JP2014157335A - 液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶表示装置の輝点欠陥をレーザ照射により黒点化する方法で、レーザ照射後に新たに発生する表示不良を抑制する方法を提供する。
【解決手段】液晶パネルに発生する輝点欠陥画素に対してレーザ光を照射して、少なくともカラーフィルタの一部を変質させて透過率を低下させる輝点欠陥修正方法で、輝点欠陥画素へのレーザ照射開始位置を、輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上にすることにより、オーバーコート層の亀裂発生を抑制し、レーザ照射後に新たに発生する表示不良を目立たなくする。
【選択図】図3
【解決手段】液晶パネルに発生する輝点欠陥画素に対してレーザ光を照射して、少なくともカラーフィルタの一部を変質させて透過率を低下させる輝点欠陥修正方法で、輝点欠陥画素へのレーザ照射開始位置を、輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上にすることにより、オーバーコート層の亀裂発生を抑制し、レーザ照射後に新たに発生する表示不良を目立たなくする。
【選択図】図3
Description
この発明は、液晶表示装置の画素に発生した輝点欠陥にレーザ光を照射して黒点化する液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および液晶表示装置の製造方法に関するものである。
液晶パネルには、製造工程における異物混入などによって、輝点欠陥と呼ばれる欠陥が発生することがある。輝点欠陥は、画面を黒く表示しようとしても画素欠陥部が常に白く点灯する欠陥で、人間の目に視認されやすく非常に目立つことから、輝点欠陥が発生した液晶パネルは不良品として廃棄されることが多く、液晶パネル製造における歩留り低下の原因となっている。
このような液晶パネルにおける輝点欠陥を修正する方法として、従来、液晶パネルの輝点欠陥画素に対応した部分のカラーフィルタにレーザ光を照射することにより、カラーフィルタを変質させてバックライトからの光を透過させないようにし、輝点欠陥を黒点化して目立たなくするという技術があった。この技術において、レーザ光はスリット等を使用することによって画素よりも小さいスポットサイズに整形される。そして、レーザ光を画素内で走査することによってカラーフィルタを変質させて輝点欠陥を黒点化する(たとえば、特許文献1参照)。
また、別の技術では、たとえば輝点不良画素の一部面積に対応するビームサイズを有するレーザを走査して画素の全面積に照射することによって輝点欠陥を黒点化するが、レーザはカラーフィルタのみならず、カラーフィルタに隣接するブラックマトリックスの一部領域にも照射されることが望ましい、とされる(特許文献2参照)。
このような輝点欠陥の黒点化方法において、レーザ光を照射する対象はカラーフィルタである。カラーフィルタ色材にレーザ光が照射されると色材の成分である有機物質が加熱により分解され、変質し、透過率が低下して黒化が進行する。また、カラーフィルタのガラス基板と反対側の面には、色材表面の凹凸を平坦化するためのオーバーコート層が配置されている。カラーフィルタ色材、オーバーコート層ともに厚みが数μm以下の薄い層である。レーザ光のエネルギーを、カラーフィルタを変質させて黒化するために最適な値に設定してレーザ光を照射すると、カラーフィルタ色材は黒化するが、その黒化物はオーバーコート層に被覆された状態になる。ところが、レーザ光の照射開始部においては、オーバーコート層に亀裂が発生することがある。これは、レーザ照射による衝撃(急激な温度上昇等)が一因と考えられるが、オーバーコート層に亀裂が発生すると、そこから黒化物の一部が液晶中に噴出して不純物イオンが拡散し、電圧保持率を低下させ表示不良を起こすことがあった。また、噴出した異物が飛散してカラーフィルタ基板あるいは薄膜トランジスタアレイ基板の配向膜上に付着することにより液晶配向の乱れを引き起こし、新たな表示不良を発生させることもあった。
この発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、レーザ照射開始部におけるオーバーコート層の亀裂発生を抑制し、輝点欠陥画素周辺に新たに発生する表示不良を低減し、輝点を適切に黒点化することができる液晶表示装置の輝点欠陥修正方法および液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
この発明に係る液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、画素上に形成されるカラーフィルタ色材とカラーフィルタ色材を取り囲むように形成されるブラックマトリクスとを含むカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置の輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくともカラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、輝点欠陥画素に向けて、輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光の照射を開始する開始工程と、レーザ光と液晶表示装置とを相対的に移動させて、輝点欠陥画素内でレーザ光を走査する走査工程とを含み、レーザ光の照射は、輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上で開始することを特徴とするものである。
また、この発明に係る液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、画素上に形成されるカラーフィルタ色材とカラーフィルタ色材を取り囲むように形成されるブラックマトリクスとを含むカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置の輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくともカラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、輝点欠陥画素に向けて、輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光の照射を開始する開始工程と、レーザ光と液晶表示装置とを相対的に移動させて、輝点欠陥画素内でレーザ光を走査する走査工程とを含み、レーザ光の走査方向は、輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上で転換することを特徴とするものである。
この発明によれば、レーザ光照射開始位置でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制し、輝点欠陥画素の周辺に新たに発生する表示不良を抑制することができる。
実施の形態1.
