JP5773053B1 - 光配向装置及び光配向方法 - Google Patents
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Abstract
Description
光配向は、光配向膜用の膜(以下、膜材)に対して偏光光を照射することにより行われる。膜材は、例えばポリイミドのような樹脂製であり、所望の方向(配向させるべき方向)に偏光させた偏光光が膜材に照射される。所定の波長の偏光光の照射により、膜材の分子構造(例えば側鎖)が偏光光の向きに揃った状態となり、光配向膜が得られる。
このうち、特許文献1には、膜材が設けられている液晶表示素子用の基板をワークとしてステージに配置し、ステージを移動させて基板が照射領域を通過するようにし、これにより光配向を行う技術が開示されている。同文献の装置は、二つのステージを使用しており、交互に照射領域を通過させながら偏光光照射をしており、このため、タクトタイムの短縮による高い生産性が実現できるとされている。
この出願の発明は、上記特許文献1に開示されたタクトタイム短縮による高生産性プロセスの実現を考慮に入れながら、さらに生産性を向上させたり、光配向処理の品質をさらに高めたりすることを解決課題とするものである。
基板が載置されるステージと、
照射領域を通過するようステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射されるようにするステージ移動機構とを備えており、
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており、
ステージ移動機構は、照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位置から第一のステージを照射領域に移動させるものであるとともに、照射領域の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域に移動させるものであり、
ステージ移動機構は、第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第一のステージを一方の側に戻して第一の基板回収位置に位置させるとともに、第二のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第二のステージを他方の側に戻して第二の基板回収位置に位置させるものであり、
第一の基板搭載位置又は第一の基板回収位置に位置した第一のステージと照射領域の間には、第二のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第一の退避スペースが確保され、第二の基板搭載位置又は第二の基板回収位置に位置した第二のステージと照射領域の間には、第一のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第二の退避スペースが確保されており、
ステージ移動機構を制御する制御ユニットが設けられており、
制御ユニットにおいて、基板が照射領域を通過する際の速度として設定通過速度が設定されており、
制御ユニットは、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第一の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行うものであるとともに、第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第二の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行うものであり、
第一第二のステージは、移動の際に基板を真空吸着して保持するものであり、
制御ユニットは、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動及び第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動において、移動の速度を毎秒300mm以上600mm以下とする制御を行うものであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記設定通過速度は一定の速度として設定されたものであり、
前記制御ユニットは、前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの往路移動において、前記第一のステージ上の基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達するまでに前記第一のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記一方の側に戻すために減速する制御を行うものであり、
前記制御ユニットは、前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの往路移動において、前記第二のステージ上の基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達するまでに前記第二のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記他方の側に戻すために減速する制御を行うものであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項3記載の発明は、請求項2の構成において、前記照射ユニットは、前記第一第二の各ステージが往路移動する際と復路移動する際の双方において前記各ステージ上の基板に偏光光を照射するものであり、
前記制御ユニットにおいて、第一のステージが往路移動する際の設定通過速度と第一のステージが復路移動する際の設定通過速度として同じ速度が設定されており、第二のステージが往路移動する際の設定通過速度と第二のステージが復路移動する際の設定通過速度として同じ速度が設定されているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項4記載の発明は、前記請求項3の構成であって、前記制御ユニットにおいて、
前記第一のステージについての前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記照射領域から前記第一の基板回収位置までの移動の速度として、同じ速度が設定されており、
前記第二のステージについての前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記照射領域から前記第二の基板回収位置までの移動の速度として、同じ速度が設定されており、
