JP5683146B2 - 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
空気中に対し、基材屈折率ngに対し、屈折率ncが、
nc=√ng (式1)
である低屈折率材料を、波長λの光に対しλ/4の光学膜厚でコーティングすることで反射率は理論上ゼロとなる。
この場合、反射率をゼロとするためには、屈折率ncが、
nc=√nd(BK7)=√1.52=1.23 (式2)
である必要がある。
n=nA×p+nB×(1−p)=nB−p×(nB−nA) (式3)
で表される。ここでpは多孔度(porosity)である。
n=nB−p×(nB−1) (式4)
となり、多孔度pのときのバルク屈折率nBの材料が示す屈折率に他ならない。
フッ化マグネシウム(MgF2)より低屈折率を呈する材料として、フッ化アルミニウム(AlF3)とフッ化ナトリウム(NaF)との複合物が知られている。いくつかの結晶形が知られているが、ヘキサフルオロアルミン酸ナトリウム(3NaF・AlF3)nd=1.339が代表例として挙げられる。
また、本発明は不均化反応を用いた低屈折率の光学膜の製造方法を提供するものである。
また、本発明によれば、不均化反応を用いた低屈折率の光学膜の製造方法を提供することができる。
本発明に係る光学膜は、少なくともLi元素と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の元素とを含有するフッ化物からなるフッ化物層を有することを特徴とする。
多孔質において用いる波長λに対し、1/10以下好ましくは1/20以下の孔径あるいは粒径の粒子状物質から成る場合、見かけ上透明な膜となる。孔径が用いる波長の1/10より大きい場合は白濁といった問題が生じる。
本発明の光学膜は多孔度pによって、その特徴を表すことが出来る。多孔度pは膜を形成する材料の屈折率nBに対し、得られた膜の屈折率nによって求められる。
p=(nB−n)/(nB−1) (式5)
多孔度は10%から90%が好ましく、より好ましくは20%から80%である。多孔度が90%を越える場合、得られる光学膜の膜強度が著しく低下する。
る酸化ケイ素バインダーを塗布、硬化することで膜強度を向上することができる。
本発明は、少なくともLi元素と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の元素を含有するフッ化物からなる光学膜を用いることで、低屈折率を実現することが可能となり、優れた低反射および入射角特性といった反射防止効果を有する反射防止膜、およびそれを有する光学部品が得られる。
一般式(1)中、x、y、zは任意の値でもよいが、具体的には、y+z=1を基準とすると、yおよびzは任意の組み合わせが可能であり、xは0.1以上2以下が好ましい。wはx+2y+3zを越えない範囲が好ましい。
フッ素量はLi、Mg、Alの元素比によって異なる。最大にフッ素化される場合として、AlF3および2LiFの組み合わせから、(Li2Al)F5となる。熱分解によるフッ化物の場合、フッ素比率は予想される数値より小さくなる場合がある。
M−X−F → M−F + X
で表される。ここでXは反応残渣あるいは未反応基を表す。
本発明の光学膜の製造方法は、不均化反応により、下記の2つの方法により行なわれる。
る光学膜の製造方法。
CF3基を有する例として、フッ化カルボン酸塩、フッ化アセチルアセトナートあるいはフッ化アルコキシド類が挙げられる。
(CH3COO)2Mg+2CF3COOH→(CF3COO)2Mg+2CH3COOH (1)
Mg(C2H5OH)+2CF3COOH→(CF3COO)2Mg+C2H5OH
(2)
Mg+2CF3COOH→(CF3COO)2Mg+H2 (3)
Li、Mg、Alの含フッ素前駆体の混合物を作成した後、不均化反応させることで、任意組成のフッ化物(LixMgyAlz)Fwが得られる。
せて得られたフッ化カルボン酸金属塩を溶媒に溶解して含フッ素前駆体を得る工程で得られた前記含フッ素前駆体を、基材に塗布、加熱することにより得られる。
前記含フッ素前駆体を有機溶剤に溶解した後、基材上に塗布することで成膜される。塗布膜を形成する方法として、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ならびにこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、塗布溶液の濃度を変えることにより制御することが可能である。
いずれの場合も加熱による不均化反応後の膜厚dが、設計波長λにおける光学膜厚λ/4の整数倍となるように、塗布膜の膜厚は調整される。
少なくともLi元素と、MgあるいはAlから選ばれた元素とを含有するフッ化物が、酢酸塩とトリフルオロ酢酸を溶媒中に溶解、あるいはトリフルオロ酢酸塩を溶媒に溶解し、基材に塗布した後、不均化反応させることで、フッ化物に転化し、少なくともLi元素と、MgあるいはAlから選ばれた元素とを含有するフッ化物からなる光学膜が形成される。
不均化する工程における雰囲気中にフッ素化合物を増やすために、塗布液中に更にフッ