以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。各図においては、同一または同様の構成部分については同じ符号を付している。なお、図面によっては、理解が容易になるように一部を極端に誇張して示す。また、本発明の実施の形態において例示される各構成要素の寸法、材質、形状、それらの相対配置などは、本発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるものであり、本発明はそれらの例示に限定されるものではない。
以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。各図においては、同一または同様の構成部分については同じ符号を付している。なお、図面によっては、理解が容易になるように一部を極端に誇張して示す。また、本発明の実施の形態において例示される各構成要素の寸法、材質、形状、それらの相対配置などは、本発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるものであり、本発明はそれらの例示に限定されるものではない。
図1は、本発明の実施の形態1における液晶モジュール20の断面図である。同図に示すように、液晶モジュール20は、液晶パネル17、バックライト18、駆動制御基板19から構成される。バックライト18は液晶パネル17の背面側に配置され、バックライト18と液晶パネル17は駆動制御基板19に電気的に接続されて動作制御される。
液晶パネル17は、カラーフィルタ基板15と薄膜トランジスタアレイ基板16との間に液晶1が封入された構造となっている。なお、以下では薄膜トランジスタアレイ基板をTFT基板(TFT:Thin Film Transistor)という。
カラーフィルタ基板15は、ガラス基板2を有し、ガラス基板2の液晶1側の面上にはカラーフィルタ14が配置されている。カラーフィルタ14の液晶1側の面上にはオーバーコート層4が形成され、オーバーコート層4の面上には液晶1を所定の向きに配向させるための配向膜5が形成されている。また、ガラス基板2の液晶1と反対側の面上には偏光板3が配置されている。
カラーフィルタ14は、赤(R)、緑(G)、青(B)に相当する特定の波長域の光を透過するカラーフィルタ色材6と、これら隣接するRGBの各画素間に配置されて光を遮るブラックマトリクス7を有する。カラーフィルタ色材6としては、例えばポリイミドやアクリル系、エポキシ系の樹脂に着色したもの等が用いられ、膜厚は例えば1μm程度である。ブラックマトリクス7は遮光性に優れた膜であり、樹脂にカーボンを加えて黒くしたものや金属のクロム膜等が用いられる。
オーバーコート層4は、カラーフィルタ表面の平坦性を高め保護するためのものであり、主要材料はポリイミド系、エポキシ系、アクリル系等の樹脂であり、熱硬化タイプと光硬化タイプに分かれる。膜厚は例えば1μm程度である。
配向膜5は、液晶1の分子を所定の向きに配向させるためのものであり、例えばポリイミド等で形成される。厚みは、数十nm程度である。
TFT基板16は、ガラス基板8を有し、ガラス基板8の液晶1側の面上には液晶1に印加する電圧を制御するためのTFTアレイ10が形成されている。さらに、TFTアレイ10上には画素電極11が例えばITO(Indium Tin Oxide)のような透明導電膜で平面ベタに形成され、その上に絶縁膜を挟んで櫛歯状の共通電極12が形成される。TFT基板16においても、カラーフィルタ基板15と同様に、液晶1に接する最上部に配向膜13が形成されている。また、ガラス基板8の液晶1と反対側の面上には偏光板9が配置されている。
TFTアレイ10には、画素電極11を通して液晶1に印加する電圧を制御するためのTFT等が含まれる。駆動制御基板19は、このTFTアレイ10と電気的に接続されている。
配向膜13には、カラーフィルタ基板15側の配向膜5と同じものが使用される。
次に、バックライト18について説明する。バックライト18としては、例えば発光ダイオードや蛍光管といった点光源や線光源から面光源を形成したものや、エレクトロルミネッセンス素子による面光源等が使用される。
次に、駆動制御基板について説明する。駆動制御基板19は制御用のIC等を含み、液晶パネル17のTFTアレイ10の動作を制御することによって液晶1を駆動する。また、バックライト18の動作も制御する。
以上のような構造の液晶モジュールは、In-Plane Switching(IPS)方式として知られる。In-Plane Switching方式では、電極は一方の基板の面内方向に配置され、基板の面方向に電界を加えて液晶分子を基板と平行な面内(in-plane)で回転させ、液晶の複屈折性を制御することでバックライトからの光の透過を制御し、また、電圧をかけていない状態で光を遮蔽する。そのため、見る角度にあまり影響されず視野角が広いという特徴がある。このようなIn-Plane Switching方式の液晶モジュールにおいては、液晶分子を水平方向に駆動するための横電界を歪ませないためにカラーフィルタ側に絶縁性が要求される。また、カラーフィルタとTFT基板間のギャップ(液晶層厚み)精度が要求されるため、カラーフィルタ色材とブラックマトリクスが重なる部分にできる段差等を低減し平坦化を図る必要がある。このため、カラーフィルタ14の面上にオーバーコート層4が形成されている。
以上のような液晶モジュール20において、液晶パネル17の製造時等に液晶パネル17に異物の混入等で輝点欠陥が発生することがある。本発明の形態では、このような輝点欠陥が発生した液晶パネル17を対象とし、液晶パネル17を構成するカラーフィルタ色材6のうち、輝点欠陥を有する画素に形成されたカラーフィルタ色材6に対してレーザを照射することでこれを黒化し、液晶パネル17上の輝点欠陥を遮蔽し、目立たなくする。