前記第一のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第一のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度から加速とは、同じ勾配となるよう設定されており、
前記第二のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第二のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度から加速とは、同じ勾配となるよう設定されているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項5記載の発明は、前記請求項4の構成であって、前記制御ユニットにおいて、
前記第一のステージについての前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記照射領域から前記第一の基板回収位置までの移動の速度として、同じ速度が設定されており、
前記第二のステージについての前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記照射領域から前記第二の基板回収位置までの移動の速度として、同じ速度が設定されており、
前記第一のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第一のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配となるよう設定されており、
前記第二のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第二のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配となるよう設定されているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項6記載の発明は、設定された照射領域に所定の向きに偏光している偏光光を照射する照射工程と、
第一第二の二つのステージにそれぞれ基板を載置する搭載工程と、
照射領域を各ステージが交互に通過するようステージ移動機構により各ステージを移動させることで各ステージ上の基板に偏光光が照射されるようにする移動工程と、
偏光光が照射された各基板を各ステージから取り去る回収工程と
を備えており、
移動工程において、照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位置から第一のステージは照射領域に移動し、照射領域の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージは照射領域に移動し、
移動工程において、第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第一のステージは一方の側に戻されて第一の基板回収位置に位置し、第二のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第二のステージは他方の側に戻されて第二の基板回収位置に位置し、
第一の基板搭載位置又は第一の基板回収位置に位置した第一のステージと照射領域の間には、第二のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第一の退避スペースが確保され、第二の基板搭載位置又は第二の基板回収位置に位置した第二のステージと照射領域の間には、第一のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第二の退避スペースが確保されており、
基板が照射領域を通過する際の速度として設定通過速度が設定されており、
移動工程において、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第一の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行い、第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第二の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行う方法であり、
移動工程は、第一第二の各ステージが基板を真空吸着して保持した状態で移動を行う工程であり、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動の速度と、第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動の速度は、毎秒300mm以上600mm以下であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項7記載の発明は、前記請求項6の構成において、前記設定通過速度は一定の速度として設定されたものであり、
前記移動工程において行われる制御は、前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの前記第一のステージの往路移動において、前記第一のステージ上の基板の移動方向前方の縁が照射領域に達するまでに前記第一のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記一方の側に戻すための減速を行う制御であり、
前記移動工程において行われる制御は、前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの前記第二のステージの往路移動において、前記第二のステージ上の基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達するまでの間に前記第二のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記他方の側に戻すための減速を行う制御であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項8記載の発明は、前記請求項7の構成において、前記移動工程は、前記第一第二の各ステージが往路移動する際と復路移動する際とで各ステージ上の基板に偏光光が照射されるようにする工程であり、
前記移動工程において、前記第一のステージが往路移動する際の設定通過速度と前記第一のステージが復路移動する際の設定通過速度は同じ速度であり、前記第二のステージが往路移動する際の設定通過速度と前記第二のステージが復路移動する際の設定通過速度は同じ速度であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項9記載の発明は、前記請求項8の構成において、前記移動工程は、前記第一のステージが、前記照射領域を通過した後に一方の側に戻るために第一の反転位置で反転し、前記第二のステージが、前記照射領域を通過した後に他方の側に戻るために第二の反転位置で反転する工程であり、