素化合物を添加することも有効である。添加されるフッ素化合物として、フッ化カルボン酸あるいはフッ化アルコール類が挙げられる。
F−X−M → F−M + X
ここで、(A)加熱によりフッ素原子が外れること、(B)該フッ素原子がM−X間の結合を切断し、(C)M−Fになる反応が進行する。
ポリシラザンとして、実質的に有機基を含まないポリシラザン(ペルヒドロポリシラザン)、アルキル基、アルケニル基、アリール基、シクロアルキル基、またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部を置換基で置換した基がケイ素原子に結合したポリシラザン、アルコキシ基などの加水分解性基がケイ素原子に結合したポリシラザン、窒素原子にアルキル基などの有機基が結合したポリシラザンなどが挙げられる。
系化合物あるいは金属触媒およびその化合物が触媒として用いられる。
少なくともLi元素と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の元素を含有するフッ化物層上に塗布する、酸化ケイ素前駆体を含む溶液は、シリカ換算で0.001≦SiO2≦0.1の範囲、特に0.005≦SiO2≦0.05の範囲がより好ましい。SiO2<0.001では、バインダーとしての前駆体量が十分でなく、得られる膜の強度が十分でなく、SiO2>0.1では強度は増すものの、屈折率が高くなる。
(i)前駆体溶液の作成
〔LiF前駆体溶液の作成〕
酢酸リチウム(キシダ化学株式会社製)1.7質量部、イソプロピルアルコール30質量部に対し、トリフルオロ酢酸7.5質量部を少しずつ加え、LiF前駆体用塗料を作成
した。
酢酸マグネシウム(キシダ化学株式会社製)2.7質量部、イソプロピルアルコール30質量部に対し、トリフルオロ酢酸7.5質量部を少しずつ加え、MgF2前駆体用塗料を作成した。
アルミニウムsec−ブトキシド(キシダ化学株式会社製)5質量部、イソプロピルアルコール30質量部に対し、トリフルオロ酢酸14質量部を少しずつ加え、AlF3前駆体用塗料を作成した。
酢酸ナトリウム(キシダ化学株式会社製)2質量部、イソプロピルアルコール6質量部に対し、トリフルオロ酢酸10質量部を少しずつ加え、NaF前駆体用塗料を作成した。
〔屈折率の測定〕
分光エリプソメーター(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)、M−2000D)を用いて、波長190から1000nmの範囲で偏光解析により、屈折率および膜厚の解析を行なった。屈折率の値を表1に示す。なお表中、屈折率に()が付いているものは、作成した光学膜がクモリを生じているため、正確性に欠けると判断し、参考値として掲載した。
純水で拭き取りを行うことで、作成した光学膜の潮解性を評価した。
○:拭き取り前後で反射率の変化がない。
△:拭き取り前後で反射率変動が認められる。
×:拭き取り後、膜が溶解してしまっている。
作成した光学膜に、ランプの光を通して、クモリが生じていないか、目視により判定をおこなった。
○:クモリが認められない。
×:クモリが認められる。
光学膜の強度評価として、清浄化した手袋で触った場合を試験し、痕跡が残る場合を(×)、痕跡が認められない場合を(○)と判断した。その結果を表2に示す。
光学膜の強度評価として、、250g/cm2の圧力で10回拭いた場合を実施し、痕跡が残る場合を(×)、痕跡が認められない場合を(○)と判断した。その結果を表2に示す。
上記の試験の結果、下記の判定をおこなった。
◎:屈折率が低く、強度が非常に優れる。
○:屈折率が低く、強度に優れる。
×(1):屈折率が高い。
×(2):強度不足。
光学膜を形成する材料のバルク屈折率nBより算出される屈折率と、作成した光学膜の屈折率nを(式5)に従い算出することで多孔度を求める。
n=nBx・x/(x+y+z)+nBy・y/(x+y+z)+nBz・z/(x+y+z)
ここでnBx、nBy、nBzはLiF、MgF2、AlF3の屈折率を表し、
nBx=1.30
nBy=1.38
nBz=1.38
である。
LiF前駆体溶液およびMgF2前駆体溶液をLi/Mg=0.1となるよう調合し、コーティング用塗料を調製した。
前記ガラス基板に前記コーティング用塗料をスピンコートした後、ホットプレートで加熱(300℃)することで不均化反応を行い、屈折率1.29となる低屈折率を示す多孔質膜からなる光学膜を得た。