本発明の形態で使用される液晶パネルの輝点欠陥黒化装置について、以下に説明する。
図2は、本発明の形態1における液晶表示装置の輝点欠陥黒化装置の構成図である。輝点欠陥黒化装置50は主にレーザ照射・観察部30と液晶パネル設置部40から成る。レーザ照射・観察部30は、レーザ光の発生、整形、集光等と、液晶パネル17の観察という機能を有する。液晶パネル設置部40は、レーザ光を照射する対象である液晶パネル17を設置するとともに、レーザ照射・観察部30に対して液晶パネル17を互いに直交するX、Y方向に移動させる機能を有する。そして、レーザ照射・観察部30で発生されたレーザ光を、液晶パネル設置部40に設置された液晶パネル17の輝点欠陥を有する画素に対して照射することによって、液晶パネル17の輝点欠陥を黒点化する。
レーザ照射・観察部30について説明する。レーザ照射・観察部30では、輝点欠陥の黒点化用の光源の一例であるレーザ発信器32にレーザ駆動電源31から電力を供給してレーザ光を発生させる。レーザ発信器32としては、半導体レーザ、固体レーザ、ガスレーザ等を使用することができる。
レーザ発信器32から出射されたレーザ光は、調整光学系34によって整形される。調整光学系34は、球面レンズ、円筒面レンズ、プリズムなどで構成され、レーザ光を、輝点欠陥画素の黒化に適したビーム径およびビーム発散角に調整する。
このように調整されたレーザ光は、可変開口装置35によって可変開口装置35の形(たとえば円形または矩形)に整形される。可変開口装置35により円形または矩形に整形されたレーザ光は、レーザ加工光学系36によって、XYテーブル42上に設置された液晶パネル17のカラーフィルタ基板15上に画素よりも小さいスポットサイズで転写される。
液晶パネル17のカラーフィルタ色材6上に照射されるレーザスポット(ビームスポットとも称する)の形状は、可変開口装置35の形状とレーザ加工光学系36の転写倍率とで決定される。たとえば、可変開口装置35をφ150μmの円形とし、転写倍率を1/50倍とすると、レーザスポットはφ3μmの円形となる。レーザスポットのサイズは、加工パラメータとして可変開口装置35の大きさを調整することやレーザ加工光学系36の転写倍率を変更することで、液晶パネル17の機種やカラーフィルタ色材6の種類に応じて最適化することができる。レーザスポットのサイズが大きすぎると、カラーフィルタ色材6が黒化せずにカラーフィルタ基板15を破損する確率が高くなる。一方、レーザスポットのサイズが小さすぎると、輝点欠陥の遮蔽に十分な黒化レベルを得ることができない。出願人の実験によれば、レーザスポットのサイズはφ3μm〜φ5μmが適切であった。
また、レーザ照射・観察部30には、輝点欠陥の黒点化用のレーザ光を照射するときや液晶パネル17を観察するときに液晶パネル17にフォーカスを合わせるためのZステージ33が設置されている。Zステージ33は、レーザ照射・観察部30と液晶パネル17との距離を調整可能であり、図2の上下方向(Z方向)にレーザ照射・観察部30を移動させて輝点欠陥の黒点化用のレーザ光や観察用の光のフォーカスを調整する。
液晶パネル17のカラーフィルタ色材6におけるレーザスポットの大きさが数μmと小さい場合、たとえば液晶パネル17の傾きなどによってレーザ加工光学系36と液晶パネル17との間の距離が変動したときには、カラーフィルタ色材6におけるレーザスポットの形状が変化し、レーザ加工が不安定になる。したがって、安定した加工のために、画像処理などによりレーザ加工光学系36と液晶パネル17との間の距離を推定し、この距離を元に自動的にZステージ33を制御して、レーザ加工光学系36と液晶パネル17との距離を一定に保つことが有効である。
このため、本発明の形態では、レーザ加工光学系36にカメラ37を併設することにより、レーザ照射時の液晶パネル17の様子を観察することを可能にしている。このような観察用のカメラ37は省略してもレーザ照射による黒化加工自体は可能であるが、黒化加工対象画素の位置決めのために設置した方が望ましい。
次に、液晶パネル設置部40について説明する。液晶パネル設置部40は、XYテーブル42、観察用光源43および駆動制御装置41を有する。
XYテーブル42は、その上面に液晶パネル17を設置し、液晶パネル17に入射するレーザ光に対して略垂直な面内で略直交する2方向に移動可能である。これにより、液晶パネル17上の任意の場所にレーザ光を照射することができる。XYテーブル42には透過穴42aが設けられており、XYテーブル42の背面側に設置された観察用光源43から出射された光が、透過穴42aを通って液晶パネル17に照射されるようになっていて、レーザ照射・観察部30のレーザ加工光学系36に併設されたカメラ37により観察することができる。
駆動制御装置41は、液晶パネル17と電気的に接続され、液晶パネル17のTFTアレイ10の動作を制御することによって液晶1を駆動する。なお、駆動制御装置41の機能は基本的に液晶モジュール20の駆動制御基板19と同様であるため、液晶表示装置の輝点欠陥の黒点化装置50に駆動制御装置41を設ける代わりに、液晶モジュール20の駆動制御基板19を使用してもよい。
液晶パネル17を観察するときは、駆動制御装置41によって液晶パネル17を動作させて全黒表示とすることが好ましい。全黒表示にすることによって、輝点欠陥以外の部分は黒表示となる一方で、輝点欠陥の部分では観察用光源43から出射された観察光が漏れて輝点となり、輝点欠陥として判別がしやすくなる。
以上のように構成される輝点欠陥黒化装置50を用いて液晶表示装置の輝点欠陥を黒点化する方法について、以下に詳しく説明する。