前記第一のステージが前記照射領域を通過した後に第一の反転位置に達する際の減速と、前記第一のステージが第一の反転位置で反転して前記照射領域に達する際の加速とは、同じ勾配であり、
前記第二のステージが前記照射領域を通過した後に第二の反転位置に達する際の減速と、前記第二のステージが第二の反転位置で反転して前記照射領域に達する際の加速とは、同じ勾配であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項10記載の発明は、前記請求項9の構成であって、前記移動工程において、
前記第一のステージの前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記第一のステージの前記照射領域から前記第一の基板回収位置までの移動の速度は、同じ速度であり、
前記第二のステージの前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記第二のステージの前記照射領域から前記第二の基板回収位置までの移動の速度は、同じ速度であり、
前記第一のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第一のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配であり、
前記第二のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第二のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配であるという構成を有する。
また、請求項2又は7記載の発明によれば、上記効果に加え、基板の表面領域内の各点について照射領域を通過する際の速度が常に一定に維持されるので、光配向処理の面内均一性を容易な制御で向上させることができる。
また、請求項3、4、5、8、9又は10記載の発明によれば、上記効果に加え、復路でも偏光光照射がされるのでこの点で生産性が向上する。
図1は、第一の実施形態に係る光配向装置の斜視概略図である。図1に示す光配向装置は、設定された照射領域Rに偏光光を照射する照射ユニット1と、基板Sが載置されるステージ21,22と、照射領域Rにステージ21,22を移動させることでステージ21,22上の液晶基板Sに偏光光が照射されるようにするステージ移動機構3とを備えている。
ステージ移動機構3は、上記照射領域Rを通過するようにしてステージ21,22を移動させる機構である。この実施形態では、ステージ21,22は水平な姿勢で配置され、移動方向は水平方向である。
光源11には、棒状のランプが使用されている。本実施形態では、紫外域の光によって光配向を行うので、高圧水銀ランプや水銀に他の金属を加えたメタルハライドランプ等が使用される。波長域は、例えば200〜400nm程度である。紫外域の必要な波長の光を放射するLEDを複数並べて長い照射パターンを得るようにしても良い。
偏光素子14は、出射される偏光光の偏光軸の向きが、照射領域Rを通過する基板Sの移動方向(実際にはリニアガイド31の方向)を基準にして所定の向きとなるよう配置される。これは、基板Sに対して所定の方向の偏光光を照射することで所定の方向に光配向がされるようにするものであることに他ならない。
また、偏光素子14は、ランプハウス13とは別のユニット(偏光素子ユニット)としてランプハウス13に対して装着される構造が採用されることもある。
なお、各ステージ21,22は、上面に基板Sを真空吸着する不図示の真空吸着機構を備えている。真空吸着機構は、各ステージ21,22の上面に形成された多数の吸着孔から吸引して(負圧を形成して)基板Sが動かないように保持する機構である。
基板Sの通過速度は、光配向処理に必要な積算照射量との関係で設定される。基板S上の一点における積算照射量は、照射領域Rにおける偏光光の照度をI、通過速度(厳密には平均通過速度)をV、移動方向で見た照射領域Rの長さをLとしたとき、積算照射量Qは、Q=I・L/Vで表される。したがって、必要な積算照射量Qとの関係で通過速度Vを予め算出して設定する。
図3(1)(2)に示すように、基板搭載回収位置から照射領域Rに向かう際、第一のステージ21は、設定搬送速度で移動する。そして、照射領域Rの手前で減速を始め、照射領域R通過中は、一定の設定通過速度で移動する。
制御ユニット4は、PLCのように演算処理部41や記憶部42を含んでおり、シーケンス制御プログラムが実装されている。シーケンス制御プログラムは、上記のような速度制御を含むシーケンスを実行するものとなっている。図7は、制御ユニット4における各ステージ21,22の移動速度のシーケンス制御について示した概略図である。
まず、各ステージ21,22内には、基板Sの載置を検出するセンサ(以下、基板センサ)71が設けられている。また、ステージ移動機構3には、第一のステージ21が第一の基板搭載回収位置に位置したのを検出するセンサ(以下、第一のロード位置センサ)72と、第一のステージ21が反転位置に位置したのを検出するセンサ(以下、第一の反転位置センサ)73と、第二のステージ22が第二の基板搭載回収位置に位置したのを検出するセンサ(以下、第二のロード位置センサ)74と、第二のステージ22が反転位置に位置したのを検出するセンサ(以下、第二の反転位置センサ)75とが配置されている。これらセンサ71〜75の出力は、制御ユニット4に送られる。各センサ71〜75は、近接センサ、リミットスイッチのような機械式センサ、又はフォトセンサ等から適宜選択して用いることができる。
図8に示すように、第一のステージ21は、固定ベース20Aと、固定ベース20A上の可動ベース20B等から構成されている。ステージ移動機構3は、直接的には固定ベース20Aを移動させるものとなっている。
装置の稼働開始の初期状態では、図9(1)に示すように、第一のステージ21は第一の基板搭載回収位置にあり、第二のステージ22は第二の基板搭載回収位置にある。この状態で、不図示のロボットが基板Sをまず第一のステージ21に載置する。第一のステージ21内の基板センサ71が基板Sの載置を検出してこの信号が制御ユニット4に送られると、シーケンスプログラムは、第一のステージ21上の基板S用の基板アライナー6を動作させる。この結果、可動ベース20BがXYθ方向に移動して基板Sの位置及び姿勢が所定のものとなる。
第一の実施形態では、光配向処理の面内均一性を向上させるものとして、基板Sの表面の各点が照射領域Rを通過する際、各点において一定の設定通過速度が維持されるよう制御したが、光配向処理の面内均一性向上のための構成としてこれ以外にも幾つか考えられ、その一例が図12に示されている。図12に示す制御では、照射領域Rを通過中、往路では一定のブレーキ(減速度)で減速しながら各ステージ21,22が移動し、復路では、往路での速度変化に対して対称な速度変化になるよう加速しながら照射領域Rを移動させる制御となっている。
