JP5741056B2 - ガス溶解水の製造装置 - Google Patents
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Description
V・b=Q・a ・・・(1)
従って b=Q・a/V ・・・(2)
b’=Q・a’/V ・・・(3)
となり、目標値bから(b’−b)分だけ乖離することになる。
a’=V・b’/Q ・・・(4)
より薬液貯槽6内の薬液の実際の濃度a’を求め、目標濃度bとするための薬注量Q’を
b=Q’・a’/V ・・・(5)
即ち Q’=V・b/a’ ・・・(6)
にて算出する。そして、Δt時間の薬注量がQ’となるように、すなわち単位時間当りの薬注量がQ’/Δtとなるように薬注ポンプ7を制御する。これにより、薬剤濃度センサ10で検出される薬剤濃度が(5)式の通り高精度にてbに合致したものとなる。従って、このような制御を行うことにより、給水量の変動が大きい場合であって且つ薬液濃度にバラツキがある場合であっても、ガス溶解水中の薬剤濃度の目標濃度からの乖離を小さくすることができる。
2 脱気膜モジュール
4 ガス溶解膜モジュール
10 薬剤濃度センサ
11 制御器
Claims (2)
- ガス透過膜によって内部が液相室と気相室に区画されたガス溶解用の膜モジュールであって、
該液相室に水が供給され、該気相室にガスが供給され、該気体透過膜を経由して該気相室内のガスが該液相室内の水に溶解するガス溶解膜モジュールと、
該膜モジュールからのガス溶解水に薬液を添加する薬液添加手段と、
該薬液添加手段からの薬液添加量を制御する制御手段と
を有するガス溶解水の製造装置において、
該薬液は薬剤の溶液であり、
該ガス溶解膜モジュールへの給水量を検出する給水量検出手段と、薬液が添加されたガス溶解水中の薬剤濃度を検出する濃度検出手段とが設けられており、前記制御手段は、薬液添加量と該濃度検出手段で検出されるガス溶解水中の薬剤濃度とに基いて薬液中の薬剤濃度を検知し、この薬液中の薬剤濃度と該給水量検出手段の検出給水量とに基いて薬液添加手段を制御することを特徴とするガス溶解水の製造装置。 - 請求項1において、薬液添加量と該濃度検出手段で検出されるガス溶解水中の薬剤濃度を定期的に検知して、薬剤濃度と検出給水量との関係を定期的に修正を繰り返して薬剤添加手段を制御することを特徴とするガス溶解水の製造装置。
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