まず、液晶パネル17をXYテーブル42上に設置する。ここで、観察用光源43から出射される観察光が液晶パネル17に照射されるように、液晶パネル17は、XYテーブル42の透過穴42aの上に設置される。
次に、駆動制御装置41と液晶パネル17を接続し、駆動制御装置41から液晶パネル17へ全黒表示の信号を送って液晶パネル17を全黒表示状態とする。そして、観察用光源43から観察光を液晶パネル17へ照射し、液晶パネル17から漏れる光をカメラ37で受光して液晶パネル17の輝点欠陥を観察する。
なお、黒化処理の前工程における検査工程によって輝点欠陥を発見し、発見された輝点欠陥の場所(アドレス)を輝点欠陥黒化装置50に転送することで輝点欠陥画素の位置決めを効率的に実施することも可能である。
XYテーブル42の移動によって液晶パネル17の輝点欠陥を有する画素にレーザ照射できるように位置決めしたあと、輝点欠陥を有する画素にレーザ光を照射する。このとき、レーザ発信器32から出射されたレーザ光は、調整光学系34、可変開口装置35、レーザ加工光学系36を通して整形、集光され、輝点欠陥を有する画素よりも小さいスポットサイズで液晶パネル17の輝点欠陥を有する画素に対して照射される。
次に、輝点欠陥を有する画素内でレーザ光を走査する工程について説明する。図3は、黒点化加工時のレーザ光の走査経路の一例を示す上面図である。
液晶パネル17の画素は、たとえば一辺が数十μm〜数百μmの矩形や矩形に近い形状である。図3に示すように、輝点欠陥を黒点化する工程においては、輝点欠陥を有する画素60よりも小さいスポットサイズ、たとえば数μmのスポットサイズで輝点欠陥を有する画素60全体を隙間なく黒化するために、レーザ光を画素内で走査する必要がある。レーザ光の走査は、輝点欠陥黒化装置50のXYテーブル42にカラーフィルタ基板15を上にして液晶パネル17を設置し、XYテーブル42を移動させることによって行う。なお、本実施の形態では、XYテーブル42を移動させることによりレーザ光を走査する構成を用いて説明するが、液晶パネル17とレーザ光とが相対的に移動すればよいので、レーザ光を出射するレーザ照射・観察部30をXY方向に移動させる構成としても差し支えない。
図3に示したレーザ光の走査経路について説明する。黒化対象の輝点欠陥画素60において、最初にレーザ光を照射する加工開始点62は、輝点欠陥画素60に隣接するブラックマトリクス7上にある。加工開始点62から照射を開始したレーザ光は、図3に示される走査経路61に沿って、カラーフィルタ色材6が形成された輝点欠陥画素60内をジグザグ状に隙間なく走査され、輝点欠陥画素60における加工開始点62の対角となる角部の加工終了点63に到達した時点で走査を終了する。
ここで、レーザ光の照射によって黒化する対象はカラーフィルタ色材6であり、レーザ光のエネルギーはカラーフィルタ色材6を変質させて黒化するために最適な値(たとえばレーザ出力10mW)に設定している。しかし、本発明の実施の形態と異なり、例えば図4のように、レーザ光の加工開始点64をブラックマトリクス7上ではなく、ブラックマトリクス7から離れたカラーフィルタ色材6上とした場合は、加工開始点64近傍でオーバーコート層4に亀裂が発生することがある。加工開始点64近傍を走査型電子顕微鏡(SEM)や集束イオンビーム(FIB)システムを用いて観察すると、オーバーコート層4に生じた亀裂はオーバーコート層4の下部に形成されたカラーフィルタ色材6からオーバーコート層4の表面まで貫通しており、図5の写真に示されるように、オーバーコート層4の亀裂70を通ってカラーフィルタ色材6の黒化物の一部が噴出し、亀裂70の周辺に付着している様子が見られた。具体的には、図5中に破線の楕円で示した部分が、亀裂70から噴出した黒化物である噴出物71が付着した領域である。このような亀裂および黒化物の噴出が生じると、液晶中に不純物イオンが拡散し、電圧保持率が低下して表示不良が発生したり、噴出物がカラーフィルタ基板15あるいはTFT基板16の配向膜5、13上に付着することにより液晶配向の乱れを引き起こして表示不良を発生させることがある。以上のような亀裂の発生は、レーザ光の照射時にカラーフィルタ色材6、さらにはオーバーコート層4が急加熱されて急激に熱膨張するために、薄膜に対して応力が働くことが一因と考えられるが、出願人らは、レーザ光の照射を開始する位置である加工開始点62をブラックマトリクス7上とすることでオーバーコート層4の亀裂発生が抑制できることを見出した。
次に、亀裂発生に関して比較実験を行った結果を用いて、本発明の効果について説明する。
図6は、レーザ光照射の開始位置を説明する図であり、図6(a)は図4の加工開始点64近傍を拡大した図である。図6(a)において、64aは加工開始点64におけるビームスポットを示し、64bはレーザ光の走査方向を示す。加工開始点におけるビームスポット64aは輝点欠陥画素60に形成されたカラーフィルタ色材6の上に照射されている。図6(b)においては、加工開始点におけるビームスポット65aがカラーフィルタ色材6の端部に非常に近い位置に照射され、ビームスポット65aの一部がブラックマトリクス7上にまたがっていることを示している。図6(c)は本発明の実施の形態1における加工開始点62を示しており、加工開始点におけるビームスポット62aは完全にブラックマトリクス7上に照射され、カラーフィルタ色材6上にまたがることはない。つまり、レーザ光の照射方向から液晶パネル17を見たときに、ビームスポット62aは完全にブラックマトリクス7内に入っている。
以上のようにレーザ光の加工開始点の位置を変えて、レーザ出力8mWないし10mWの連続波発振でレーザ照射を行い、加工開始点近傍での亀裂の発生状態を観察した。