図12において、グラフは、基板Sの表面上の各点における速度の推移(移動経路上の推移)を示すものとなっている。実線が移動方向中央での速度の推移、一点鎖線が移動方向の一方の側の縁での速度の推移、二点鎖線が移動方向他方の側の縁での速度の推移を示す。
11 光源
14 偏光素子
21 第一のステージ
22 第二のステージ
3 ステージ移動機構
31 リニアガイド
32 リニアモータステージ
33 プラテン
4 制御ユニット
6 基板アライナー
S 基板
R 照射領域
Claims (10)
- 設定された照射領域に所定の向きに偏光している偏光光を照射する照射ユニットと、
基板が載置されるステージと、
照射領域を通過するようステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射されるようにするステージ移動機構とを備えており、
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており、
ステージ移動機構は、照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位置から第一のステージを照射領域に移動させるものであるとともに、照射領域の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域に移動させるものであり、
ステージ移動機構は、第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第一のステージを一方の側に戻して第一の基板回収位置に位置させるとともに、第二のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第二のステージを他方の側に戻して第二の基板回収位置に位置させるものであり、
第一の基板搭載位置又は第一の基板回収位置に位置した第一のステージと照射領域の間には、第二のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第一の退避スペースが確保され、第二の基板搭載位置又は第二の基板回収位置に位置した第二のステージと照射領域の間には、第一のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第二の退避スペースが確保されており、
ステージ移動機構を制御する制御ユニットが設けられており、
制御ユニットにおいて、基板が照射領域を通過する際の速度として設定通過速度が設定されており、
制御ユニットは、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第一の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行うものであるとともに、第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第二の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行うものであり、
第一第二のステージは、移動の際に基板を真空吸着して保持するものであり、
制御ユニットは、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動及び第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動において、移動の速度を毎秒300mm以上600mm以下とする制御を行うものであることを特徴とする光配向装置。 - 前記設定通過速度は一定の速度として設定されたものであり、
前記制御ユニットは、前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの往路移動において、前記第一のステージ上の基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達するまでに前記第一のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記一方の側に戻すために減速する制御を行うものであり、
前記制御ユニットは、前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの往路移動において、前記第二のステージ上の基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達するまでに前記第二のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記他方の側に戻すために減速する制御を行うものであることを特徴とする請求項1記載の光配向装置。 - 前記照射ユニットは、前記第一第二の各ステージが往路移動する際と復路移動する際の双方において前記各ステージ上の基板に偏光光を照射するものであり、
前記制御ユニットにおいて、前記第一のステージが往路移動する際の設定通過速度と前記第一のステージが復路移動する際の設定通過速度として同じ速度が設定されており、前記第二のステージが往路移動する際の設定通過速度と前記第二のステージが復路移動する際の設定通過速度として同じ速度が設定されていることを特徴とする請求項2記載の光配向装置。 - 前記制御ユニットにおいて、前記第一のステージが照射領域を通過した後に一方の側に戻すために反転する位置である第一の反転位置と、前記第二のステージが照射領域を通過した後に他方の側に戻すために反転する位置である第二の反転位置とが設定されており、
前記制御ユニットにおいて、前記第一のステージが前記照射領域を通過した後に第一の反転位置に達する際の減速と、前記第一のステージが第一の反転位置で反転して前記照射領域に達する際の加速とは、同じ勾配になるよう設定されており、
前記制御ユニットにおいて、前記第二のステージが前記照射領域を通過した後に第二の反転位置に達する際の減速と、前記第二のステージが第二の反転位置で反転して前記照射領域に達する際の加速とは、同じ勾配になるよう設定されていることを特徴とする請求項3記載の光配向装置。 - 前記制御ユニットにおいて、
前記第一のステージについての前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記照射領域から前記第一の基板回収位置までの移動の速度として、同じ速度が設定されており、
前記第二のステージについての前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記照射領域から前記第二の基板回収位置までの移動の速度として、同じ速度が設定されており、
