JP5711703B2 - Euv用ペリクル - Google Patents
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Description
従来、EUV用ペリクル膜の材料については種々の問題があり、特に有機材料はEUV光を透過せず、分解したり劣化したりするという問題がある。EUV光の波長帯に対して完全な透明性を有する材料は存在しないが、比較的透明な材料としてシリコン製の薄膜が開示されている(特許文献1、非特許文献1)。
例えば、SOI(Silicon On Insulator)を用いるEUV用ペリクルが提案されており、該ペリクルは、EUV用ペリクル膜を補強するためのハニカム構造としてメッシュ構造を有してしている(特許文献2)。
このメッシュ構造部分はEUV光を透過しないため、EUV用ペリクルを通過するEUV光の減衰を最小限に抑えるには、メッシュ構造の開口率を高くしなければならない。しかしながら、上記のようにしてEUV用ペリクル膜の強度を向上させると、メッシュ構造の開口率が低下することになる。
ここで、メッシュの高さがメッシュ構造の開口率に影響を与える理由は、EUVステッパー内では、光がペリクル面の垂直方向に対して4°〜6°の角度で傾斜してEUV用ペリクルに入射するため、メッシュの高さによって影のできかたが変化するからである。
したがって、上記の各因子を考慮した上で、極力マスクに到達する光量を低下させることなくEUV用ペリクルの強度を改善することのできる構造が求められていた。
本発明は、メッシュ形状の構造物によって補強されたEUV透過膜を有するEUV用ペリクルであって、前記メッシュ形状の構造物の縦断面形状(高さ方向断面形状)が、EUV透過膜から離れるに従って先細る形状であることを特徴とするEUV用ペリクルである。
EUVレチクルの一往復で、EUVレチクルは初めの位置に戻り次の露光が開始されるので、EUVレチクルは往復運動を繰り返す。
このように、EUVレチクルの往復運動の時間が短縮されると、EUVレチクルにかかる加速度は6G〜10Gに達するので、このように大きな加速度に耐え得るように、EUV用ペリクルを設計する必要がある。
なお、本発明における入射角度とは、EUVマスク面(EUV透過膜面と平行であるとして取り扱う。)に対する光の入射角度であり、傾斜角(θ)は、補強構造における先細り形状の傾斜とEUV透過膜表面に立てた垂線とがなす角である。
実際のEUV露光機においては、照明光はある程度の広がり角度をもってEUVマスクに照射されるため、一定角度の光束に対してプラス方向、マイナス方向の角度差が発生するが、上記した代表的な光束によって表現しても差し支えは生じない。
メッシュ形状の構造物の製造は、例えばレジストの透過率を調整したリソグラフィー技術やRIE(Reactive Ion Etching)技術における深さ方向の速度差を利用する技術、あるいは、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術等の公知の技術により製造される。
直径200mm、厚さ725μmのシリコン基板のハンドル基板上に、COP(Crystal Originated Particle)等の、実質的に結晶欠陥が少ないシリコン単結晶(Nearly Perfect Crystal:NPC)からなる厚さ100nmの薄膜が、厚さ150nmの熱酸化膜(SiO2)を介して貼り付けられているSOI(Silicon On Insulator)基板を用いて、以下の通り、EUV用ペリクル膜を製造した。
ハニカム単位の6角形の各々の内角において曲線を有するハニカム構造を作り込んだ。
該ハニカム構造におけるピッチは200μm、ハニカム辺幅は25μm、ハニカム辺の高さは75μmであった。
次いで、HF処理してBOX(Buried Oxide)膜を除去し、EUV用ペリクル膜とした。
このEUV用ペリクル膜の支持ハニカムの縦断面の傾斜角度は1°であった。
比較例1と同様の方法でEUV用ペリクル膜を作製した。このEUV用ペリクル膜の支持ハニカムの縦断面の傾斜角度は3.5°であった。
比較例1と同様の方法でEUV用ペリクル膜を作製した。このEUV用ペリクル膜の支持ハニカムの縦断面の傾斜角度は8.5°であった。
<EUV透過率測定試験>
得られた6種類のEUV用ペリクルを入射光に対して6°の角度(EUV用ペリクル膜への入射角度が6°)をなすようにEUV 透過率測定装置にセットし、真空吸引してからEUV光を照射してEUV用ペリクルの透過率を測定した。結果を表1に示す。
振動試験用の透明なアクリルボックスに、前記6種類のEUV用ペリクルのフレームを両面テープで固定した。次に、EUV用ペリクルのフレームを固定したアクリルボックスを振動試験機の振動台にセットし、アクリルボックス内をロータリー真空ポンプで真空排気しながら、振動台に正弦波振動をかけた。
正弦波振動の加速度を増加させながら振動を継続させEUV用ペリクル膜が破損する加速度を測定した。結果を表1に示す。
比較例1と同様の方法で、ハニカムの縦断面の傾斜角の角度が無い(ハニカムの縦断面の形状が矩形;図5参照)ハニカムを作製し、比較例1と同様の方法でEUV用ペリクルとした後に、透過率の測定と振動試験を行った。その結果、透過率は79.8%、破断加速度は26Gであった。
実施例1〜3の本発明のEUV用ペリクルは、比較例1−4のものに比べ振動及び透過率の総合評価において改善されていることが確認された。
2 メッシュ
3 EUVマスク
4 EUV光の光束
A,B 照射部位
A’,B’ メッシュの開口部
Claims (2)
- メッシュ形状の構造物によって補強されたEUV透過膜を有するEUV用ペリクルであって、前記メッシュ形状の構造物の縦断面形状がEUV透過膜から離れるに従って先細る、先細り形状であると共に、該先細り形状の傾斜角の角度が、照明光のEUV透過膜への入射角度×(1±0.3)の範囲であることを特徴とするEUV用ペリクル。
- 前記傾斜角の角度が、照明光のEUV透過膜への入射角度±2°の範囲である、請求項1に記載されたEUV用ペリクル。
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