表1は、レーザ光の加工開始位置を変えてレーザ照射を行ったときの、加工開始点近傍での亀裂の観察結果を示す表であり、比較実験における観察結果を示す表である。図6(a)のように加工開始点がカラーフィルタ色材6上にあるときは、亀裂の発生は4画素中3画素で亀裂発生率は75%、図6(b)のように加工開始点がカラーフィルタ色材6とブラックマトリクス7にまたがっているときは、亀裂の発生は28画素中11画素で亀裂発生率は39%であった。これに対して、図6(c)のように加工開始点がブラックマトリクス7上である本発明の実施の形態1の場合には、亀裂の発生は4画素中0画素で亀裂発生率は0%であった。以上の観察結果から、レーザ光の加工開始位置をブラックマトリクス7上にすることで、加工開始点近傍でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制できることが明らかになった。また、図6(b)のように加工開始点がカラーフィルタ色材6とブラックマトリクス7にまたがる場合は、図6(a)のように加工開始点がブラックマトリクス7から離れたカラーフィルタ色材6上にある場合より亀裂発生率が低いものの、本実施の形態1の場合と比べると亀裂の抑制効果は大きくないことがわかった。
表2は、別の液晶パネルを用いて亀裂発生状況を観察した結果を表す表であり、比較実験における観察結果を示す表である。表2の実験では、レーザ光の照射は図6(a)のようにブラックマトリクス7から離れたカラーフィルタ色材6上から開始された。レーザ照射した画素は全部で15画素であり、そのうち加工開始点付近のオーバーコート層で亀裂が発生した画素は13画素であったことから、表2に示されるように全体としての亀裂発生率は87%であった。表2では、さらに保持不良および配向不良の発生と亀裂発生との関係を示している。亀裂が発生しなかった2画素については保持不良も配向不良も発生していないが、亀裂が発生した画素では保持不良や配向不良といった表示不良が多発している。逆に、表示不良発生画素から見ると、保持不良発生画素では7画素中7画素で亀裂が発生し、配向不良発生画素では13画素中13画素で亀裂が発生している。表2に示される実験結果から、オーバーコート層の亀裂発生と表示不良の発生には大きな相関があることがわかり、亀裂発生を抑えることで表示不良の発生も低減できると考えられる。
なお、上記の実験では図3のような走査経路61に沿ってレーザ照射を行っているが、走査経路はこれに限るものではなく、たとえば図7のような走査経路66であってもかまわない。図7の走査経路66は、画素60の長辺方向(長手方向)に隣接するブラックマトリクス7上に加工開始点62があり、画素60の短辺方向(短手方向)に沿う方向にレーザ光を走査するように構成されている。
以上のように、実施の形態1によれば、輝点欠陥画素をレーザ光を照射することによって黒点化するときに、レーザ光の加工開始位置を輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上にすることにより、加工開始点近傍でオーバーコート層に発生する亀裂を抑制し、レーザ照射後に新たに発生する表示不良を低減することができる。
より具体的には、実施の形態1の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、画素上に形成されるカラーフィルタ色材とカラーフィルタ色材を取り囲むように形成されるブラックマトリクスとを含むカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置において、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくともカラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、輝点欠陥画素に向けて、輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光を照射する工程と、レーザ光を液晶表示装置に対して相対的に移動させて、輝点欠陥画素内でレーザ光を走査する工程とを含み、レーザ光の照射開始位置は輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上であることを特徴とする。このように、レーザ光照射の開始位置をブラックマトリクス上にすることで、照射開始位置近傍でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制することができる。
また、実施の形態1の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、レーザ光のスポットサイズはブラックマトリクスの幅よりも小さく、レーザ光の照射開始位置ではレーザスポット全体が完全にブラックマトリクス内に入っていることを特徴とする。このように、レーザ光照射の開始位置をブラックマトリクス上にし、レーザスポットが完全にブラックマトリクス内に入っていることにより、より効果的に照射開始位置近傍でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制することができる。
実施の形態2.
本発明の実施の形態2における液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、実施の形態1で示した輝点欠陥修正方法と基本的には同じであるが、レーザ光の走査方向が転換する折り返し部の走査経路が異なることを特徴としている。以下、図8を用いて本発明の実施の形態2における輝点欠陥修正方法について説明する。なお、上述の特徴点と異なる他は、実施の形態1と同様の構成である。そのため、以下に説明する本発明の実施の形態2に特有の構成とこれに起因する効果の他に、実施の形態1と同様の効果も奏する。