前記第一のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第一のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配となるよう設定されており、
前記第二のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第二のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配となるよう設定されていることを特徴とする請求項4記載の光配向装置。 - 設定された照射領域に所定の向きに偏光している偏光光を照射する照射工程と、
第一第二の二つのステージにそれぞれ基板を載置する搭載工程と、
照射領域を各ステージが交互に通過するようステージ移動機構により各ステージを移動させることで各ステージ上の基板に偏光光が照射されるようにする移動工程と、
偏光光が照射された各基板を各ステージから取り去る回収工程と
を備えており、
移動工程において、照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位置から第一のステージは照射領域に移動し、照射領域の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージは照射領域に移動し、
移動工程において、第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第一のステージは一方の側に戻されて第一の基板回収位置に位置し、第二のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第二のステージは他方の側に戻されて第二の基板回収位置に位置し、
第一の基板搭載位置又は第一の基板回収位置に位置した第一のステージと照射領域の間には、第二のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第一の退避スペースが確保され、第二の基板搭載位置又は第二の基板回収位置に位置した第二のステージと照射領域の間には、第一のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上の第二の退避スペースが確保されており、
基板が照射領域を通過する際の速度として設定通過速度が設定されており、
移動工程において、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第一の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行い、第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動及び照射領域から第二の基板回収位置までの移動について当該移動の速度を設定通過速度に比べて速くする制御を行う方法であり、
移動工程は、第一第二の各ステージが基板を真空吸着して保持した状態で移動を行う工程であり、第一のステージの第一の基板搭載位置から照射領域までの移動の速度と、第二のステージの第二の基板搭載位置から照射領域までの移動の速度は、毎秒300mm以上600mm以下であることを特徴とする光配向方法。 - 前記設定通過速度は一定の速度として設定されたものであり、
前記移動工程において行われる制御は、前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの前記第一のステージの往路移動において、前記第一のステージ上の基板の移動方向前方の縁が照射領域に達するまでに前記第一のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記一方の側に戻すための減速を行う制御であり、
前記移動工程において行われる制御は、前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの前記第二のステージの往路移動において、前記第二のステージ上の基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達するまでの間に前記第二のステージの速度を前記設定通過速度に減速し、当該基板の移動方向前方の縁が前記照射領域に達してから移動方向後方の縁が前記照射領域を通過するまでの間、前記設定通過速度を維持し、当該基板の移動方向後方の縁が前記照射領域を通過した後に前記他方の側に戻すための減速を行う制御であることを特徴とする請求項6記載の光配向方法。 - 前記移動工程において、前記第一のステージが往路移動する際の設定通過速度と前記第一のステージが復路移動する際の設定通過速度は同じ速度であり、前記第二のステージが往路移動する際の設定通過速度と前記第二のステージが復路移動する際の設定通過速度は同じ速度であることを特徴とする請求項7記載の光配向方法。
- 前記移動工程は、前記第一のステージが、前記照射領域を通過した後に一方の側に戻るために第一の反転位置で反転し、前記第二のステージが、前記照射領域を通過した後に他方の側に戻るために第二の反転位置で反転する工程であり、
前記第一のステージが前記照射領域を通過した後に第一の反転位置に達する際の減速と、前記第一のステージが第一の反転位置で反転して前記照射領域に達する際の加速とは、同じ勾配であり、
前記第二のステージが前記照射領域を通過した後に第二の反転位置に達する際の減速と、前記第二のステージが第二の反転位置で反転して前記照射領域に達する際の加速とは、同じ勾配であることを特徴とする請求項8記載の光配向方法。 - 前記移動工程において、
前記第一のステージの前記第一の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記第一のステージの前記照射領域から前記第一の基板回収位置までの移動の速度は、同じ速度であり、
前記第二のステージの前記第二の基板搭載位置から前記照射領域までの移動の速度と、前記第二のステージの前記照射領域から前記第二の基板回収位置までの移動の速度は、同じ速度であり、
前記第一のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第一のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配であり、
前記第二のステージが往路移動において前記照射領域に到達する際の前記設定通過速度への減速と、前記第二のステージが復路移動において前記照射領域を通過した後の前記設定通過速度からの加速は、同じ勾配であることを特徴とする請求項9記載の光配向方法。
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