，２３５，２４５，２５５加工終了点、６６，２０６配向異常領域。

Claims

少なくとも３つの色を含む複数の色画素が配列したカラーフィルタ基板と、
各色画素に対応した画素電極を駆動する複数の薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記カラーフィルタ基板と前記薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置において、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、
前記輝点欠陥画素に向けて、前記輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズで前記レーザ光を照射する工程と、
前記レーザ光を前記液晶表示装置に対して相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内で前記レーザ光を走査する工程とを含み、
前記レーザ光を走査する工程において、前記レーザ光の照射開始位置が、前記輝点欠陥画素に隣接する色画素のうち比視感度が高い色の画素と比べて、比視感度が低い色の画素の方に接近して設定されることを特徴とする液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
前記レーザ光の照射開始位置は、比視感度が低い色の画素に接する外周部の角部に設定されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
前記レーザ光を走査する工程において、最初に比視感度が低い色の画素に接する外周部に沿って走査し、徐々に比視感度が高い色の画素へ向かってレーザ光を走査することを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
前記レーザ光を走査する工程において、比視感度が低い色の画素から比視感度が高い色の画素へ向かってレーザ光を走査することを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
前記レーザ光を走査する工程において、前記レーザ光の照射開始位置からレーザ光の照射を終了する位置まで連続して前記レーザ光を走査することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
前記カラーフィルタ基板には複数の色画素がマトリクス状に配列されており、
前記レーザ光の照射開始位置は、前記輝点欠陥画素に隣接する４つの画素のうち比視感度が最も低い色の画素に最も接近して設定されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
前記カラーフィルタ基板には、４つの色を含む複数の色画素がマトリクス状に配列されており、
前記輝点欠陥画素に隣接する４つの画素のうち比視感度が最も低い色の画素が２つ存在する場合、前記レーザ光の照射開始位置は、比視感度が最も低い色の画素および比視感度が２番目に低い色の画素の両方に接近した角部に設定され、
前記輝点欠陥画素に隣接する４つの画素のうち比視感度が最も低い色の画素が１つだけ存在する場合、前記レーザ光の照射開始位置は、比視感度が最も低い色の画素に接する外周部の中央に設定されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
少なくとも３つの色を含む複数の色画素が配列したカラーフィルタ基板と、
各色画素に対応した画素電極を駆動する複数の薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記カラーフィルタ基板と前記薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置において、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させ、輝点欠陥を修正する工程を含む液晶表示装置の製造方法であって、
前記輝点欠陥画素に向けて、前記輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズで前記レーザ光を照射する工程と、
前記レーザ光を前記液晶表示装置に対して相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内で前記レーザ光を走査する工程とを含み、
前記レーザ光を走査する工程において、前記レーザ光の照射開始位置が、前記輝点欠陥画素に隣接する色画素のうち比視感度が高い色の画素と比べて、比視感度が低い色の画素の方に接近して設定されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。