本発明の実施の形態2における液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、実施の形態1で示した輝点欠陥修正方法と基本的には同じであるが、レーザ光の走査方向が転換する折り返し部の走査経路が異なることを特徴としている。以下、図8を用いて本発明の実施の形態2における輝点欠陥修正方法について説明する。なお、上述の特徴点と異なる他は、実施の形態1と同様の構成である。そのため、以下に説明する本発明の実施の形態2に特有の構成とこれに起因する効果の他に、実施の形態1と同様の効果も奏する。
図8は、本発明の実施の形態2における黒点化加工時のレーザ光の走査経路を示す上面図である。
図8に示したレーザ光の走査経路について説明する。黒化対象の輝点欠陥画素において、最初にレーザ光を照射する加工開始点62は、輝点欠陥画素60に隣接するブラックマトリクス7上にある。加工開始点62から照射を開始したレーザ光は、図8に示される走査経路67に沿って、カラーフィルタ色材6が形成された輝点欠陥画素60内をジグザグ状に連続して隙間なく走査され、輝点欠陥画素60における加工開始点62の対角となる角部の加工終了点63に到達した時点で走査を終了する。この走査経路67において、レーザ光照射開始後、レーザ光は輝点欠陥画素60の一辺に沿ってカラーフィルタ色材6上を走査されるが、レーザ光が方向転換する折り返し部67a(図8中に破線の楕円で示した部分)では輝点欠陥画素60に隣接するブラックマトリクス7上を通って走査される。言い換えると、レーザ光の走査方向は、輝点欠陥画素60に隣接するブラックマトリクス7上で転換する。また、折り返し部67aでは、ビームスポットは完全にブラックマトリクス7上に照射され、カラーフィルタ色材6上にまたがることはない。
なお、折り返し部67aとは、カラーフィルタ色材6上におけるレーザ光の走査方向を転換するための走査経路を指すものであり、走査方向を90度転換する1点を指すものではない。
ここで、レーザ光の照射によって黒化する対象はカラーフィルタ色材6であり、レーザ光のエネルギーはカラーフィルタ色材6を変質させて黒化するために最適な値(たとえばレーザ出力10mW)に設定している。したがって、レーザ光が一定の速度で照射されているときは黒化が進行するが、レーザ光が方向転換する折り返し部が例えば図4の走査経路のようにカラーフィルタ色材6上にある場合は、折り返し部近傍でオーバーコート層4に亀裂が発生し、配向異常などの表示不良を引き起こすことがあった。これは、レーザ光の移動が一瞬停止して、あるいは速度を落として方向転換するため照射時間が長くなり、最適な値を超えたエネルギーが照射されることが一因と考えられるが、出願人らは、図8の走査経路67のようにレーザ光の折り返し部67aの位置をブラックマトリクス7上にすることでオーバーコート層4の亀裂発生を抑制できることを見出した。
以上のように、実施の形態2によれば、輝点欠陥画素をレーザ光を照射することによって黒点化するときに、レーザ光が方向転換する折り返し部ではレーザ光を輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上を通って走査することにより、折り返し部近傍でオーバーコート層に発生する亀裂を抑制し、レーザ照射後に新たに発生する表示不良を低減することができる。
より具体的には、実施の形態2の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、画素上に形成されるカラーフィルタ色材とカラーフィルタ色材を取り囲むように形成されるブラックマトリクスとを含むカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置において、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくともカラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、輝点欠陥画素に向けて、輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズでレーザ光を照射する工程と、レーザ光を液晶表示装置に対して相対的に移動させて、輝点欠陥画素内でレーザ光を走査する工程とを含み、レーザ光が方向転換する折り返し部は輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上を通って走査されることを特徴とする。このように、レーザ光が方向転換する折り返し部をブラックマトリクス上にすることにより、折り返し部近傍でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制することができる。
また、実施の形態2の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、レーザ光のスポットサイズはブラックマトリクスの幅よりも小さく、レーザ光が方向転換する折り返し部ではレーザスポット全体が完全にブラックマトリクス内に入っていることを特徴とする。このように、レーザ光照射が方向転換する折り返し部をブラックマトリクス上にし、レーザスポットが完全にブラックマトリクス内に入っていることにより、より効果的に折り返し部近傍でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制することができる。
実施の形態3.
