JP5736681B2 - 研磨液及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
(1)磁気ディスク用ガラス基板を製造する際に、最終研磨工程よりも前の研磨工程で使用される研磨液であって、
BET粒径が60nm以上100nm以下であるコロイダルシリカ砥粒と、ノニオン界面活性剤と、水とを含有し、かつ、表面張力が25mN/m以上50mN/m以下であることを特徴とする研磨液。
(2)前記ノニオン界面活性剤が、HLB8以下で、アセチレンジオールまたはアセチレンジオールのアルキレンオキサイド付加物であり、研磨液の0.0005質量%以上の量含有されていることを特徴とする上記(1)記載の研磨液。
(3)無機電解質を含有し、その濃度が10ミリモル/リットル以上120ミリモル/リットル以下であることを特徴とする上記(1)または(2)記載の研磨液。
(4)前記無機電解質が塩酸、硝酸及び硫酸から選ばれる酸のナトリウム塩またはカリウム塩から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(3)記載の研磨液。
(5)pHが9以上12以下であることを特徴とする上記(1)〜(4)の何れか1項に記載の研磨液。
(6)ガラス平板から切り出したガラス円板の主表面を、コロイダルシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する最終研磨工程の前に、
BET粒径が60nm以上100nm以下であるコロイダルシリカ砥粒と、ノニオン界面活性剤と、水とを含有し、かつ、表面張力が25mN/m以上50mN/m以下である研磨液を用いて研磨する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(7)前記研磨液が、前記ノニオン界面活性剤として、HLB8以下で、アセチレンジオールまたはアセチレンジオールのアルキレンオキサイド付加物を、該研磨液の0.0005質量%以上0.1質量%以下の量含有することを特徴とする上記(6)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(8)前記研磨液が無機電解質を含有し、その濃度が10ミリモル/リットル以上120ミリモル/リットル以下であることを特徴とする上記(6)または(7)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(9)前記研磨液が、前記無機電解質として塩酸、硝酸及び硫酸から選ばれる酸のナトリウム塩またはカリウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする上記(8)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(10)前記研磨液のpHが9以上12以下であることを特徴とする上記(6)〜(9)の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
HLB=20〈MH/M〉
(MHは親水基部分の分子量、Mは界面活性剤の分子量である)
蒸留水699.95gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.05g、濃度1モル/リットルのNaNO3水溶液を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は36.5mN/m、pHは9.7であった。
蒸留水699.95gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.05g、濃度1モル/リットルのNaNO3水溶液を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、フジミ(株)製BET粒子径80nmのコロイダルシリカ(製品名CP−80)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は36.4mN/m、pHは10.2であった。
蒸留水699gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を1g添加し、攪拌した。攪拌したまま、濃度1モル/リットルのNaNO3を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は32.4mN/m、pHは9.6であった。
蒸留水699gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を1g添加し、攪拌した。攪拌したまま、濃度1モル/リットルのNaNO3を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、フジミ(株)製BET粒子径80nmのコロイダルシリカ(製品名CP−80)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は33.4mN/m、pHは10.1であった。
蒸留水695gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を5g添加し、攪拌した。攪拌したまま、濃度1モル/リットルのNaNO3を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は31.1mN/m、pHは9.7であった。
蒸留水799.95gに対し、アセチレンジオール(HLB=4)を0.05g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は47.3mN/m、pHは9.2であった。
蒸留水799.995gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.005g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は48.3mN/m、pHは9.1であった。
蒸留水799.95gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.05g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は36.4mN/m、pHは9.1であった。
(研磨液I)
蒸留水799.5gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.5g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径80nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は27.4mN/m、pHは9.1であった。
蒸留水799.995gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.05g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径53.6nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐XL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は36.7mN/m、pHは9.4であった。
蒸留水699.95gに対し、エチレンオキサイドを付加したアセチレンジオール(HLB=8)を0.05g、濃度1モル/リットルのNaNO3水溶液を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径53.6nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐XL)を200g添加して試験スラリーGを調製した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は36.1mN/m、pHは9.5であった。
蒸留水800gを攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径27.3nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐50)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.1であった。
蒸留水800gを攪拌したまま、ルドックス(株)製BET粒子径20.7nmのコロイダルシリカ(製品名HS40)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.3であった。
蒸留水800gを攪拌したまま、触媒化成工業(株)製BET粒子径55.9nmのコロイダルシリカ(製品名PPS45P)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.6であった。
蒸留水800gを攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径53.6nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐XL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.0であった。
蒸留水800gを攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.2であった。
蒸留水700gに対し、濃度1モル/リットルのNaNO3を100g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.7であった。
蒸留水750gに対し、濃度1モル/リットルのNaNO3を50g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.6であった。
蒸留水790gに対し、濃度1モル/リットルのNaNO3を10g添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学工業(株)製BET粒子径85.1nmのコロイダルシリカ(製品名ST‐ZL)を200g添加した。この研磨液のコロイダルシリカ含有量は20質量%、表面張力は72mN/m、pHは9.4であった。
b:外周端面
c:主表面外周部
d:チャンファー面aと主表面外周部cの境界
e:ロールオフ測定領域
g:ロールオフの大きさを定めるための基準線
Claims (10)
- 磁気ディスク用ガラス基板を製造する際に、最終研磨工程よりも前の研磨工程で使用される研磨液であって、
BET粒径が60nm以上100nm以下であるコロイダルシリカ砥粒と、ノニオン界面活性剤と、水とを含有し、かつ、表面張力が25mN/m以上50mN/m以下であることを特徴とする研磨液。 - 前記ノニオン界面活性剤が、HLB8以下で、アセチレンジオールまたはアセチレンジオールのアルキレンオキサイド付加物であり、研磨液の0.0005質量%以上の量含有されていることを特徴とする請求項1記載の研磨液。
- 無機電解質を含有し、その濃度が10ミリモル/リットル以上120ミリモル/リットル以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の研磨液。
- 前記無機電解質が塩酸、硝酸及び硫酸から選ばれる酸のナトリウム塩またはカリウム塩から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項3記載の研磨液。
- pHが9以上12以下であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の研磨液。
- ガラス平板から切り出したガラス円板の主表面を、コロイダルシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する最終研磨工程の前に、
BET粒径が60nm以上100nm以下であるコロイダルシリカ砥粒と、ノニオン界面活性剤と、水とを含有し、かつ、表面張力が25mN/m以上50mN/m以下である研磨液を用いて研磨する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨液が、前記ノニオン界面活性剤として、HLB8以下で、アセチレンジオールまたはアセチレンジオールのアルキレンオキサイド付加物を、該研磨液の0.0005質量%以上0.1質量%以下の量含有することを特徴とする請求項6記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨液が無機電解質を含有し、その濃度が10ミリモル/リットル以上120ミリモル/リットル以下であることを特徴とする請求項6または7記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨液が、前記無機電解質として塩酸、硝酸及び硫酸から選ばれる酸のナトリウム塩またはカリウム塩から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項8記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨液のpHが9以上12以下であることを特徴とする請求項6〜9の何れか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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