コーティング用塗料の組成比をLi/Mg=0.2(実施例2)、0.3(実施例3)、0.5(実施例4)、1.0(実施例5)、1.5(実施例6)、2.0(実施例7)となるよう調製した以外は実施例1と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成をLi/Alとした以外は、実施例1から8と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をLi/Mg/Al(但し、Mg/Al=0.8/0.2)とした以外は、実施例1から8と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をLi/Mg/Al(但し、Mg/Al=0.5/0.5)とした以外は、実施例1から8と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をLi/Mg/Al(但し、Mg/Al=0.2/0.8)とした以外は、実施例1から8と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をMgF2前駆体溶液のみとした以外は実施例1と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料をAlF3前駆体溶液のみとした以外は実施例1と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をMg/Al=0.8/0.2となるよう調製した以外は実施例1と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をMg/Al=0.5/0.5となるよう調製した以外は実施例1と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成比をMg/Al=0.2/0.8となるよう調製した以外は実施例1と同様にサンプルを作成、評価を行った。
コーティング用塗料の組成をNa/Mgとした以外は、実施例1から7と同様にサンプルを作成、評価を行った。
テトラメトキシシラン(キシダ化学(株))1.329質量部、エタノール1.18質量部を混合する。塩酸(37%)0.03質量部、水1.34質量部、エタノール1.18質量部を混合した触媒溶液を、前記溶液を攪拌しながら滴下、混合し、室温で1時間攪拌した後、イソプロピルアルコール100質量部を追加し、シリカ換算で0.005となるように、オーバーコート液を調製した。
実施例19と同じ方法で作成した光学膜の上に、実施例1と同じスピン条件で上記オーバーコート液を塗布、200℃で加熱することで光学膜を形成した。
テトラメトキシシラン13.29質量部、エタノール11.8質量部を混合する。塩酸(37%)0.3質量部、水13.4質量部、エタノール11.8質量部を混合した触媒溶液を、前記溶液を攪拌しながら滴下、混合し、室温で1時間攪拌した後、イソプロピルアルコール500質量部を追加し、シリカ換算で0.01となるように、オーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
テトラメトキシシラン13.29質量部、エタノール11.8質量部を混合する。塩酸(37%)0.3質量部、水13.4質量部、エタノール11.8質量部を混合した触媒溶液を、前記溶液を攪拌しながら滴下、混合し、室温で1時間攪拌した後、イソプロピルアルコール130質量部を追加し、シリカ換算で0.03となるように、オーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
テトラメトキシシラン13.29質量部、エタノール11.8質量部を混合する。塩酸(37%)0.3質量部、水13.4質量部、エタノール11.8質量部を混合した触媒溶液を、前記溶液を攪拌しながら滴下、混合し、室温で1時間攪拌した後、イソプロピルアルコール54質量部を追加し、シリカ換算で0.05となるように、オーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン(アクアミカNN320−20、AZエレクトロニックマテリアルズ(株))1質量部、ジ−n−ブチルエーテル(キシダ化学(株)199質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)0.15質量部を混合し、シリカ換算で0.001となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン2質量部、ジ−n−ブチルエーテル198質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)0.3質量部を混合し、シリカ換算で0.002となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン5質量部、ジ−n−ブチルエーテル195質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)0.75質量部を混合し、シリカ換算で0.005となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン10質量部、ジ−n−ブチルエーテル188.5質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)1.5質量部を混合し、シリカ換算で0.01となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン15質量部、ジ−n−ブチルエーテル183質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)2質量部を混合し、シリカ換算で0.
015となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン20質量部、ジ−n−ブチルエーテル177質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)3質量部を混合し、シリカ換算で0.02となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン50質量部、ジ−n−ブチルエーテル142.5質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)7.5質量部を混合し、シリカ換算で0.05となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン100質量部、ジ−n−ブチルエーテル85質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)15質量部を混合し、シリカ換算で0.1となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、実施例36と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
ポリシラザン150質量部、ジ−n−ブチルエーテル30質量部、酢酸パラジウム(II)ジ−n−ブチルエーテル(濃度0.1質量%)20質量部を混合し、シリカ換算で0.151となるように、ポリシラザンオーバーコート液を調製した以外は、比較例1と同様にサンプルを作成、評価をおこなった。
酢酸マグネシウム4水和物3.45質量部をメタノール48.3質量部に溶解した。フッ化水素酸水溶液(濃度50%)1.29質量部をメタノール50質量部で希釈した後、前記酢酸マグネシウムメタノール溶液に、攪拌しながらに滴下することで、フッ化マグネシウム微粒子を含有するフッ化マグネシウムゾル溶液を合成する。
上記熱処理したフッ化マグネシウムゾルを濃縮したのち、イソプロピルアルコールで希釈することで塗布液を作成した。塗布液を実施例1と同様にコーティング用基板にスピンコートすることで成膜し、200℃で乾燥することで光学膜を作成、評価をおこなった。
以上の結果を表2に示す。
図1は、本発明の実施例18の光学膜の有無による分光反射率の結果を示す図である。測定にはレンズ反射率測定機(オリンパス(株)、USPM−RU)用い、入射角0度(垂直入射)における反射率を示す。本発明の光学膜のコートの無い石英からなる基板が3.5%の反射率であるのに対し、実施例18の光学膜は、屈折率1.24の低屈折率であるため、波長500から550nmの光に対する反射率は0.1%以下の低反射を示すことが判る。
実施例42と比較例1のサンプルを用いて高温高湿環境(60℃、90RH%、200時間)での光学膜の安定性試験をおこなった。その結果を図2および図3に示す。図2は、本発明の実施例42の高温高湿試験前後での分光反射率を示す。図3は、比較例1の高温高湿試験前後での分光反射率を示す。
Claims (4)
- 少なくともLi金属と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の金属の金属酢酸塩または金属アルコキシドと、トリフルオロ酢酸とを溶媒中で反応させてフッ化カルボン酸金属塩を含有する含フッ素前駆体を得る工程、前記含フッ素前駆体を基材に塗布した後、加熱して、少なくともLi元素と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の元素とを含有するフッ化物を有するフッ化物層を形成する工程を有することを特徴とする光学膜の製造方法。
- 少なくともLi金属と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の金属と、トリフルオロ酢酸とを反応させて得られたフッ化カルボン酸金属塩を溶媒に溶解して含フッ素前駆体を得る工程、前記含フッ素前駆体を基材に塗布した後、加熱して、少なくともLi元素と、MgおよびAlから選ばれる少なくとも1種の元素とを含有するフッ化物を有するフッ化物層を形成する工程を有することを特徴とする光学膜の製造方法。
- 前記フッ化物層の上に、酸化ケイ素前駆体を含む溶液を塗布した後、加熱処理して酸化ケイ素バインダー層を形成する工程を有することを特徴とする請求項1または2に記載の光学膜の製造方法。
- 光学膜を有する光学素子の製造方法であって、
前記光学膜は、請求項1乃至3のいずれか一項の光学膜の製造方法で製造されたことを特徴とする光学素子の製造方法。
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