本発明の実施の形態3における液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、実施の形態2で示した輝点欠陥修正方法と基本的には同じであるが、レーザ光が方向転換する折り返し部におけるレーザ照射のオンオフの切り替え動作が異なることを特徴としている。以下、図9を用いて本発明の実施の形態3における輝点欠陥修正方法について説明する。なお、上述の特徴点と異なる他は、実施の形態2と同様の構成である。そのため、以下に説明する本発明の実施の形態3に特有の構成とこれに起因する効果の他に、実施の形態2と同様の効果も奏する。
図9は、本発明の実施の形態3における黒点化加工時のレーザ照射経路の折り返し部を拡大した図である。
本発明の実施の形態3における液晶表示装置の輝点欠陥修正方法は、実施の形態2で示した輝点欠陥修正方法と基本的には同じであるが、レーザ光が方向転換する折り返し部におけるレーザ照射のオンオフの切り替え動作が異なることを特徴としている。以下、図9を用いて本発明の実施の形態3における輝点欠陥修正方法について説明する。なお、上述の特徴点と異なる他は、実施の形態2と同様の構成である。そのため、以下に説明する本発明の実施の形態3に特有の構成とこれに起因する効果の他に、実施の形態2と同様の効果も奏する。
図9は、本発明の実施の形態3における黒点化加工時のレーザ照射経路の折り返し部を拡大した図である。
実施の形態3において、レーザ光の走査経路68は実施の形態2の走査経路67と同じである。実施の形態2においては、加工開始点62でレーザ照射を開始してから加工終了点63まで連続してレーザ照射されるが、実施の形態3においては、折り返し部68aでレーザ照射のオンとオフの切り替えを行う。
実施の形態3におけるレーザ光の走査について詳しく説明する。輝点欠陥画素60に隣接するブラックマトリクス7上の加工開始点62から照射を開始されたレーザ光は、輝点欠陥画素60の一辺に沿ってカラーフィルタ色材6上を走査され、加工開始点62の反対側のブラックマトリクス7上に到達する。そのまま照射を続け、レーザ光のビームスポットが完全にブラックマトリクス7上に入った位置、例えば点Pで走査速度は落とさないままレーザ照射をオフする。点Pを過ぎてレーザ照射がオフの状態で走査経路の方向を変え、ブラックマトリクス7上の例えば点Qでレーザ照射をオンする。その後、一定の速度のままカラーフィルタ色材6上へのレーザ照射を続ける。図9では最初の折り返し部68a(図9中の破線の楕円で示した部分)の周辺のみを示しているが、加工終了まで全ての折り返し部で同様の走査を行う。
これは、折り返し部でレーザ照射を続けながら方向転換することでレーザ照射中に速度が落ちることを避けるための方法であるが、折り返し部でのレーザ照射のオンオフの切り替えを例えば図4の走査経路61の折り返し部でのようにカラーフィルタ色材6上で行うと、方向転換後レーザ照射を再度オンするときは図4の加工開始点64と同じ現象が起こる。すなわち、実施の形態1で説明したように、カラーフィルタ色材6上でレーザ照射を開始するとオーバーコート層4に亀裂が発生し、新たな表示不良を引き起こすことになる。したがって、走査経路の折り返し部でレーザ照射をオンオフする場合も、カラーフィルタ色材6上ではなくブラックマトリクス7上で行うことが重要である。
以上のように、実施の形態3によれば、輝点欠陥画素をレーザ光を照射することによって黒点化するときに、レーザ光が方向転換する折り返し部でレーザ照射のオンとオフの切り替えを行う場合は、輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス上でオンオフの切り替えを行うことにより、折り返し部近傍でオーバーコート層に発生する亀裂を抑制し、レーザ照射後に新たに発生する表示不良を低減することができる。
より具体的には、レーザ光が方向転換する折り返し部において、ブラックマトリクス上でレーザ照射をオフし、走査経路の方向を変え、ブラックマトリクス上でレーザ照射を再度オンにしてレーザ光を走査することを特徴とする。このように、レーザ光が方向転換する折り返し部において、レーザ照射のオンオフの切り替えをブラックマトリクス上で行うことにより、折り返し部近傍でのオーバーコート層の亀裂発生を抑制することができる。
なお、上述した実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと解されるべきである。本発明の範囲は、上述した実施の形態の範囲ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
1 液晶、2,8 ガラス基板、3,9 偏光板、4 オーバーコート層、5,13 配向膜、6 カラーフィルタ色材、7 ブラックマトリクス、10 TFTアレイ、14 カラーフィルタ、15 カラーフィルタ基板、16 TFT基板、17 液晶パネル、18 バックライト、19 駆動制御基板、20 液晶モジュール、30 レーザ照射・観察部、31 レーザ駆動電源、32 レーザ発信器、33 Zステージ、34 調整光学系、35 可変開口装置、36 レーザ加工光学系、37 カメラ、40 液晶パネル設置部、41 駆動制御装置、42 XYテーブル、43 観察用光源、50 輝点欠陥黒化装置、60 輝点欠陥画素、61,66,67,68 走査経路、62,64 加工開始点、63 加工終了点、62a,64a,65a ビームスポット、67a,68a 折り返し部。
Claims (6)
- 画素上に形成されるカラーフィルタ色材と前記カラーフィルタ色材を取り囲むように形成されるブラックマトリクスとを含むカラーフィルタ基板と、
薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記カラーフィルタ基板と前記薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置の輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、
