JP5499324B2 - 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造のための研磨用コロイダルシリカスラリー、並びに情報記録媒体 - Google Patents
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Description
その製造のための研磨用コロイダルシリカスラリー、磁気記録媒体を提供する。
(1)ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に使われるコロイダルシリカスラリーにおいて、
コロイダルシリカ砥粒が、BET比表面測定法により求められるBET平均粒子径が40nm以下であり、
かつ、
TEM写真で撮影した視野内のコロイダルシリカ砥粒30個についての1個当たりの面積をS、外周の長さをLとしたときに4・π・S/L2で示される円形度の平均値と、前記BET平均粒子径との比「BET平均粒子径(nm)/円形度」で表される平滑度指数が50nm以下であることを特徴とするコロイダルシリカスラリー。
(2)前記コロイダルシリカスラリーのpHが1.5以上2.5以下であることを特徴とする上記(1)記載のコロイダルシリカスラリー。
(3)前記コロイダルシリカスラリーが酸を含み、その酸が塩酸、硫酸、硝酸及び亜硝酸からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする上記(1)または(2)記載のコロイダルシリカスラリー。
(4)前記コロイダルシリカ砥粒が、水ガラス法で作られたものであることを特徴とする上記(1)〜(3)の何れか1項に記載のコロイダルシリカスラリー。
(5)Al2O3−SiO2系ガラス円板の研磨用であることを特徴とする上記(1)〜(4)の何れか1項に記載のコロイダルシリカスラリー。
(6)ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、
前記ラッピング工程後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、
前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、(1)〜(5)の何れか1項に記載のコロイダルシリカスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程と、
を含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(7)前記ガラス円板として、Al2O3−SiO2系ガラス円板を用いることを特徴とする上記(6)記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
(8)上記(6)または(7)に記載の製造方法により得られたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
(9)主表面のRaが0.15nm以下であることを特徴とする上記(8)記載の情報記録媒体用ガラス基板。
(10)上記(8)または(9)に記載の情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体。
フロート法で成形されたシリケートガラス板(モル%表示含有量が、SiO2:67.7%、Al2O3:4.9%、MgO:10.9%、TiO2:4%、Na2O:4.9%、K2O:7.6%であるAl2O3−SiO2系ガラス板)を、外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmのガラス基板が得られるようなドーナツ状ガラス円板(中央に円孔を有するガラス円板)に加工した。なお、内周面および外周面の研削加工はダイヤモンド砥石を用いて行い、ガラス円板上下面のラッピングは酸化アルミニウム砥粒を用いて行った。
(試験スラリーA)
蒸留水1.97Lに対し、硝酸を10.0mL添加し、攪拌した。攪拌したまま、フジミ(株)製コロイダルシリカ(製品名CP20)を1.03L添加して試験スラリーAを調製した。なお、スラリーのpHは1.9であった。
(試験スラリーB)
蒸留水1.97Lに対し、硝酸を14.0mL添加し、攪拌した。攪拌したまま、ルドックス(株)製コロイダルシリカ(製品名HS40)を1.03L添加して試験スラリーBを調製した。なお、スラリーのpHは2.1であった。
(試験スラリーC)
蒸留水1.52Lに対し、硝酸を10.0mL添加し、攪拌した。攪拌したまま、日本化学工業(株)製コロイダルシリカ(製品名SD30)を1.48L添加して試験スラリーCを調製した。なお、スラリーのpHは2.2であった。
(試験スラリーD)
蒸留水2.25Lに対し、硝酸を6.0mL添加し、攪拌した。攪拌したまま、日産化学(株)製コロイダルシリカ(製品名ST50)を0.75L添加して試験スラリーDを調製した。なお、スラリーのpHは2.0であった。
(試験スラリーE)
蒸留水1.52Lに対し、硝酸を10.0mL添加し、攪拌した。攪拌したまま、日本化学工業(株)製コロイダルシリカ(製品名SD30LL)を1.48L添加して試験スラリーFを調製した。なお、スラリーのpHは1.9であった。
Claims (10)
- ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に使われるコロイダルシリカスラリーにおいて、
コロイダルシリカ砥粒が、BET比表面測定法により求められるBET平均粒子径が40nm以下であり、
かつ、
TEM写真で撮影した視野内のコロイダルシリカ砥粒30個についての1個当たりの面積をS、外周の長さをLとしたときに4・π・S/L2で示される円形度の平均値と、前記BET平均粒子径との比「BET平均粒子径(nm)/円形度」で表される平滑度指数が50nm以下であることを特徴とするコロイダルシリカスラリー。 - 前記コロイダルシリカスラリーのpHが1.5以上2.5以下であることを特徴とする請求項1記載のコロイダルシリカスラリー。
- 前記コロイダルシリカスラリーが酸を含み、その酸が塩酸、硫酸、硝酸及び亜硝酸からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または2記載のコロイダルシリカスラリー。
- 前記コロイダルシリカ砥粒が、水ガラス法で作られたものであることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のコロイダルシリカスラリー。
- Al2O3−SiO2系ガラス円板の研磨用であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のコロイダルシリカスラリー。
- ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、
前記ラッピング工程後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、
前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、請求項1〜5の何れか1項に記載のコロイダルシリカスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程と、を含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス円板として、Al2O3−SiO2系ガラス円板を用いることを特徴とする請求項6記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 請求項6または7に記載の製造方法により得られたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
- 主表面のRaが0.15nm以下であることを特徴とする請求項8記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項8または9に記載の情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体。
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