前記輝点欠陥画素に向けて、前記輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズで前記レーザ光の照射を開始する開始工程と、
前記レーザ光と前記液晶表示装置とを相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内で前記レーザ光を走査する走査工程とを含み、
前記レーザ光の照射は、前記輝点欠陥画素に隣接する前記ブラックマトリクス上で開始することを特徴とする液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。 - レーザ光の照射開始位置では、レーザスポット全体が完全にブラックマトリクス内に入ることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
- 画素上に形成されるカラーフィルタ色材と前記カラーフィルタ色材を取り囲むように形成されるブラックマトリクスとを含むカラーフィルタ基板と、
薄膜トランジスタが配列した薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記カラーフィルタ基板と前記薄膜トランジスタアレイ基板との間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置の輝点欠陥画素に向けてレーザ光を照射し、少なくとも前記カラーフィルタ基板の一部を変質させて光透過率を低下させるようにした液晶表示装置の輝点欠陥修正方法であって、
前記輝点欠陥画素に向けて、前記輝点欠陥画素よりも小さいスポットサイズで前記レーザ光の照射を開始する開始工程と、
前記レーザ光と前記液晶表示装置とを相対的に移動させて、前記輝点欠陥画素内で前記レーザ光を走査する走査工程とを含み、
前記レーザ光の走査方向は、前記輝点欠陥画素に隣接する前記ブラックマトリクス上で転換することを特徴とする液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。 - レーザ光の走査方向が転換する折り返し部では、レーザスポット全体が完全にブラックマトリクス内に入ることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
- ブラックマトリクス上でレーザ光の照射をオフして走査経路の方向を転換した後、前記ブラックマトリクス上で前記レーザ光の照射を再度オンすることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
- 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の輝点欠陥修正方法を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005275135A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Toshiba Corp | 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 |
US20090141231A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Lg Display Co., Ltd. | Method for repairing defective cell of liquid crystal panel |
JP2011017810A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-27 | Hyper Photon Systens Inc | 輝点消去装置および輝点消去方法 |
JP2011504599A (ja) * | 2007-06-18 | 2011-02-10 | コーウィン ディーエスティー カンパニー リミテッド | 表示装置の揮点不良修理方法 |
JP2014102445A (ja) * | 2012-11-21 | 2014-06-05 | V Technology Co Ltd | 液晶表示パネルの輝点欠陥除去方法及び装置 |
-
2013
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005275135A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Toshiba Corp | 液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置 |
JP2011504599A (ja) * | 2007-06-18 | 2011-02-10 | コーウィン ディーエスティー カンパニー リミテッド | 表示装置の揮点不良修理方法 |
US20090141231A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Lg Display Co., Ltd. | Method for repairing defective cell of liquid crystal panel |
JP2011017810A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-27 | Hyper Photon Systens Inc | 輝点消去装置および輝点消去方法 |
JP2014102445A (ja) * | 2012-11-21 | 2014-06-05 | V Technology Co Ltd | 液晶表示パネルの輝点欠陥除去方法及び装置 |
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